專利名稱：有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法，并且更具體地，涉及這樣一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法，在該有機發(fā)光顯示裝置中，交替堆疊有機膜和無機膜，并且對無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑(outgassing route)，通過該脫氣路徑從有機膜中釋放氣體。
背景技術(shù)：
已經(jīng)對作為信息通信中的核心技術(shù)、通過屏幕來實現(xiàn)各種類型的信息的圖像顯示裝置進行了開發(fā)，使得圖像顯示裝置更薄、更輕、便攜并高性能。對從有機發(fā)光層發(fā)出的光量進行控制以顯示圖像的有機發(fā)光顯示裝置，作為重量和體積小于陰極射線管的平板顯示裝置，已備受矚目。有機發(fā)光顯示裝置是一種使用電極之間的薄發(fā)光層的自發(fā)光裝置，并且具有如下優(yōu)點:該有機發(fā)光顯示裝置能夠薄如紙?？蓪⒂袡C發(fā)光顯示裝置分類為有源矩陣型有機發(fā)光顯示裝置或無源矩陣型有機發(fā)光顯示裝置，有源矩陣型有機發(fā)光顯示裝置可由每個像素的單元驅(qū)動單元(cell driving unit)來選擇性地驅(qū)動，無源矩陣型有機發(fā)光顯示裝置可針對每條線而被控制。在有源矩陣型有機發(fā)光顯示裝置(AMOLED)中，以矩陣圖案布置表現(xiàn)三種顏色(R、G和B)的多個像素以顯示畫面。每個像素包括有機發(fā)光二極管(OLED)和用于驅(qū)動該有機發(fā)光二極管的單元驅(qū)動單元。單元驅(qū)動單元對有機發(fā)光二極管的陽極進行驅(qū)動，所述單元驅(qū)動單元包括至少兩個薄膜晶體管，所述至少兩個薄膜晶體連接在提供掃描信號的選通線、提供視頻數(shù)據(jù)信號的數(shù)據(jù)線與提供公共電源信號的公共電源線之間。有機發(fā)光二極管包括陽極、空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、發(fā)光層、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(EIL)以及陰極。同時，通過沉積保護薄膜晶體管陣列的無機絕緣膜、對該無機絕緣膜進行平坦化的有機平坦化膜、以及在形成有機發(fā)光二極管之前穩(wěn)固表面或具有光學補償功能的無機絕緣膜，來配置有機發(fā)光顯示裝置。在長時間段驅(qū)動有機發(fā)光顯示裝置期間，從無機絕緣膜之間的有機膜中發(fā)生脫氣。然而，當氣體殘留在有機膜中時，二極管劣化，結(jié)果是加速了收縮(shrinkage)現(xiàn)象，在所述收縮現(xiàn)象中，每個像素的尺寸被減小，這可能致命地影響二極管的壽命。如上所述的傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置具有如下問題。在有機膜和無機膜交替堆疊的結(jié)構(gòu)中，有機膜與無機膜之間的界面處的緊密接觸很低，結(jié)果是，在長時間段的可靠性測試或驅(qū)動期間，可能在有機膜中發(fā)生脫氣。在脫氣期間，氣體可能殘留在有機膜中以使二極管劣化并隨著時間的推移加速二極管的尺寸被減小的收縮現(xiàn)象，通過該收縮現(xiàn)象，大大減少了 二極管的壽命
發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明針對一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法，其基本上消除了由于現(xiàn)有技術(shù)的限制和缺點而導致的一個或更多個問題。各種實施方式提供了一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法，在所述有機發(fā)光顯示裝置中，有機膜和無機膜交替堆疊，并且對所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑，通過該脫氣路徑從所述有機膜中釋放氣體。本發(fā)明的額外優(yōu)點、目的和特征將在下面的說明書中部分闡述，并且部分對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言在研讀下文后將變得明顯，或可以通過對本發(fā)明的實踐來獲知?？赏ㄟ^在書面的說明書及其權(quán)利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點。在各種實施方式中，提供了一種有機發(fā)光顯示裝置。