專利名稱：處理基板的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明構(gòu)思的實施例涉及處理基板的裝置和方法，并且，特別涉及將處理溶液供給傳送中的基板上的裝置和方法。
背景技術(shù)：
近來，信息處理設(shè)備已經(jīng)迅速發(fā)展為具有多種功能和更高的處理速度。信息處理設(shè)備可以具有顯示面板以顯示信息。例如，諸如液晶顯示器(IXD)的平板顯示面板已經(jīng)被廣泛使用，并且此外，它們的尺寸和重量正在增加。平板顯示面板可以通過多種工藝(例如，光刻、蝕刻和沉積工藝)制造。通常，光刻可以包括涂布、曝光、顯影和清洗光致抗蝕劑層。在顯影光致抗蝕劑層的步驟中，可以在 基板上供給顯影溶液并回收，然后，清洗溶液可以被供給在基板上。圖I為示意性示出用以執(zhí)行顯影工藝和清洗工藝的傳統(tǒng)裝置的截面圖。參照圖1，可以在顯影室10中執(zhí)行顯影基板S的步驟，并且隨后，可以在清洗室20中執(zhí)行清洗基板S的步驟。在顯影步驟和清洗步驟期間，基板S可以沿特定方向分別在顯影室10和清洗室20中被傳送。例如，如果基板S位于顯影室10的水平部分A上，可以將顯影溶液供給被水平傳送中的基板S上。此后，在顯影室10的變角部分中，基板S可以以成角度的狀態(tài)被傳送以回收剩余在基板S上的顯影溶液。然而，根據(jù)傳統(tǒng)工藝，當(dāng)顯影溶液可沿成角度的基板表面流動時，在基板上可能發(fā)生污染?？梢允褂锰岣呋鍌魉退俣鹊姆椒ㄒ钥朔廴締栴}，但是這可能導(dǎo)致處理失敗，諸如基板滑落。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明構(gòu)思的實施例所提供的是向傳送中的基板上供給處理溶液的裝置和方法。本發(fā)明構(gòu)思的其他實施例提供了當(dāng)從傳送中的基板回收處理溶液時防止發(fā)生污染的裝置和方法。本發(fā)明構(gòu)思的其他實施例提供了提高從傳送中的基板回收處理溶液時的效率的裝置和方法。本發(fā)明構(gòu)思的其他實施方式提供了防止在基板被高速傳送時基板滑落的裝置和方法。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例，基板處理裝置可以包括第一室；具有內(nèi)部空間的第二室，該內(nèi)部空間與第一室的內(nèi)部空間連接；沿第一方向傳送基板的基板傳送部件；被設(shè)于第一室中的處理溶液供給部件，用于向基板供給處理溶液；以及被設(shè)于第二室中的清洗溶液供給單元，該清洗溶液供給單元包括在基板上供給清洗溶液的清洗溶液供給部件?；鍌魉筒考梢园ū辉O(shè)于第一室和第二室中的每一個中并沿第一方向布置的多個傳送軸，以及支撐該傳送軸的框架。框架可以包括被設(shè)于所述第一室中的水平框架，由該水平框架支撐的傳送軸具有水平頂部；被設(shè)于第二室中的成角度框架，由該成角度框架支撐的傳送軸具有成角度的頂部；以及被設(shè)于水平框架和成角度框架之間的變角框架，該變角框架將由其支撐的傳送軸的頂部從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)。在示例性實施例中，裝置可以進(jìn)一步包括處理溶液回收單元，該處理溶液回收單元被設(shè)于第一室中的以回收剩余在基板上的處理溶液。處理溶液回收單元可以包括第一支撐輥，向由第一支撐輥支撐的基板區(qū)域噴射加壓流體的加壓流體供給部件。第一支撐輥可以被設(shè)于傳送軸之間。在示例性實施例中，第一支撐輥可以被提供為具有與傳送輥位于相同豎直高度的頂部。在其他實施例中，第一支撐輥可以被提供具有比傳送輥高的豎直高度的頂部。第一支撐輥可以具有圓柱形形狀并且軸向平行于傳送軸的軸向。第一支撐輥的直徑可以大于傳送軸的直徑。處理溶液回收單元位于第一室的末端部分。變角框架可以包括支撐傳送軸一側(cè)末端部分的第一變角框架，支撐傳送軸的另一側(cè)末端部分的第二變角框架，并且該第二變角框架在豎直方向上是可移動的。清洗溶液供給部件可以被設(shè)于變角框架上。清洗溶液供給單元可以進(jìn)一步包括被設(shè)于傳送軸之間的第二支撐輥，以具有由變角 框架支撐的末端部分，并且清洗溶液供給部件可以用于向由第二支撐輥支撐的基板區(qū)域上噴射清洗溶液。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例，基板處理裝置可以包括室；被設(shè)于該室中的基板傳送部件，基板傳送部件包括多個傳送軸，該多個傳送軸可以沿第一方向布置以沿第一方向傳送基板，且基板傳送部件包括多個傳送輥，傳送輥中的每個可以被設(shè)于每個傳送軸的外周表面上以與基板接觸；設(shè)于室中的處理溶液供給部件，用于向基板供給處理溶液；以及處理溶液回收單元，回收剩余在基板上的處理溶液。