專利名稱：處理基板的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
此處公開的本發(fā)明涉及處理基板的設(shè)備和方法，更特別地，涉及執(zhí)行直接書寫類型的印刷工藝(direct write type printing processes)的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)：
用于制造在印刷電路板(PCB)或平板顯示器(FPD)中使用的電路線路的光刻工藝正漸增地被直接書寫類型的印刷工藝替代。由于電路線路直接形成在基板上，直接書與類型的印刷工藝簡(jiǎn)單并能提供聞的基板生產(chǎn)量。此外，與光刻工藝不同，直接書寫類型的印刷工藝由于化學(xué)制品的使用被最小化，因而是環(huán)境友好的。然而，由于精確控制油墨的厚度困難，直接書寫類型的印刷工藝的使用受到限制。此外，最近引入的電動(dòng)液壓方法使得控制在具有微小厚度的液柱中的油墨成為可能。這樣，直接書寫類型的印刷工藝可使用在典型的PCB或FPD的制造工藝中，并且，進(jìn)一步地將使用在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中。[專利文件]韓國(guó)專利登記號(hào)10-1000715 (2010年12月6日登記)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供通過單個(gè)工藝在基板上形成和固化線路的處理基板的設(shè)備和方法。然而，本發(fā)明并不限于此，因而，本領(lǐng)域技術(shù)人員從下面的說明及附圖將清楚地理解此處沒有說明的其他的處理基板的設(shè)備和方法。本發(fā)明實(shí)施例提供基板處理設(shè)備，包括平臺(tái)，在所述平臺(tái)上放置基板；排放單元，所述排放單元排放油墨以在放置在所述平臺(tái)上的所述基板上形成線路；固化單元，所述固化單元固化所排放的油墨；和傳送單元，所述傳送單元移動(dòng)所述平臺(tái)或移動(dòng)所述排放單元及所述固化單元。在一些實(shí)施例中，所述排放單元和所述固化單元可在所述平臺(tái)上方沿所述排放單元和所述固化單元的移動(dòng)方向排列成直線。在其他實(shí)施例中，所述固化單元可包括發(fā)出光線的照射部件。仍在其他實(shí)施例中，所述照射部件可提供為多個(gè)，并且所述照射部件可與線路一一對(duì)應(yīng)，以發(fā)出光線到所述線路上。還在其他實(shí)施例中，所述照射部件可提供為具有與所有線路的寬度對(duì)應(yīng)的寬度的狹縫形態(tài)，并且發(fā)出光線到與所述所有線路的寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域。還在其他實(shí)施例中，所述照射部件可在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向上發(fā)出光線。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述照射部件可發(fā)出激光或者紫外線。在更進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述固化單元可包括加熱部件，所述加熱部件產(chǎn)生熱量。
又在進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述固化單元可包括噴射部件，所述噴射部件用于噴射高溫不熔微?；蚋邷貧怏w。又在進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述排放單元可包括噴嘴，所述噴嘴中的每個(gè)排放所述油墨。在更進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述基板處理設(shè)備還可包括供電設(shè)備，所述供電設(shè)備施加高壓到所述排放單元，其中所述噴嘴提供為微小針形態(tài)，并使用電流體動(dòng)力學(xué)方法根據(jù)所述高壓排放成液柱形狀的油墨。又在更進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述基板處理設(shè)備還可包括旋轉(zhuǎn)單元，所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)所述平臺(tái)。 還在更進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述油墨可為導(dǎo)電油墨。在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，基板處理方法包括將基板放置在平臺(tái)上；通過在所述平臺(tái)上方水平移動(dòng)的排放單元排放油墨，以在放置在所述平臺(tái)上的所述基板上形成第一線路；和通過跟隨所述排放單元的固化單元固化所述排放的油墨。