所述有機發(fā)光顯示裝置可包括:單元驅(qū)動單元，所述單元驅(qū)動單元具有在基板上(例如，以矩陣形式)的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個晶體管(例如，薄膜晶體管)；絕緣堆疊單元，所述絕緣堆疊單元包括在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中在所述基板上彼此上下地形成的有機膜和無機膜，其中，對所述絕緣堆疊單元的與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑；以及有機發(fā)光二極管，所述有機發(fā)光二極管通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單元。在各種實施方式中，所述有機發(fā)光顯示裝置還可包括:堤岸(bank)，所述堤岸在所述脫氣路徑的區(qū)域中在所述絕緣堆疊單元上形成。在各種實施方式中，所述堤岸通過所述脫氣路徑接觸所述絕緣堆疊單元的所述有機膜。在各種實施方式中，所述有機發(fā)光顯示裝置還可包括另外的有機膜，其中，將所構(gòu)圖的無機膜布置在所述有機膜與所述另外的有機膜之間，其中，所述有機膜和所述另外的有機膜通過所述脫氣路徑彼此接觸。在各種實施方式中，所述絕緣堆疊單元的所述有機膜包括從黑底層、濾色器層、平坦化膜以及中間層中選擇的任何一個。在各種實施方式中，所述絕緣堆疊單元的所述有機膜包括從聚酰亞胺、聚酰胺、丙烯酸樹脂、彩色顏料材料以及黑色樹脂材料中選擇的至少一種材料。在各種實施方式中，對所構(gòu)圖的無機膜進行構(gòu)圖以在所述無機膜的同一層中形成一個或更多個脫氣路徑。在各種實施方式中，所述有機發(fā)光顯示裝置還可包括至少一個另外的無機膜，其中，對所述無機膜和所述另外的無機膜進行構(gòu)圖以在不同的無機膜中形成一個或更多個脫氣路徑。在各種實施方式中，所述絕緣堆疊單元的所述無機膜由氮化物、氧化物或氧氮化物形成。在各種實施方式中，所述有機發(fā)光二極管包括:第一電極，所述第一電極通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單元，以在所述像素中的每一個處形成所述第一電極；有機發(fā)光層，所述有機發(fā)光層形成在所述第一電極上；以及第二電極，所述第二電極形成在所述有機發(fā)光層上。在各種實施方式中，一種有機發(fā)光顯示裝置的制造方法可以包括如下步驟:在基板上形成單元驅(qū)動單元，所述單元驅(qū)動單元具有矩陣模式的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個晶體管；通過彼此上下地堆疊有機膜和無機膜，在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中在所述基板上形成至少一個絕緣堆疊單元；對所述絕緣堆疊單元的、與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑；以及形成有機發(fā)光二極管，所述有機發(fā)光二極管通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單元。在各種實施方式中，所述制造方法還可包括如下步驟:在包括所述脫氣路徑的區(qū)域中在所述絕緣堆疊單元上形成堤岸。在各種實施方式中，形成所述絕緣堆疊單元的步驟和形成所述脫氣路徑的步驟可包括如下步驟:在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中在所述基板上形成第一有機膜；在所述第一有機膜上形成第一無機膜；以及對與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述第一無機膜進行構(gòu)圖以形成第一脫氣路徑。在各種實施方式中，當對所述第一無機膜進行構(gòu)圖以形成所述第一脫氣路徑時，甚至在所述第一無機膜下面的第一有機膜的厚度部分(thickness portion)可被過蝕刻(over-etched)。在各種實施方式中，所述制造方法還可包括如下步驟:在包括所述第一脫氣路徑的所述第一無機膜上形成第二有機膜。在各種實施方式中，所述制造方法還可包括如下步驟:在所述第二有機膜上形成第二無機膜并且對所述第二無機膜進行構(gòu)圖以形成第二脫氣路徑。


附圖被包括以提供對本發(fā)明的進一步理解，并且被并入到本申請中且構(gòu)成本申請的一部分，附圖例示了本發(fā)明的(多個)實施方式，并且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中:圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的像素的平面圖；圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第一實施方式的截面圖；圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第二實施方式的截面圖；圖4A到圖4E是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法的截面圖；以及圖5A到圖5F是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法的截面圖。