處理溶液回收單元可以包括被設(shè)于傳送軸之間的第一支撐輥，以及向由第一支撐輥支撐的基板區(qū)域噴射加壓流體的加壓流體供給部件。在示例性實施例中，第一支撐輥可以具有位于與傳送輥實質(zhì)相同的豎直高度的頂部。第一支撐輥可以具有位于比傳送輥高的豎直高度的頂部。第一支撐輥可以具有圓柱形形狀，并且其軸向平行于傳送軸的軸向。第一支撐輥可以具有與基底寬度相比相同或更大的長度。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例，處理傳送中的基板的方法包括在第一室中向可以被水平傳送的基板供給處理溶液，噴射加壓流體以回收剩余在基板上的處理溶液，并且然后，在第二室中將基板位置從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)。在示例性實施例中，所述方法可以進(jìn)一步包括在將基板從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)期間，向基板供給清洗溶液。


從以下與附圖相結(jié)合的簡短說明中，將更清楚理解示例性實施例。圖I至圖8表示本文中所描述的非限制性的示例性實施例。圖I是示意性示出用以執(zhí)行顯影工藝和清洗工藝的傳統(tǒng)裝置的截面圖。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的基板處理裝置的截面圖。圖3是示出設(shè)置在圖2的清洗室中的基板傳送部件的透視圖。圖4是示出當(dāng)圖2的基板處理裝置不具有第一支撐輥時可能發(fā)生的技術(shù)問題的透視圖。
圖5是示出圖2的基板處理裝置不具有第一支撐輥時可能發(fā)生的技術(shù)問題的截面圖。圖6是示出圖2的第一支撐輥的正面視圖。圖7是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思其他示例性實施例的基板處理裝置的截面圖。圖8是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思其他示例性實施例的基板處理裝置的截面圖。應(yīng)當(dāng)注意的是，這些附圖意欲示出在某 些示例性實施例中使用的方法、結(jié)構(gòu)和/或材料的普通特點，并對以下提供的書面描述進(jìn)行補充。然而，這些附圖是不按比例的，并且可能未精確反應(yīng)任何給定實施例的精確結(jié)構(gòu)或性能特點，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為對示例性實施例所包含的數(shù)值范圍或性質(zhì)的限定或限制。例如，為了清楚，分子、層、區(qū)域和/或結(jié)構(gòu)元件的相對厚度和位置可以被縮小或放大。在多個附圖中使用相似或相同的參考標(biāo)號用于指示存在相似或相同元件或部件。
具體實施例方式現(xiàn)將參照附圖對本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例進(jìn)行更充分的描述，在附圖中顯示了示例性實施例。然而，本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例可以以許多不同形式來實現(xiàn)，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為限于本文中呈現(xiàn)的實施例；更確切地，提供這些實施例是為了使該公開徹底和完整，并且將示例性實施例的構(gòu)思充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。在附圖中，為了清楚，層和區(qū)域的厚度被放大。圖中相似的參考字符指明相似的元件，并且因而省略它們的描述。應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)提出一元件“連接”或“耦接”至另一元件時，它可以直接連接或耦接至另一元件，或者可以存在中間元件。相反，當(dāng)提出一元件“直接連接”或“直接耦接”至另一元件時，就不存在中間元件。相似的數(shù)字始終指示相似元件。在本文中所使用的術(shù)語“和/或”包括相關(guān)聯(lián)的所列項目中的一個或多個的任何和所有組合。用來描述元件或?qū)又?br> 間的關(guān)系的其他詞語應(yīng)當(dāng)以相似的方式解釋(例如“在......之間”與“直接在......之