在一些實(shí)施例中，在所述排放的油墨的固化過程中，可向所述排放的油墨發(fā)出光線以固化所述油墨。在其他實(shí)施例中，在所述排放的油墨的固化過程中，可發(fā)出光線使得所述光線的束與所述第一線路 對(duì)應(yīng)。仍在其他實(shí)施例中，在所述排放的油墨的固化過程中，可向與所有所述第一線路的寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域發(fā)出光線。又在其他實(shí)施例中，在所述排放的油墨的固化過程中，所述光線可在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向上發(fā)出。還在其他實(shí)施例中，所述基板處理方法還可包括向所述排放單元施加高壓，其中在所述第一線路的形成過程中，包括在所述排放單元中且提供為微小針形態(tài)的噴嘴通過使用電流體動(dòng)力學(xué)方法根據(jù)所述高壓噴射成液柱形狀的所述油墨。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，所述基板處理方法還可包括旋轉(zhuǎn)所述平臺(tái)大約90度；通過在所述平臺(tái)上方水平移動(dòng)的所述排放單元排放所述油墨，以形成垂直于在所述基板上形成的所述第一線路的第二線路；及通過跟隨所述排放單元的所述固化單元固化所述排放的油墨的所述第二線路。


附圖被包括以提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并被合并入及構(gòu)成本說明書的一部分。附圖示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施例，并與說明書一起用來解釋本發(fā)明的原理。在附圖中圖1是示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的基板處理設(shè)備的立體圖(perspective view)；圖2是示出圖1中排放單元的立體圖；圖3是示出圖2中排放單元的操作的橫截面圖；圖4是示出圖1中的固化單元的立體圖；圖5是示出圖4中的固化單元的底視圖；圖6是示出圖4中固化單元的操作的橫截面圖7是示出根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的固化單元的立體圖；圖8是示出圖7中的固化單元的底視圖；圖9和圖10是示出圖1中固化單元的操作的橫截面視圖；圖11是示出根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的基板處理方法的流程圖；圖12和13是示出圖11中的基板處理方法的立體圖；和圖14和圖15是示出圖11中的基板處理方法的后續(xù)工藝的立體圖。
具體實(shí)施例方式此處使用的術(shù)語(yǔ)和附圖為示例性術(shù)語(yǔ)和附圖，用來描述本發(fā)明實(shí)施例的示例性實(shí)施例，并且因此本發(fā)明不限于此。此外，將排除涉及公知技術(shù)的詳細(xì)描述以免不必要的模糊本發(fā)明的主題。在下文中，將描述根據(jù)本發(fā)明的基板處理設(shè)備100?；逄幚碓O(shè)備100使用直接書寫方法在基板S上直接形成圖案?；逄幚碓O(shè)備100可處理印刷電路板、使用在平板顯示器中的諸如玻璃基板的透明基板和用來制造半導(dǎo)體裝置的各種晶片。例如，基板處理設(shè)備100可在玻璃基板上將導(dǎo)電油墨形成為線狀以形成平板顯示器的透明的電極線路。在下文中，將描述根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的基板處理設(shè)備100。圖1是示出基板處理設(shè)備100的立體圖；參閱圖1，基板處理設(shè)備100可包括平臺(tái)1100，排放單元1200，固化單元1400，和傳送單元1500。平臺(tái)1100支撐基板S?；錝可從基板處理設(shè)備100的外部被傳送至基板處理設(shè)備100并被放置在平臺(tái)1100上。平臺(tái)1100的頂表面可具有與基板S形狀類似或者相同的形狀，并且具有比基板S更大的面積。例如，當(dāng)處理用于制造平板顯示器的玻璃基板時(shí)，平臺(tái)1100可具有面積比玻璃基板面積大的四方形狀。排放單元1200排放油墨I(xiàn)。油墨I(xiàn)可以是導(dǎo)電油墨。油墨I(xiàn)的類型和成分可根據(jù)使用基板處理設(shè)備100的工藝適當(dāng)改變。排放單元1200設(shè)置在平臺(tái)1100的上方。排放單元1200可排放油墨至放置在平臺(tái)1100上的基板S的頂表面上。排放單元1200可被水平移動(dòng)。