具體實施例方式現(xiàn)在將詳細參考本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，在附圖中例示了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式的示例。在可能的情況下，將貫穿附圖使用相同的附圖標記來指代相同的或相似的部件。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的像素的平面圖。在如圖1所示的根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置中，由選通線101和數(shù)據(jù)線102來限定像素區(qū)域。在該像素區(qū)域中限定包括有機發(fā)光二極管的像素單元1100，并且在像素單元1100的附近限定用于驅(qū)動該像素單元1100的單元驅(qū)動單元1200。從結(jié)構(gòu)上說，單元驅(qū)動單元1200是這樣的區(qū)域,在該區(qū)域處,堤岸(未示出，參見圖2的160)用于劃分像素單元1100。除了選通線101和數(shù)據(jù)線102之外，在單元驅(qū)動單元1200處形成至少一個薄膜晶體管和驅(qū)動電源線。此外，薄膜晶體管中的一個(即，驅(qū)動薄膜晶體管)連接到有機發(fā)光二極管的第一電極(陽極)。在根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置中，以至少一對的方式交替設(shè)置有機膜和無機膜，其中通過構(gòu)圖將無機膜的、與單元驅(qū)動單元1200相對應(yīng)的一部分去除以形成脫氣路徑，由此防止氣體殘留在有機膜中。結(jié)果，在驅(qū)動或可靠性測試期間，雖然在有機膜中發(fā)生了脫氣，但是通過該脫氣路徑釋放了氣體。具體地說，氣體并未被釋放到像素單元1100而是被引導到單元驅(qū)動單元1200，由此防止了像素單元1100的收縮。在下文中，將詳細描述根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的脫氣原理。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第一實施方式的截面圖。在圖2所示的根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第一實施方式中，為簡單起見，省略了除驅(qū)動薄膜晶體管的漏極110之外在基板100上形成的單元驅(qū)動單元的下部構(gòu)成。如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第一實施方式包括:單元驅(qū)動單元，該單元驅(qū)動單元具有以矩陣模式在基板100上的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個薄膜晶體管(除驅(qū)動薄膜晶體管之外還可包括開關(guān)薄膜晶體管)；絕緣堆疊單元SI，該絕緣堆疊單元通過在包括單元驅(qū)動單元的基板100上交替堆疊有機膜130和無機膜150至少一次而形成；脫氣路徑150a，該脫氣路徑通過對絕緣堆疊單元SI的、與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的無機膜150進行構(gòu)圖(例如，由此形成一個或更多個孔(例如，穿過無機膜150的通孔))而形成；堤岸160，該堤岸形成在包括脫氣路徑150a的絕緣堆疊單元SI上；以及有機發(fā)光二極管(0LED)，該有機發(fā)光二極管通過絕緣堆疊單元SI連接到單元驅(qū)動單元。有機發(fā)光二極管(OLED)包括:第一電極140，該第一電極通過絕緣堆疊單元SI和位于絕緣堆疊單元SI下面的鈍化膜120連接到單元驅(qū)動單元，以在多個像素中的每一個處形成第一電極140 ;有機發(fā)光層170,該有機發(fā)光層形成在第一電極140上；以及第二電極180，該第二電極形成在有機發(fā)光層170上。例如在堤岸160之間在每個像素處形成有機發(fā)光層170。有機發(fā)光層可包括紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層以及藍色發(fā)光層。在有機發(fā)光層170與第一電極140之間和有機發(fā)光層170與第二電極180之間，還可形成空穴傳輸層或電子傳輸層。同時，通過去除絕緣堆疊單元SI的有機膜130的厚度部分以及無機膜150來形成脫氣路徑150a。然而，這種現(xiàn)象是由于無機膜150的構(gòu)圖期間的過蝕刻而發(fā)生的，因此，本發(fā)明不限于此?？