間”，“相鄰”與“直接相鄰”，“在......上”與“直接在......上”)。應(yīng)當(dāng)理解的是，盡管術(shù)語“第一”、“第二”等可以被用在本文中來描述不同元件、零件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、零件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)當(dāng)被這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅被用來將一個元件、零件、區(qū)域、層或部分與另一個元件、零件、區(qū)域、層或部分進(jìn)行區(qū)分。因此，在不背離示例性實施例教導(dǎo)的情況下，以下討論的第一元件、零件、區(qū)域、層或部分可以被稱為第二元件、零件、區(qū)域、層或部分?？臻g相關(guān)的術(shù)語，諸如“以下”，“下方”，“之下”，“上方”，“之上”等，可以被用在本
文中以便于描述，以描述如圖中所示的一個元件或部件與另一元件或部件的關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解的是，除圖中描述的方位以外，空間相關(guān)的術(shù)語意欲包含使用中或運行中的設(shè)備的不同方位。例如，如果在圖中的設(shè)備被翻轉(zhuǎn)，則被描述為在其他元件或部件“下方”或“以下”的元件會隨后被定向為在該其他元件部件的“上方”。因此，示例性術(shù)語“下方”可以包含上方和下方這兩個方位。裝置可以以其他方式被定向(旋轉(zhuǎn)90度或在其他方位上)并相應(yīng)地解釋本文中所使用的空間相關(guān)的描述詞語。本文中使用的術(shù)語僅是為了描述特定實施例的目的，而不意欲限制示例性實施例。如本文中使用的，單數(shù)形式“一”、“該”意欲也包括復(fù)數(shù)形式，除非文中清楚地作出相反的指示。還應(yīng)當(dāng)理解的是，如果在本文中使用術(shù)語“包含”、“包含有”、“包括”和/或“包括有”，說明所述部件、整體、步驟、操作、元件和/或零件的存在，而不排除存在和/或附加一個或多個其他部件、整體、步驟、操作、元件、零件和/或他們的組。參照示意性示出示例性實施例的最佳實施例(和中間結(jié)構(gòu))的橫截面圖，本文描述了本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例。同樣的，由于例如生產(chǎn)工藝和/或容差，可以想到圖示的形狀會有不同。這樣，本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例不應(yīng)當(dāng)被解釋為限制于本文中所示出區(qū)域的特定形狀，而是包括例如生產(chǎn)中導(dǎo)致的形狀偏差。例如，被示為長方形的植入?yún)^(qū)域在其邊緣處可以具有圓形的或彎曲的特征和/或植入濃度梯度，而不是從植入?yún)^(qū)域到非植入?yún)^(qū)域的二元變化。類似地，通過植入形成的被掩埋區(qū)域可在被掩埋區(qū)域和進(jìn)行所述植入的表面之間的區(qū)域中導(dǎo)致一些植入。這樣，圖中所示的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，并且它們的形狀不意欲示出設(shè)備區(qū)域的真實形狀，并且不意欲限制示例性實施例的范圍。除非作出相反的限定，在本文中使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具 有與本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解相同的含義。還應(yīng)當(dāng)理解的是，諸如那些在常用字典中定義的術(shù)語，應(yīng)當(dāng)被解釋為具有與它們在相關(guān)技術(shù)語境中的含義相一致的含義，并且不被解釋為理想化或過于正式的含義，除非在本文中確切地這樣定義。為了簡單，以下的說明將提及其中使用了用于制造平板顯示面板的基板的本實施例的示例。然而，本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例可以不限于此。例如，基板S可以是用以制造半導(dǎo)體芯片的晶片。此外，在基板S上的顯影工藝將作為本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例予以描述，但是本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例可以不限于此。