當(dāng)排放單元1200在平臺(tái)1100之上水平移動(dòng)并排放油墨I(xiàn)時(shí)，可以在放置在平臺(tái)1100上的基板S的頂表面上在排放單元1200的移動(dòng)方向形成線路。該線路可以為各種電路線路中的一種。例如，由導(dǎo)電油墨形成的線路可為平板顯示器的透明電極線路。排放單元200可使用各種方法排放油墨I(xiàn)。例如，可使用諸如連續(xù)噴射(CJ)方法的按需滴注(DOD)型噴墨方法、壓電式噴墨方法、熱噴墨方法或電流體動(dòng)力學(xué)方法排放油墨I(xiàn)。在下文中，為方便說明，將例示電流體動(dòng)力學(xué)方法。然而排放單元1200排放油墨I(xiàn)使用的方法并不限于電流體動(dòng)力學(xué)方法，因而，不僅可使用上述方法，而且還可使用其他的方法。圖2是示出圖1中排放單元1200的立體參閱圖2，排放單元1200可包括本體1210和噴嘴1220。本體1210設(shè)置在平臺(tái)1100上方。本體1210可連接(couple)至傳送單元1500，并被傳送單元1500水平移動(dòng)。本體1210的寬度垂直于其移動(dòng)方向，并可與平臺(tái)1100的寬度或者放置在平臺(tái)1100上的基板S的寬度相等或接近。油墨I(xiàn)可從油墨供應(yīng)單元1250供應(yīng)到本體1210。油墨供應(yīng)單元1250可提供為基板處理設(shè)備100的組件或者提供為單獨(dú)的外部單元。油墨供應(yīng)單元1250可包括油墨存儲(chǔ)所1253、泵1252和供應(yīng)線路1251。油墨存儲(chǔ)所1253存儲(chǔ)油墨I(xiàn)。供應(yīng)線路1251連接油墨存儲(chǔ)所1253到本體1210。泵1252可安裝到供應(yīng)線路1251上以控制從油墨存儲(chǔ)所1253供應(yīng)到本體1210的油墨I(xiàn)的流動(dòng)速率。本體1210可提供為具有內(nèi)部空間的槽的形式。從油墨供應(yīng)單元1250供應(yīng)的油墨I(xiàn)可被存儲(chǔ)在本體1210的內(nèi)部空間中，并且提供到噴嘴1220。噴嘴1220排放油墨I(xiàn)。噴嘴1220可排放從油墨供應(yīng)單元1250供應(yīng)到本體1210的油墨I(xiàn)。噴嘴1220設(shè)置在本體1210的底表面上，并且排放油墨I(xiàn)至放置在平臺(tái)1100上的基板S的頂表面上。當(dāng)本體1210被移動(dòng)時(shí)，噴嘴1220在基板S的頂表面上排放油墨I(xiàn)以便形成線路?？商峁┲辽僖粋€(gè)噴嘴1220。設(shè)置在本體1210的底表面上的噴嘴1220可以恒定的間距排列在垂直于本體1210移動(dòng)方向的方向上。在這種構(gòu)造中，排放單元1200可在基板S的頂表面上形成多條線路。當(dāng)使用電流體動(dòng)力學(xué)方法排放油墨I(xiàn)時(shí)，基板處理設(shè)備100可包括供電設(shè)備1300。圖3是示出圖2中排放 單元1200的操作的橫截面圖。參閱圖3，供電設(shè)備1300產(chǎn)生高壓。供電設(shè)備1300的一端可連接至本體1210，并且它的另一端可連接至平臺(tái)1100。供電設(shè)備1300可施加高壓至本體1210。平臺(tái)1100可由供電設(shè)備1300充以負(fù)電或者接地。平臺(tái)1100可由諸如金屬的導(dǎo)電材料形成。因而，可在本體1210和平臺(tái)1100之間產(chǎn)生根據(jù)高壓的電場(chǎng)。每個(gè)噴嘴1220具有微小內(nèi)徑的通孔，并可被提供為具有管結(jié)構(gòu)的空心針的形態(tài)。通孔可具有在其垂直方向上有恒定內(nèi)徑的圓柱形狀，或者內(nèi)徑從噴嘴1220的上側(cè)到下側(cè)降低的圓錐或半球形狀。高壓可通過本體1210施加到噴嘴1220上。本體1210和噴嘴1220可由具有高導(dǎo)電性的材料形成。例如,本體1210和噴嘴1220可由金屬形成。當(dāng)高壓施加到噴嘴1220時(shí)，高壓也可施加到通過噴嘴1220排放的油墨I(xiàn)上。然后油墨I(xiàn)的微粒被充電以在它們之間產(chǎn)生斥力。相應(yīng)的，具有內(nèi)徑從噴嘴1220的上側(cè)到下側(cè)降低的圓錐形狀的油墨I(xiàn)的液滴通過噴嘴1220的端部排放。當(dāng)電場(chǎng)施加到排放的具有圓錐形狀的液滴時(shí)，圓錐形狀的下部保持為穩(wěn)定的具有微小直徑的液柱形狀并且被供應(yīng)至基板S上。S卩，排放單元1200排放具有微小直徑的液柱形狀的油墨I(xiàn)，從而在基板S的頂表面上形成具有微小厚度的線路。供電設(shè)備1300可調(diào)節(jié)施加到本體1210的高壓。當(dāng)施加到本體1210的電壓增加時(shí)，電場(chǎng)的強(qiáng)度增加以便減小液柱的直徑。