烧{(diào)整蝕刻速率和蝕刻氣體以僅對無機膜150選擇性地構(gòu)圖，以暴露有機膜130的表面部分。脫氣路徑150a用作這樣的通道，通過該通道，絕緣堆疊單元SI的有機膜130直接地(換言之，物理地)接觸由有機材料形成的堤岸160。也就是說，當在絕緣堆疊單元SI的有機膜130中發(fā)生脫氣時，氣體通過脫氣路徑150a被釋放，由此防止了由于該氣體導致的像素單元的劣化。在該實施方式中，一層有機膜和一層無機膜被堆疊；但是，本發(fā)明不限于此?？山惶娴囟询B多個有機膜和多個無機膜。在此情況下，可在與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的預(yù)定區(qū)域處在不同無機膜處形成脫氣路徑，以通過脫氣路徑平穩(wěn)地釋放氣體。在此情況下，在絕緣堆疊單元Si的所構(gòu)圖的無機膜上面和下面的有機膜通過該脫氣路徑相互接觸。
例如，絕緣堆疊單元SI的有機膜130可以是除包括在有機發(fā)光顯示裝置中的有機發(fā)光層之外的任何有機膜。例如，絕緣堆疊單元SI的有機膜130可以是平坦化膜、層間絕緣層、或針對特定功能添加的有機膜。絕緣堆疊單元SI的有機膜130可包括從聚酰亞胺、聚酰胺、丙烯酸樹脂、彩色顏料材料以及黑色樹脂材料中選擇的至少一種。此外，可在無機膜150的同一層中形成一個或更多個脫氣路徑150a。此外，可由氮化物(例如，氮化硅)、氧化物(例如，二氧化硅)或氮氧化物(例如，氮氧化硅)形成絕緣堆疊單元SI的無機膜150。圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第二實施方式的截面圖。圖3所示的根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第二實施方式與圖2所示的根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第一實施方式不同之處在于:沒有在每個像素處形成有機發(fā)光層，通常實現(xiàn)白光發(fā)射，并且濾色器層設(shè)置在下陣列(lower array)側(cè)以實現(xiàn)彩色顯示。也就是說，如圖3所示，根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的第二實施方式包括:單元驅(qū)動單元，該單元驅(qū)動單元具有以矩陣模式在基板200上的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個薄膜晶體管(除驅(qū)動薄膜晶體管之外還可包括開關(guān)薄膜晶體管)；絕緣堆疊單元S2,該絕緣堆疊單元包括形成在包括單元驅(qū)動單元的基板200上的無機鈍化膜260、有機平坦化膜280以及光學補償無機膜290 ;脫氣路徑290a，該脫氣路徑通過對絕緣堆疊單元S2的、與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的光學補償無機膜290進行構(gòu)圖形成；堤岸320，該堤岸形成在包括脫氣路徑290a的絕緣堆疊單元S2上；以及有機發(fā)光二極管(0LED)，該有機發(fā)光二極管通過絕緣堆疊單元S2連接到單元驅(qū)動單元。這里，無機鈍化層260由諸如SiOx、SiNx或SiOx/SiNx的堆疊的無機材料制成。并且無機鈍化層260的厚度的范圍可在從大約300nm到大約400nm的范圍中。有機平坦化膜280可由諸如PI (聚酰亞胺)、PA (聚丙烯)或正光阻(positive photoresistive)的有機材料制成。并且有機平坦化膜280的厚度的范圍是從大約1.5 μ m到大約2.5 μ m。光學補償無機膜290可由諸如SiOx、SiNx或SiOx/SiNx的堆疊的無機材料制成。并且光學補償無機膜290的厚度范圍可從大約IOOnm到大約200nm，或在從大約300nm到大約400nm的范圍中。堤岸320可由諸如PI (聚酰亞胺)或PA(聚丙烯)的有機材料構(gòu)成。并且，堤岸320的厚度的范圍可從大約1.5 μ m到大約2.5 μ m。脫氣路徑290a的深度可在從大約IOOnm到大約300nm的范圍中。驅(qū)動薄膜晶體管包括:柵極210，該柵極連接到選通線，例如從選通線突出；半導體層230，該半導體層230經(jīng)由柵絕緣膜220形成在該柵極上(例如，形成例如薄膜晶體管的晶體管的主體區(qū)域)；蝕刻停止層240，該蝕刻停止層形成在與柵極210相對應(yīng)的半導體氧化物層230上；以及漏極250a和源極250b，該漏極和源極連接到半導體氧化物層230的相對側(cè)。漏極250a通過絕緣堆疊單元S2連接到有機發(fā)光二極管(OLED)的第一電極300。另選地，可在第一電極300的同一層設(shè)置連接電極310，以將驅(qū)動薄膜晶體管的源極250b和另一個薄膜晶體管的柵極215互連。在該實施方式中，由雙層金屬形成在同一層形成的柵極210和215 ;但是,本發(fā)明不限于此。例如，可由單金屬(single metal)形成在同一層形成的柵極210和215。同時，在該實施方式中，在針對每個像素的有機發(fā)光二極管的下陣列處形成濾色器層270。