例如，下面將描述的本發(fā)明構(gòu)思將應(yīng)用于多種工藝中，這些工藝包括在基板S上供給處理溶液和從基板S上回收處理溶液，或清洗基板S和用以執(zhí)行這些工藝的裝置。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例的基板處理裝置的截面圖。參照圖2，基板處理裝置1000可以用以在基板上執(zhí)行顯影工藝?；逄幚硌b置1000可以包括顯影室100、清洗室200、基板傳送部件300、處理溶液供給部件400、處理溶液回收單元500、以及清洗溶液供給單元600。顯影室100和清洗室200各自可以提供空間，在該空間中將執(zhí)行處理所述基板S的工藝。例如，對基板S進(jìn)行顯影的工藝可以在顯影室100中執(zhí)行，并且清洗基板S的工藝可以在清洗室200中執(zhí)行。在示例性實施例中，顯影室100和清洗室200可以沿第一方向12而成排布置。顯影室100和清洗室200可以被構(gòu)造為具有實質(zhì)相同的形狀或結(jié)構(gòu)。顯影室100和清洗室200各自可以形成為類似長方體的形狀。顯影室100和清洗室200各自可以包括入口 102或202用以將基板S載入其中，以及出口 104或204用以從其卸載該基板
S。顯影室100的出口 104可以被提供為面向清洗室200的入口 202。而且，顯影室100和清洗室200可以以使得其內(nèi)部空間彼此相連的方式提供?；鍌魉筒考?00可以用于沿第一方向12傳輸基板S。在顯影室100和清洗室200中可以提供至少一個基板傳送部件300。每個基板傳送部件300可以包括傳送軸330、傳送輥320、框架340、和引導(dǎo)輥350。在示例性實施例中，在基板傳送部件300中可以提供多個傳送軸330。每個傳送軸330可以被構(gòu)造為具有垂直于第一方向12 (例如,沿第二方向140)的軸向。傳送軸330可以沿第一方向12被布置為彼此平行。傳送軸330可以彼此間隔分開。傳送軸330可以被提供為具有可與入口 102和202和出口 104和204的位置對應(yīng)的豎向位置。傳送輥320可以被裝備在傳送軸330上以支撐基板S的底面。在示例性實施例中，在每個傳送軸330上可裝備多個傳送輥320。每個傳送輥320可以具有設(shè)于其中心軸上的孔，并且傳送軸330可以被迫使插入傳送棍320的孔中。傳送棍320可以與傳送軸330 —起旋轉(zhuǎn)?？蚣?40可以支撐傳送軸330并以使得傳送軸330可以旋轉(zhuǎn)的方式構(gòu)造。例如，可以在傳送軸330的兩側(cè)設(shè)置一對框架340以支撐傳送軸330的兩個末端部分?？蚣?40可以包括水平框架342、成角度的框架346和變角框架344。水平框架342可以設(shè)于顯影室 100中。水平框架342可以以使得傳送軸330的兩個末端具有相同豎直高度的方式提供。成角度的框架346可以以使得傳送軸330的兩個末端具有彼此不同的豎直高度的方式提供。成角度的框架346可以設(shè)于清洗室200中。成角度的框架346可以以使得傳送軸330的一個末端能夠具有與水平框架342所支撐的傳送軸330相同的豎直高度的方式提供。此外，成角度的框架346可以以使得傳送軸330的其它末端能夠具有比水平框架342所支撐的傳送軸330更高的豎直高度的方式提供。例如，傳送軸330可以被構(gòu)造為具有相對于地面大約為5°的角度。變角框架344可以用于改變傳送軸的角度。圖3是示出設(shè)于圖2的清洗室中的基板傳送部件的透視圖。參照圖3，變角框架344可以支撐傳送軸330的兩個末端，并且被構(gòu)造為能夠?qū)崿F(xiàn)傳送軸330的傾斜。變角框架344可以設(shè)于清洗室200中。變角框架344可以用于改變傳送軸330的角度，以使得基板S可以通過由水平框架342支撐的傳送軸330被傳送到由成角度框架346支撐的傳送軸330。變角框架344可以包括第一變角框架344a和第二變角框架344b。第一變角框架344a可以用于支撐傳送軸330的末端部分。第一變角框架344a可以被提供為具有與水平框架342相同的豎直高度。第二變角框架344b可以支撐傳送軸330的其他末端部分。第二變角框架344b可以通過驅(qū)動部件(未顯示)以使其可以位于水平或成角度的位置上的方式被垂直移動。這里，該水平位置可以是具有與水平框架342相同豎直高度的第二變角框架344b的位置。成角度的位置可以是具有比水平框架342高的豎直高度的第二變角框架344b的位置。基板S可以由引導(dǎo)輥350引導(dǎo)，以使得基板S可以沿第一方向12傳送。