相反的，當(dāng)施加到本體1210的電壓減小時(shí)，電場(chǎng)的強(qiáng)度減小以便增加液柱的直徑。當(dāng)施加到本體1210的電壓超過臨界值時(shí)，可增加油墨I(xiàn)的充電微粒之間的斥力，并由此，油墨I(xiàn)的微米微粒或納米微?？山?jīng)過噴嘴1220以電噴射形式排放。固化單元1400可固化油墨I(xiàn)。油墨I(xiàn)的固化是指蒸發(fā)油墨I(xiàn)中的溶劑從而將油墨I(xiàn)固定到基板S上。此外，固化為包括式的概念，包括油墨I(xiàn)的干燥及油墨I(xiàn)的燒結(jié)。油墨I(xiàn)的微粒的配置可根據(jù)固化速度或溫度而改變。例如，當(dāng)固化速度低時(shí)，微粒沒有氣孔并且均勻地排列。相反地，當(dāng)固化速度高時(shí)，油墨I(xiàn)的微粒不均勻排列并具有氣孔以增加多孔性，并且在油墨I(xiàn)中發(fā)生微粒密度的偏差。特別地，由于導(dǎo)電油墨的氣孔起電阻器的作用，當(dāng)固化速度高時(shí)，由導(dǎo)電油墨形成的電路線路的性能將下降。固化單元1400設(shè)置在平臺(tái)1100的上方。固化單元1400可在本體1210的移動(dòng)方向與排放單元1200隔開。在該情況中，排放單元1200可設(shè)置在本體1210的移動(dòng)方向的前方，并且固化單元1400可設(shè)置在本體1210的移動(dòng)方向的后方。固化單元1400和排放單元1200可以以相同方向移動(dòng)。由于固化單元1400設(shè)置在排放單元1200之后，固化單元1400可跟隨排放單元1200。相應(yīng)地，固化單元1400可固化由排放單元1200排放的油墨I(xiàn)。固化單元1400可使用各種方法固化油墨I(xiàn)。例如固化單元1400可提供為用于產(chǎn)生熱量的加熱部件例如加熱器。在該情況中，加熱器可加熱排放到基板S上的油墨I(xiàn)。相應(yīng)的，溶劑從油墨I(xiàn)中被蒸發(fā)，并由此油墨I(xiàn)被固化。再如，固化單元1400可提供為用于噴射高溫不熔微?；蚋邷貧怏w的噴射部件，例如噴嘴。在該情況中，噴射部件可從外部接收高溫不熔微?；蚋邷貧怏w，并噴射高溫不熔微?；蚋邷貧怏w到排放至基板S上的油墨I(xiàn)上?？蛇x擇地，噴射部件可從外部接收不熔微粒或氣體，并加熱不熔微?；驓怏w以噴射不熔微?；驓怏w到排放至基板S上的油墨I(xiàn)上。相應(yīng)的，熱量被傳送到油墨I(xiàn)以蒸發(fā)溶劑，從而固化油墨I(xiàn)。再如，固化單元1400可發(fā)出光線以固化油墨I(xiàn)。在下文中，為了方便說明，固化單元1400例示為用于固化油墨I(xiàn)的照射裝置。然而固化單元1400用于固化油墨I(xiàn)的方法并不限于照射方法，并由此不僅可使用上述方法而且還可使用其他方法。圖4是示出圖1中固化單元1400的立體圖。圖5是示出圖4中的固化單元1400的底視圖。固化單元1400可包括本體1410和照射部件1420。參閱圖4和圖5，本體1410設(shè)置在平臺(tái)1100的上方。本體1410可以在其移動(dòng)方向上與排放單元1200的本體1210向后隔開預(yù)定距離。本體1410可連接到傳送單元1500，并由傳送單元1500水平移動(dòng)。本體1410和本體1210可以相同方向移動(dòng)。相應(yīng)地，本體1410可跟隨本體1210。本體1410的寬度垂直于其移動(dòng)方向，可與平臺(tái)1100的寬度或放置在平臺(tái)1100上的基板S的寬度相等或接近。本體1410的寬度可與本體1210的寬度相等。照射部件1420發(fā)出光線。在該情況中，光線可為激光或紫外(UV)線。照射部件1420可設(shè)置在本體1410的底表面上并向放置在平臺(tái)1100上的基板S發(fā)出光線。當(dāng)光線發(fā)出到排放至基板S的頂表面上的油墨I(xiàn)時(shí)，溶劑從油墨I(xiàn)被蒸發(fā)以由此燒結(jié)油墨I(xiàn)。具體的，當(dāng)諸如激光的光線發(fā)出到油墨I(xiàn)時(shí)，熱量被傳送至油墨。當(dāng)油墨I(xiàn)為導(dǎo)電油墨時(shí)，熱量從光線傳送至油墨I(xiàn)以蒸發(fā)溶劑及燒結(jié)包括諸如銀的金屬微粒的溶質(zhì)。當(dāng)從光線傳送的熱量加熱金屬微粒至高溫時(shí)，金屬微粒暫時(shí)熔化然后通過凝聚(agglomeration)被固化。這樣，當(dāng)使用光線固化油墨I(xiàn)時(shí)，可形成具有均勻密度的線路。照射部件1420可提供為多個(gè)。設(shè)置在本體1410的底表面上的照射部件1420可以在垂直于本體1410的移動(dòng)方向的方向上以恒定間距排列。照射部件1420的間距可與排放單元1200的噴嘴1220的間距相同。照射部件1420可與噴嘴1200 —一對(duì)應(yīng)。