在此情況下，由上述有機膜成分形成有機平坦化膜280，并且由上述無機膜成分形成無機鈍化膜260和光學補償無機膜290。因此，將省略其詳細描述。脫氣路徑290a用作這樣的通道，通過該通道，絕緣堆疊單元S2的有機平坦化膜280直接地接觸由有機材料形成的堤岸320。也就是說，當在絕緣堆疊單元S2的有機平坦化膜280中發(fā)生脫氣時，氣體通過脫氣路徑290a被釋放，由此防止了由于該氣體導致的像素單元的劣化。在該實施方式中，無機膜、有機膜、無機膜被堆疊以構(gòu)成絕緣堆疊單元S2;但是，本發(fā)明不限于此?？山惶娴囟询B多個有機膜和多個無機膜。即使在此情況下，仍可在與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的預(yù)定區(qū)域處在不同無機膜處形成脫氣路徑，以通過該脫氣路徑平穩(wěn)地釋放氣體。在此情況下，在絕緣堆疊單元S2的所構(gòu)圖的無機膜上面和下面的有機膜在該脫氣路徑處相互接觸。也就是說，還可在絕緣堆疊單元S2的下無機鈍化膜處形成上述脫氣路徑。例如，絕緣堆疊單元S2的有機膜可以是除包括在有機發(fā)光顯示裝置中的有機發(fā)光層之外的任何有機膜。例如，絕緣堆疊單元S2的有機膜可以是平坦化膜、層間絕緣層、黑底層、濾色器層或針對特定功能添加的有機膜。絕緣堆疊單元S2的有機平坦化膜280可包括從聚酰亞胺、聚酰胺以及丙烯酸樹脂中選擇的至少一種。在下文中，將描述根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法。圖4A到圖4E是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法的截面圖。如圖4A所示,首先,在基板100上形成單元驅(qū)動單元,該單元驅(qū)動單元具有以矩陣模式的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個薄膜晶體管。附圖標記110指示驅(qū)動薄膜晶體管的漏極。隨后，形成鈍化膜120以覆蓋包括該單元驅(qū)動單元的基板。鈍化膜120可以是有機膜或無機膜。另選地，可以通過順序地形成無機膜和有機膜來得到鈍化膜120。隨后，形成有機膜130以覆蓋鈍化膜120并對鈍化膜120的表面進行平坦化。隨后，對有機膜130和鈍化膜120進行蝕刻以形成接觸孔，以暴露漏極110，并且隨后形成第一電極140，以使該第一電極140通過該接觸孔連接到漏極110。如圖4B所示，在包括第一電極140的有機膜130上沉積無機膜150，并且選擇性地去除無機膜150以形成脫氣路徑150a。在蝕刻以形成脫氣路徑150a期間，可如圖所示地蝕刻有機膜130的厚度部分。如圖4C所示，在包括脫氣路徑150a的有機膜130上在單元驅(qū)動單元區(qū)域處形成堤序160 ο如圖4D所示，在堤岸160之間的每個像素單元處形成包括紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層、以及藍色發(fā)光層的有機發(fā)光層170。如圖4E所示，在正面處形成第二電極180。第一電極140和第二電極180中的一個是透明電極，并且另一個是反射電極。在下文中，將描述根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法。
圖5A到圖5F是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造方法的截面圖。如圖5A所示,首先,在基板200上形成單元驅(qū)動單元,該單元驅(qū)動單元具有以矩陣模式的多個像素并且包括在相應(yīng)像素之間的至少一個薄膜晶體管。如下形成構(gòu)成單元驅(qū)動單元的薄膜晶體管。在基板200上堆疊雙層金屬，并且選擇性地去除該雙層金屬以形成柵極210和215。隨后，在基板200上形成柵絕緣膜220，以覆蓋柵極210和215。隨后，形成預(yù)定寬度的半導體氧化物層230以覆蓋柵極210。隨后，對諸如氮化物膜的絕緣膜進行構(gòu)圖，以在與柵極210相對應(yīng)的半導體氧化層230上形成蝕刻停止層240。隨后，沉積并選擇性地構(gòu)圖金屬，以形成彼此間隔開的漏極250a和源極250b。漏極250a和源極250b與數(shù)據(jù)線(未示出，參見圖1的102)形成在同一層。可與數(shù)據(jù)線一體地形成源極250b。隨后，形成無機鈍化膜260以覆蓋包括單元驅(qū)動單元的基板。隨后，形成有機平坦化膜280以覆蓋無機鈍化膜260并對無機鈍化膜260的表面進行平坦化。如圖5B所示，在有機平坦化膜280上沉積光學補償無機膜290，并且隨后使用半色調(diào)掩模(half tone mask)或者衍射曝光掩模(diffraction exposure mask)來對光學補償無機膜290、有機平坦化膜280以及無機鈍化膜260選擇性地進行蝕刻。