引導(dǎo)輥350可以用于支撐基板S的側(cè)面。引導(dǎo)輥350可以設(shè)于每個顯影室100和清洗室200中。引導(dǎo)輥350可以設(shè)于傳送軸330之間。設(shè)于顯影室100中的引導(dǎo)輥350可以用于支撐基板S的兩個側(cè)面。設(shè)于清洗室200中的引導(dǎo)輥350可以用于支撐基板S的一個側(cè)面。設(shè)于清洗室200中的引導(dǎo)輥350可以與傳送軸330的其他末端部分相鄰放置。再次參照圖2，處理溶液供給部件400可以用以將處理溶液提供在基板S上。處理溶液供給部件400可以設(shè)于顯影室100中。處理溶液供給部件400可以被布置在傳送軸330上以向朝第一方向12傳送的基板S上供給處理溶液。在示例性實施例中，處理溶液可以是顯影溶液。處理溶液供給部件400可以包括主體和噴嘴。主體可以被形成為類似桿的形狀，其軸向指向第二方向14。在示例性實施例中，主體的軸向可以被設(shè)置為與傳送軸330的軸向平行。主體可以具有與基板S的寬度相比相同或更大的長度。主體可以包括在其下表面沿第二方向14形成的多個孔。所述孔可以分別裝配有噴嘴。處理溶液回收單元500可以用于回收剩余在基板S上的處理溶液。處理溶液回收單元500可以被設(shè)于顯影室100中。處理溶液回收單元500可以被布置在鄰近顯影室100出口 104的區(qū)域。處理溶液回收單元500可以包括加壓流體供給部件510和第一支撐輥530。加壓流體供給部件510可以用于將加壓流體噴射到基板S上并回收處理溶液。加壓流體可以是例如大氣氣體或惰性氣體。加壓流體供給部件510可以被設(shè)于傳送軸330上。加壓流體供給部件510可以包括主體和噴嘴。主體可以形成為類似桿的形狀，其軸向指向第二方向14。主體可以具有與基板S的寬度相比相同或更大的長度。主體可以包括在其底面沿第二方向14形成的多個孔。所述孔可以分別裝配有噴嘴。每個噴嘴的噴出孔可以指向傾斜向下的方向，以使得來自噴嘴的溶液可以遠(yuǎn)離顯影室100的出口 104被噴射。加壓流體供給部件510可以以使得處理溶液能夠朝與基板傳送方向相反的方向流動的方式噴射加壓流體。多個傳送軸330可以沿第一方向12相互間隔設(shè)置。由于基板S的重量或體積的增加，基板S在基板傳送部件300之間可能下垂。因此，基板S在第一方向12上可能具有 不平坦的表面。如同圖4和圖5所示，從基板S凹陷的上表面回收處理溶液可能存在困難。即使在由傳送輥320支撐的基板S的部分，基板S也可能在傳送輥320之間下垂。例如，基板S沿第二方向可具有不平坦的上表面。第一支撐輥530可以以使得在基板S的、被供給加壓流體的部分能夠具有平滑輪廓的方式支撐基板S。第一支撐輥530可以以使得在基板S上的、將被提供加壓流體的上表面可以是平坦的方式支撐基板S的底面。圖6是示出圖2的第一支撐輥的正面視圖。參照圖6，第一支撐輥可以被形成為具有圓柱形形狀。第一支撐輥530可以被設(shè)為具有平行于第二方向14的軸向。第一支撐輥530可以被設(shè)于傳送軸330之間。第一支撐輥530可以被定位成支撐將被噴射加壓流體的基板S的區(qū)域。第一支撐棍530的頂部可以被定位在與傳送輥320的豎直高度相等或稍微高一些的高度。例如，第一支撐輥530和傳送輥320可以具有由相同材料形成的外部周圍表面。再次參照圖2，清洗溶液供給單元600可以用于清洗基板S。清洗溶液供給單元600可以被設(shè)于清洗室200中。清洗溶液供給單元600可以鄰近清洗室200的入口 202而設(shè)。清洗溶液供給單元600可以包括清洗溶液供給部件610。清洗溶液供給部件610可以用于將清洗溶液噴射到裝載在清洗室200中的基板S上。例如，清洗溶液可以是去離子水。清洗溶液供給部件610可以被定位在由變角框架344支撐的傳送軸330上。清洗溶液供給部件610可以包括主體和噴嘴。主體可以形成為類似桿的形狀，其軸向指向第二方向14。主體可以具有與基板S的寬度相比相同或更大的長度。主體可以包括在其底面沿第二方向14形成的多個孔。所述孔可以分別裝配有噴嘴。在示例性實施例中，清理溶液供給部件610的主體可以以使得其軸向平行于被設(shè)于其下方的傳送軸330的軸向的方式設(shè)置。如果傳送軸330的角度發(fā)生改變，則也可以調(diào)節(jié)清洗溶液供給部件610的主體的角度以抵消該改變。在其他實施例中，清洗溶液供給部件610的主體可以被構(gòu)造為具有固定的軸向(例如，平行于水平方向)。在其他實施例中，圖7的清洗溶液供給單元600可以進(jìn)一步包括第二支撐輥630。第二支撐輥630可以被提供用于支撐基板S的底面，以使得基板S的上表面在將被供以清洗溶液的區(qū)域上可以是平坦的。第二支撐輥630可以具有圓柱形形狀。