例如在平面圖中，每個(gè)照射部件1420和相應(yīng)的噴嘴1220可以在它們的移動(dòng)方向上位于相同的直線上。相應(yīng)地，噴嘴1220的移動(dòng)路徑可與照射部件1420的移動(dòng)路徑一一對(duì)應(yīng)，并分別與照射部件1420的移動(dòng)路徑重疊。圖6是示出圖4中固化單元1400的操作的橫截面圖。參閱圖6，照射部件1420可與由噴嘴1220排放的油墨I(xiàn)形成的線路一一對(duì)應(yīng)，以發(fā)出光線到線路。進(jìn)而，光線供應(yīng)能量至油墨I(xiàn)的線路以干燥或燒結(jié)油墨I(xiàn)，由此固化油墨I(xiàn)。在該情況下，光線僅發(fā)出至線路而不發(fā)出至基板S的外部表面。這樣，可保護(hù)基板S和由油墨I(xiàn)的線路形成的圖案免受發(fā)出的光線影響。圖7是示出根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的固化單元1400的立體圖。圖8是示出圖7中固化單元1400的底視圖。根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，固化單元1400可包括具有狹縫形狀的照射部件1420。參閱圖7和圖8，照射部件1420可設(shè)置在本體1410的底表面上,并在垂直于其移動(dòng)方向的方向上延伸。照射部件1420可經(jīng)過其狹縫形狀的整個(gè)表面發(fā)出光線。狹縫形狀的寬度可大體上與本體1410的寬度相等?？蛇x擇地，狹縫形狀的寬度可相當(dāng)于噴嘴1220的寬度。S卩，照射部件1420的寬度可相當(dāng)于兩個(gè)最外面噴嘴1220之間的距離。這樣，照射部件1420向形成在基板S上的油墨I(xiàn)的所有線路的寬度相應(yīng)的區(qū)域發(fā)出光線，由此固化油墨I(xiàn)?？蛇x擇地，照射部件1420可提供為多個(gè)。例如，圖7和圖8說明的本體1410可提供有兩個(gè)狹縫型的照射部件1420，該照射部件1420具有圖7和圖8中示出的照射部件1420的長(zhǎng)度的一半的長(zhǎng)度。固化單元1400可在其垂直向下的方向發(fā)出和光線，或者在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向發(fā)出光線。圖9和圖10是示出圖1中固化單元1400的操作的橫截面圖。 參閱圖9，照射部件1420可以垂直向下的方向發(fā)出光線。相應(yīng)的，排放到基板S上的油墨I(xiàn)被發(fā)出的光線固化。參閱圖10，照射部件1420可以從垂直向下方向向前傾斜的方向發(fā)出光線。在該情況中，與圖9的情況相比，能夠減少?gòu)呐欧庞湍獻(xiàn)的時(shí)間點(diǎn)到通過發(fā)出的光線固化油墨I(xiàn)的時(shí)間點(diǎn)的時(shí)間間隔。固化單元1400可包括照射方向調(diào)節(jié)部件，用于調(diào)節(jié)照射部件1420的照射方向。照射方向調(diào)節(jié)部件可控制照射部件1420的方位以在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向上發(fā)出光線或者在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向相反的方向傾斜的方向上發(fā)出光線。像這樣，固化單元1400發(fā)出光線的角度可根據(jù)各種工藝條件來確定，諸如油墨I(xiàn)的類型及排放單元1200和固化單元1400之間的距離。
傳送單元1500可水平移動(dòng)排放單元1200及固化單元1400。傳送單元1500可包括傳送器1510和傳送框架1520。傳送框架1520可在平臺(tái)1100上方水平延伸。傳送器1510可連接至傳送框架1520，并沿著傳送框架1520移動(dòng)。排放單元1200和固化單元1400可連接至傳送器1510，并沿傳送方向的直線彼此隔開預(yù)定距離。這樣，排放單元1200和固化單元1400可由傳送單元1500在平臺(tái)1100上方水平移動(dòng)。傳送單元1500可移動(dòng)平臺(tái)1100而不是排放單元1200及固化單元1400。在該情況中，放置在平臺(tái)1100上的基板S可相對(duì)于排放單元1200和固化單元1400水平移動(dòng)?？蛇x擇地，傳送單元1500可僅移動(dòng)基板S。像這樣，當(dāng)傳送單元1500在移動(dòng)方向上移動(dòng)排放單元1200和固化單元1400、平臺(tái)1100或基板S時(shí)，油墨I(xiàn)可排放到基板S上，并且排放的油墨I(xiàn)可根據(jù)移動(dòng)的方向被固化以形成線路。基板處理設(shè)備100可包括旋轉(zhuǎn)部件1150。