在蝕刻期間，對光學補償無機膜290、有機平坦化膜280以及無機鈍化膜260進行蝕刻以形成接觸孔，以暴露漏極250a、源極250b以及另一個柵極215的一部分，該另一個柵極215是另一個薄膜晶體管的柵極。還對柵極215的柵絕緣膜220進行蝕刻。隨后，僅選擇性地去除與單元驅(qū)動單元的一部分相對應(yīng)的光學補償無機膜290，以形成脫氣路徑290a。可使用衍射曝光掩?；虬肷{(diào)掩模對脫氣路徑290a進行構(gòu)圖，從而具有不同的臺階，并且因此，可選擇性地去除脫氣路徑290a。 如圖5C所示，形成第一電極300和連接電極310，該第一電極300通過多個接觸孔中的對應(yīng)的一個連接到漏極250a，該連接電極310通過多個接觸孔中的對應(yīng)的多個將源極250b和柵極215互連。如圖所示，將堤岸形成材料施加在包括第一電極300的正面，并且選擇性地去除該堤岸形成材料以在包括脫氣路徑290a的單元驅(qū)動單元處形成堤岸320。如圖5E所示，在包括堤岸320的正面形成有機發(fā)光層330以發(fā)出白光。還可在有機發(fā)光層330上面和下面共同地形成空穴傳輸層和電子傳輸層。此外，有機發(fā)光層330可通過垂直地堆疊不同顏色發(fā)光層以發(fā)出白光的來得到，或者該有機發(fā)光層330可以是單個白色發(fā)光層以發(fā)出白光。在前一種情況下，所堆疊的發(fā)光層的數(shù)量可以是2個或更多個。如圖5F所示，在有機發(fā)光層330上沉積金屬，以形成第二電極340。在這些實施方式的任一實施方式中，交替地形成有機膜和無機膜，并且從與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的無機膜去除圖案的一部分以形成脫氣路徑。因此，在長時間段驅(qū)動根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置時防止氣體殘留在有機膜中，由此防止了二極管的劣化，并且具體地防止了由于氣體導致的像素單元的收縮。如從以上描述中明顯的，根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法具有以下效果。在根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置中，交替地形成有機膜和無機膜，并且從與單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的無機膜中去除圖案的一部分以形成脫氣路徑，在長時間段的高溫處理或操作期間，通過該脫氣路徑具體地從有機膜中釋放氣體。也就是說，當由于長時間段的高溫處理或操作而導致發(fā)生脫氣時，防止氣體殘留在有機膜中，由此防止了二極管的劣化，并且具體地防止了由于氣體導致的像素單元的收縮。此外，防止了根據(jù)本發(fā)明的有機發(fā)光顯示裝置的壽命的減少，由此實現(xiàn)了可靠的裝置。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言將明顯的是，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下可對本發(fā)明做出各種修改和變化。因此，本發(fā)明旨在覆蓋落入所附權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)的本發(fā)明的修改和變化。 本申請要求于2011年12月30日提交的韓國專利申請N0.10-2011-0147055的優(yōu)先權(quán)，此處通過引用并入該韓國專利申請，如同在此進行了完整闡述一樣。
權(quán)利要求
1.一種有機發(fā)光顯示裝置，所述有機發(fā)光顯示裝置包括: 單元驅(qū)動單元，所述單元驅(qū)動單元具有在基板上的多個像素并且包括在相應(yīng)的像素之間的至少一個晶體管； 絕緣堆疊單元，所述絕緣堆疊單元包括在所述基板上在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中彼此上下形成的有機膜和無機膜； 其中，對所述絕緣堆疊單元的、與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑； 有機發(fā)光二極管，所述有機發(fā)光二極通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單J Li ο