第二支撐輥630可以以使得其軸向指向第二方向的方式設(shè)置。第二支撐輥630可以被設(shè)于傳送軸330之間。第二支撐輥630可以被設(shè)置為具有與第一支撐輥530的頂部位于相同高度的頂部。第二支撐輥630的兩個末端可以被裝備在變角框架334上，以使得第二支撐輥630可以與傳送軸330類似地傾斜。在下文中，將對使用基板處理裝置1000傳送基板S的方法進(jìn)行說明。如果基板S被裝載在顯影室100中，基板S可以通過基板傳送部件300朝第一方向12傳送。在基板S傳送期間，基板S的上表面可以被維持為水平。此外，在基板S傳送期間，處理溶液可以被供給在基板S上，并且剩余的處理溶液可以從基板S的上表面上被收回?；錝可以從顯影室100的出口 104被卸載，并且同時被裝載在清洗室200中。在基板S傳送期間，基板S可以從水平狀態(tài)逐漸地傾斜為傾斜狀態(tài)。在基板S傾斜傳送期間，清洗溶液可以被供給在基板S上。在完成供給清洗溶液之后，基板S可以以傾斜狀態(tài)傳送。剩余在基板S上的清洗溶液可以沿基板S的傾斜角度向下流動并被回收。接下來，將對使用基板處理裝置1000的顯影方法和清洗方法進(jìn)行說明。如果在曝光工藝之后，基板S被裝載在顯影室100中，則可以將處理溶液供給在基板S上。在基板S 傳送期間，加壓流體供給部件510可以將加壓流體噴射到基板S的、被第一支撐輥530支撐的部分上。剩余在基板S上的處理溶液可以被加壓流體吹走，并且在與第一方向12相反的一側(cè)被回收?；錝可以通過第一支撐輥530被裝載在清洗室200中。清洗溶液供給單元600可以將清洗溶液噴射在基板S上，該基板S可以在清洗室200中傳送。在這個階段，基板S可以從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)，并且隨后朝第一方向傳送。剩余在基板S上的清洗溶液可以沿基板S的傾斜角向下流。在其他實施例中，圖8的第一支撐輥530a可以被定位成支撐基板S的、將被供以來自處理溶液供給部件400的處理溶液的部分。第一支撐輥530a可以以使得處理溶液能夠被均勻供給在基板S上的方式支撐基板S。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例，所提供的是裝置和方法，在其中，處理溶液被供給在傳送中的基板上。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的其他實施例，可以防止當(dāng)從傳送中的基板回收處理溶液時發(fā)生污染。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的其他實施例，可以提高從傳送中的基板回收處理溶液的效率。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的其他實施例，即使當(dāng)基板被高速傳送時，也可以防止基板滑落。盡管本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例已進(jìn)行了詳細(xì)的顯示和說明，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將會理解，在不背離所附權(quán)利要求的精神和范圍的情況下，可以對其做出形式和細(xì)節(jié)的變化。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，包括 第一室; 具有內(nèi)部空間的第二室，所述內(nèi)部空間與所述第一室的內(nèi)部空間連接； 沿第一方向傳送基板的基板傳送部件； 被設(shè)于所述第一室中的處理溶液供給部件，用于向所述基板上供給處理溶液；以及被設(shè)于所述第二室中的清洗溶液供給單元，所述清洗溶液供給單元包括用于在所述基板上供給清洗溶液的清洗溶液供給部件； 其中所述基板傳送部件包括 被設(shè)于所述第一室和所述第二室中的每一個中并沿第一方向布置的多個傳送軸；以及 支撐所述傳送軸的框架，并且 其中所述框架包括 被設(shè)于所述第一室中的水平框架，由所述水平框架支撐的傳送軸具有水平頂部；被設(shè)于所述第二室中的成角度框架，由所述成角度框架支撐的傳送軸具有成角度的頂部；并且 被設(shè)于所述水平框架和在所述第二室中的成角度框架之間的變角框架，所述變角框架將由其支撐的傳送軸的頂部從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置，進(jìn)一步包括處理溶液回收單元，所述處理溶液回收單元被設(shè)于所述第一室中以回收剩余在所述基板上的處理溶液， 其中所述處理溶液回收單元包括 第一支撐棍； 向所述基板的由所述第一支撐輥支撐的區(qū)域噴射加壓流體的加壓流體供給部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述第一支撐輥被設(shè)于所述傳送軸之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述第一支撐輥被提供為具有與傳送輥位于相同豎直高度的頂部。