旋轉(zhuǎn)部件1150可旋轉(zhuǎn)平臺(tái)1100。例如，旋轉(zhuǎn)部件1150可包括旋轉(zhuǎn)軸和發(fā)動(dòng)機(jī)。發(fā)動(dòng)機(jī)產(chǎn)生力矩。旋轉(zhuǎn)軸的一端連接到平臺(tái)1100，且其另一端連接到發(fā)動(dòng)機(jī)。這樣，平臺(tái)1100可根據(jù)來自發(fā)動(dòng)機(jī)的力矩1100被旋轉(zhuǎn)。相應(yīng)地，基板S被旋轉(zhuǎn)。這樣，排放單元1200和固化單元1400可形成經(jīng)過基板S的旋轉(zhuǎn)角度旋轉(zhuǎn)的線路。例如，當(dāng)基板處理設(shè)備100在移動(dòng)方向上在基板S上形成第一線路，并且旋轉(zhuǎn)部件1150旋轉(zhuǎn)平臺(tái)1100經(jīng)過大約90度時(shí)，基板處理設(shè)備1100可在基板S上形成垂直于第一線路的第二線路。相應(yīng)地，可在基板S上形成格子圖案。第一線路可起到平板顯示器的源電極線路的作用，并且第二電路可起到平板顯示器的柵電極的作用。代替旋轉(zhuǎn)平臺(tái)1100，旋轉(zhuǎn)部件1150可旋轉(zhuǎn)傳送單元1500，或排放單元1200及固化單元1400。同樣在該情況中，基板處理設(shè)備100還可形成經(jīng)過基板S的旋轉(zhuǎn)角度旋轉(zhuǎn)的線路。基板處理設(shè)備100可包括控制器?？刂破骺煽刂苹逄幚碓O(shè)備100的組件。例如，控制器可控制傳送單元1500的移動(dòng)。再如，控制器可控制由供電設(shè)備1300施加的電壓的大小。再如，控制器可控制排放單元1200處的流動(dòng)速率，或者控制固化單元1400的照射部件1420是否發(fā)出光線。再如，控制器可控制旋轉(zhuǎn)部件1150以旋轉(zhuǎn)平臺(tái)1100。控制器可以為包括硬件、軟件或其組合的計(jì)算機(jī)或計(jì)算機(jī)等效物。關(guān)于硬件，控制器可包括專用集成電路(ASIC)、數(shù)字信號(hào)處理器(DSP)、數(shù)字信號(hào)處理裝置(DSPD)、可編程邏輯裝置(PLD)、現(xiàn)場(chǎng)可編程門列陣(FPGA)、處理器、微控制器、微處理器，或者具有類似于上面例子的控制功能的電氣裝置。關(guān)于硬件，控制器可包括以一種或多種程序語(yǔ)言編寫的軟件碼或軟件應(yīng)用。軟件可由作為硬件的控制部件執(zhí)行。軟件可從諸如服務(wù)器的外部裝置傳輸，并被安裝到控制器的硬件中。在下文中，將描述根據(jù)本發(fā)明的、使用上述基板處理設(shè)備100的基板處理方法。但是，這是為了方便說明，因此基板處理方法可使用與基板處理設(shè)備100 —樣或類似的設(shè)備?；逄幚矸椒商峁橛糜趫?zhí)行基板處理方法的編碼或程序的形態(tài)，并被存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)可讀記錄介質(zhì)中?，F(xiàn)在將在下文中描述根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的基板處理方法。圖11是示出根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的基板處理方法的流程圖?；逄幚矸椒砂üば騍110，在該工序中基板被放置在平臺(tái)1100上；工序S120，在該工序中油墨I(xiàn)被排放；及工序S130，在該工序中油墨I(xiàn)被固化。現(xiàn)在將被詳細(xì)描述每個(gè)工序。圖12和圖13是示出圖11中的基板處理方法的立體圖。參閱圖12，在工序SI 10中，基板被從基板處理設(shè)備100的外部傳送，并被放置在平臺(tái)1100上。例如，基板S可由外部的機(jī)械手(robot)、滾筒(roller)及各種基板傳送部件中的一種傳送。參閱圖13，在基板S被放置在平臺(tái)1100之后，在工序S120中排放單元1200排放油墨I(xiàn)到基板S上。當(dāng)排放單元1200被傳送單元1500水平移動(dòng)時(shí)，排放單元1200可排放油墨I(xiàn)到基板S的頂表面上。相應(yīng)地，可沿排放單元1200的移動(dòng)方向在基板S的頂表面上形成線路。在工序S130中固化單元1400可固化油墨I(xiàn)。固化單元1400可被傳送單元1500沿與傳送單元1500的方向相同的方向移動(dòng)。由于固化單元1400可沿移動(dòng)方向設(shè)置在傳送單元1500的后方，因此固化單元1400可跟隨傳送單元1500。固化單元1400可發(fā)出光線到由油墨I(xiàn)形成的線路上。照射部件1420可與線路一一對(duì)應(yīng)以發(fā)出光線到線路上。可選擇地，照射部件1420可發(fā)出光線到與所有線路的寬度相應(yīng)的區(qū)域。