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，所述有機發(fā)光顯示裝置還包括: 堤岸，所述堤岸在所述脫氣路徑的區(qū)域中形成在所述絕緣堆疊單元上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中，所述堤岸通過所述脫氣路徑接觸所述絕緣堆疊單元的所述有機膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，所述有機發(fā)光顯示裝置還包括另外的有機膜，其中，將所構(gòu)圖的無機膜布置在所述有機膜與所述另外的有機膜之間，其中，所述有機膜和所述另外的有機膜通過所述脫氣路徑彼此接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中，所述絕緣堆疊單元的所述有機膜包括從黑底層、 濾色器層、平坦化膜以及中間層中選擇的任何一個。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中，所述絕緣堆疊單元的所述有機膜包括從聚酰亞胺、聚酰胺、丙烯酸樹脂、彩色顏料材料以及黑色樹脂材料中選擇的至少一種材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中，對所構(gòu)圖的無機膜進行構(gòu)圖以在所述無機膜的同一層中形成一個或更多個脫氣路徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，所述有機發(fā)光顯示裝置還包括至少一個另外的無機膜，其中，對所述無機膜和所述另外的無機膜進行構(gòu)圖以在不同的無機膜中形成一個或更多個脫氣路徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中，所述絕緣堆疊單元的所述無機膜由氮化物、氧化物或氧氮化物形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置，其中所述有機發(fā)光二極管包括: 第一電極，所述第一電極通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單元，以在所述像素中的每一個處形成所述第一電極； 有機發(fā)光層，所述有機發(fā)光層形成在所述第一電極上；以及 第二電極，所述第二電極形成在所述有機發(fā)光層上。
11.一種有機發(fā)光顯示裝置的制造方法，所述制造方法包括如下步驟: 在基板上形成單元驅(qū)動單元，所述單元驅(qū)動單元具有以矩陣模式的多個像素并且包括在相應(yīng)的像素之間的至少一個晶體管； 通過彼此上下地堆疊有機膜和無機膜，在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中在所述基板上形成至少一個絕緣堆疊單元； 對所述絕緣堆疊單元的、與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑；以及 形成有機發(fā)光二極管，所述有機發(fā)光二極通過所述絕緣堆疊單元連接到所述單元驅(qū)動單元。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，所述制造方法還包括如下步驟: 在包括所述脫氣路徑的區(qū)域中在所述絕緣堆疊單元上形成堤岸。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其中，形成所述絕緣堆疊單元的步驟和形成所述脫氣路徑的步驟包括如下步驟: 在所述單元驅(qū)動單元的區(qū)域中在所述基板上形成第一有機膜； 在所述第一有機膜上形成第一無機膜；以及 對與所述單元驅(qū)動單元相對應(yīng)的所述第一無機膜進行構(gòu)圖以形成第一脫氣路徑。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造方法，其中，當對所述第一無機膜進行構(gòu)圖以形成所述第一脫氣路徑時，甚至在所述第一無機膜下面的第一有機膜的厚度部分被過蝕刻。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造方法，所述制造方法還包括如下步驟:在包括所述第一脫氣路徑的所述第 一無機膜上形成第二有機膜。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造方法，所述制造方法還包括如下步驟: 在所述第二有機膜上形成第二無機膜并且對所述第二無機膜進行構(gòu)圖以形成第二脫氣路徑。
全文摘要
有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法。本文公開了一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法，在所述有機發(fā)光顯示裝置中，有機膜和無機膜交替堆疊，并且對所述無機膜進行構(gòu)圖以形成脫氣路徑，通過所述脫氣路徑從所述有機膜中釋放氣體。
文檔編號H01L27/32GK103187428SQ20121052401
公開日2013年7月3日 申請日期2012年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月30日
發(fā)明者鄭然植 申請人:樂金顯示有限公司