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述第一支撐輥被提供為具有比所述傳送輥高的豎直高度的頂部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的裝置，所述第一支撐輥具有圓柱形形狀并且其軸向平行于所述傳送軸的軸向。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中所述第一支撐輥的直徑大于所述傳送軸的直徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中所述處理溶液回收單元位于所述第一室的末端部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置，其中所述變角框架包括 支撐所述傳送軸的一側(cè)末端部分的第一變角框架； 支撐所述傳送軸的另一側(cè)末端部分的第二變角框架。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述清洗溶液供給部件位于所述變角框架上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述清洗溶液供給單元進(jìn)一步包括被設(shè)于所述傳送軸之間的第二支撐輥，以具有由所述變角框架支撐的末端部分，并且 所述清洗溶液供給部件用于向所述基板的由所述第二支撐輥支撐的區(qū)域上噴射所述清洗溶液。
12.—種基板處理裝置，包括 室; 被設(shè)于所述室中的基板傳送部件，其包括多個傳送軸，所述傳送軸沿第一方向布置以沿所述第一方向傳送基板；以及多個傳送輥，所述傳送輥中的每個被設(shè)于每個所述傳送軸的外周表面上，以與所述基板接觸； 設(shè)于所述室中的處理溶液供給部件，用于向所述基板供給處理溶液；以及 處理溶液回收單元，回收剩余在所述基板上的所述處理溶液； 其中所述處理溶液回收單元包括 被設(shè)于所述傳送軸之間的第一支撐輥；以及 向所述基板的由所述第一支撐輥支撐的區(qū)域噴射加壓流體的加壓流體供給部件。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述第一支撐輥具有與所述傳送輥實質(zhì)相同的豎直高度的頂部。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述第一支撐輥具有位于比所述傳送輥高的豎直高度的頂部。
15.根據(jù)權(quán)利要求12至14中的任一項所述的裝置，其中所述第一支撐輥具有圓柱形形狀，并且其軸向平行于所述傳送軸的軸向。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述第一支撐輥具有與所述基板寬度相比相同或更大的長度。
17.—種處理傳送中的基板的方法，包括向第一室中被水平傳送中的基板供給處理溶液，噴射加壓流體以回收剩余在所述基板上的處理溶液，并且，然后在第二室中將所述基板的位置從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，進(jìn)一步包括在將所述基板從水平狀態(tài)變?yōu)槌山嵌葼顟B(tài)期間，向所述基板供給清洗溶液。
全文摘要
本發(fā)明所提供的是向基板上供給流體的裝置和方法。該裝置可以包括向基板上供給處理溶液的處理溶液供給部件，以及回收剩余在基板上的處理溶液的處理溶液回收單元。這里，處理溶液回收單元可以包括被設(shè)為與傳送軸平行的第一支撐輥，向由第一支撐輥支撐的基板區(qū)域噴射加壓流體的加壓流體供給部件。相應(yīng)地，可以均勻地向基板區(qū)域上供給流體，以保持被供以流體的基板區(qū)域之間的平行性，并且即使當(dāng)基板被高速傳送時也可以抑制基板滑落。
文檔編號H01L21/67GK102969259SQ20121031120
公開日2013年3月13日 申請日期2012年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月31日
發(fā)明者鄭泓具, 金鎮(zhèn)浩 申請人:細(xì)美事有限公司