當(dāng)光線發(fā)出到油墨I(xiàn)上時(shí)，溶劑從油墨I(xiàn)被蒸發(fā)或者油墨I(xiàn)被燒結(jié)，從而固化油墨I(xiàn)。在此時(shí)，跟隨排放單元1200的固化單元1400可以預(yù)定時(shí)間間隔固化排放的油墨I(xiàn)。相應(yīng)地，從油墨被排放的時(shí)間點(diǎn)到油墨被固化的時(shí)間點(diǎn)的時(shí)間間隔縮短。這樣，防止油墨I(xiàn)被自然干燥，或者防止施加到基板S上的外力顫動(dòng)排放到基板S上的油墨I(xiàn)，從而均勻地固化油墨I(xiàn)。當(dāng)油墨I(xiàn)均勻地固化時(shí)，可改善由油墨I(xiàn)的線路形成的電路線路的質(zhì)量。此外，通過單個(gè)的工藝在基板S上排放和固化油墨I(xiàn)，而代替在排放油墨I(xiàn)之后固化油墨I(xiàn)。這樣，基板處理被簡(jiǎn)化，從而提聞基板生廣量。進(jìn)一步的，基板處理方法可包括工序S140，在該工序中基板在線路形成后被旋轉(zhuǎn)，及工序S150，在該工序中，以不同于通過工序S120和S130形成的線路(在下文中，稱為第一線路)的方向的方向在旋轉(zhuǎn)的基板S上形成第二線路。圖14和15是示出圖11中的基板處理方法的后續(xù)工藝的立體圖。參閱圖14，在形成第一線路后，在工序S140中旋轉(zhuǎn)部件1150可旋轉(zhuǎn)平臺(tái)1100。例如，平臺(tái)1100可旋轉(zhuǎn)經(jīng)過約90度。然后，在平面圖中，傳送單元1500的移動(dòng)方向可垂直于在基板S上形成的第一線路。參閱圖15，在基板S被旋轉(zhuǎn)后，基板處理設(shè)備100可在基板S上形成第二線路。例如，當(dāng)基板S被旋轉(zhuǎn)約90度時(shí)，可沿垂直于第一線路的方向形成第二線路。如在工序S120和S130中，基板處理設(shè)備100可排放油墨I(xiàn)到基板S上并固化油墨I(xiàn)以形成第二線路。相應(yīng)地，第二線路在基板S上可垂直于第一線路。例如當(dāng)使用基板處理方法處理平面顯示器時(shí)，可形成兩個(gè)彼此垂直的透明電極線路。在該情況中，第一和第二線路中的一個(gè)起到柵電極的作用，而另一個(gè)起到源電極的作用。根據(jù)實(shí)施例，使用直接書寫方法在基板S上印刷線路，從而提高基板的生產(chǎn)量并明顯降低化學(xué)品的使用。
此外，由于通過借助于跟隨排放單元的固化單元的單一工藝而形成和固化線路，因此基板可不用使用單獨(dú)的固化工藝而被快速處理。此外，由于基本在同一時(shí)間形成和固化線路，它們之間的時(shí)間間隔被最小化以便防止電路線路內(nèi)由于自然干燥引起的密度偏差，從而改善電路線路的質(zhì)量。然而，本發(fā)明并不限于此，并且因而，本領(lǐng)域技術(shù)人員將從上面的描述和附圖中清楚地理解此處沒有描述的其他有益效果。給出上述實(shí)施例以使本領(lǐng)域技術(shù)人員可以容易地理解本發(fā)明，并且上述實(shí)施例并不意圖限制本發(fā)明。因此，本發(fā)明的實(shí)施例和元件可以其他方式或用已知技術(shù)使用，并且在不偏離本發(fā)明范圍的情況下可做出形式和細(xì)節(jié)上的各種修改和變化。此外，本發(fā)明的范圍由后面的權(quán)利要求進(jìn)行限定，并且在該范圍內(nèi)的所有差異將被考慮為包括在本發(fā)明內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理設(shè)備，包括 平臺(tái)，在所述平臺(tái)上放置基板； 排放單元，所述排放單元排放油墨以在放置在所述平臺(tái)上的所述基板上形成線路； 固化單元，所述固化單元固化所述排放的油墨；和 傳送單元，所述傳送單元移動(dòng)所述平臺(tái)或移動(dòng)所述排放單元及所述固化單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中固化單元包括照射部件，所述照射部件發(fā)出光線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理設(shè)備，其中所述照射部件提供為多個(gè)，并且所述照射部件與所述線路一一對(duì)應(yīng)，以發(fā)出光線到所述線路上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理設(shè)備，其中所述照射部件提供為具有與所有所述線路的寬度對(duì)應(yīng)的寬度的狹縫形態(tài)，并且發(fā)出光線到與所有所述線路的寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的基板處理設(shè)備，其中所述照射部件在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向上發(fā)出光線。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的基板處理設(shè)備，其中所述照射部件發(fā)出激光或者紫外線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中所述排放單元和所述固化單元在所述平臺(tái)上方沿所述排放單元和所述固化單元的移動(dòng)方向排列成直線。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中所述固化單元包括加熱部件，所述加熱部件產(chǎn)生熱量。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理設(shè)備，其中所述固化單元包括噴射部件，所述噴射部件用于噴射高溫不熔微?；蚋邷貧怏w。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-4及7-9任一項(xiàng)所述的基板處理設(shè)備，其中所述排放單元包括噴嘴，所述噴嘴中的每個(gè)排放所述油墨。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理設(shè)備，還包括供電設(shè)備，所述供電設(shè)備施加高壓到所述排放單元， 其中所述噴嘴提供為微小針形態(tài)，并使用電流體動(dòng)力學(xué)方法根據(jù)所述高壓排放成液柱形狀的油墨。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-4及7-9任一項(xiàng)所述的基板處理設(shè)備，還包括旋轉(zhuǎn)單元，所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)所述平臺(tái)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-4及7-9任一項(xiàng)所述的基板處理設(shè)備，其中所述油墨為導(dǎo)電油墨。
14.一種基板處理方法,包括 將基板放置在平臺(tái)上； 通過在所述平臺(tái)上方水平移動(dòng)的排放單元排放油墨，以在放置在所述平臺(tái)上的所述基板上形成第一線路；及 通過跟隨所述排放單元的所述固化單元固化所述排放的油墨。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，向所述排放的油墨發(fā)出光線以固化所述油墨。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，發(fā)出光線使得所述光線的束與所述第一線路對(duì)應(yīng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，所述光線向與所有所述第一線路的寬度對(duì)應(yīng)的區(qū)域發(fā)出。
18.根據(jù)權(quán)利要求15-17任一項(xiàng)所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，在從垂直向下的方向向其移動(dòng)方向傾斜的方向上發(fā)出光線。
19.根據(jù)權(quán)利要求14-17任一項(xiàng)所述的基板處理方法，還包括對(duì)所述排放單元施加高壓， 其中在所述第一線路的形成過程中，包括在所述排放單元中且提供為微小針形態(tài)的噴嘴通過使用電流體動(dòng)力學(xué)方法根據(jù)所述高壓噴射成液柱形狀的所述油墨。
20.根據(jù)權(quán)利要求14-17任一項(xiàng)所述的基板處理方法，還包括 旋轉(zhuǎn)所述平臺(tái)大約90度； 通過在所述平臺(tái)上方水平移動(dòng)的所述排放單元排放所述油墨，以形成垂直于在所述基板上形成的所述第一線路的第二線路；及 通過跟隨所述排放單元的所述固化單元固化所述排放的油墨的第二線路。
全文摘要
本發(fā)明提供一種處理基板的設(shè)備和方法，更特別地，為用于執(zhí)行圖案工藝來處理基板的設(shè)備和方法。該基板處理設(shè)備包括平臺(tái)，在所述平臺(tái)上放置基板；排放單元，所述排放單元排放油墨以在放置在所述平臺(tái)上的所述基板上形成線路；固化單元，所述固化單元固化排放的油墨；和傳送單元，所述傳送單元移動(dòng)所述平臺(tái)或移動(dòng)所述排放單元及所述固化單元。
文檔編號(hào)H01L21/67GK103029436SQ20121036597
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者樸鐵鎬 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司