專利名稱：排氣系統(tǒng)及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種改善在襯底的化學(xué)連續(xù)式處理過程中去除含有反應(yīng)氣體的空氣的設(shè)備及方法。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)的狀態(tài)下，公知用于扁平物體的濕法化學(xué)蝕刻的連續(xù)式設(shè)備。這樣的物體例如是半導(dǎo)體和太陽能電池生產(chǎn)中使用的硅襯底。對于某些工藝步驟，這種襯底的僅僅單側(cè)濕法化學(xué)處理是期望的。在此處理過程中，僅僅襯底的一側(cè)進(jìn)行處理，而另一側(cè)仍然保持原始狀態(tài)。一般地，這種處理在濕法化學(xué)設(shè)備中實(shí)施，其中，襯底通過處理液或沿其表面?zhèn)魉汀?從現(xiàn)有技術(shù)中已知各種用于單側(cè)濕法蝕刻處理的方法。根據(jù)第一種方案，不處理的一側(cè)使用保護(hù)層來保護(hù)，該保護(hù)層必須在(濕法化學(xué))工藝步驟之前施加，并且該保護(hù)層在此工藝步驟之后必須再次移除。這里，該方案的缺點(diǎn)在于額外要求了保護(hù)涂層的施加工作和移除工作。根據(jù)第二種方案，不處理的一側(cè)靠在密封臺(tái)表面上，例如其整個(gè)表面靠在真空吸盤上；或者例如至少可以由密封唇形成的邊界區(qū)域靠在密封臺(tái)表面上。這樣，在濕法蝕刻工藝步驟中，處理液接觸不到襯底的不處理一側(cè)。該方案的缺點(diǎn)在于此非微小的技術(shù)工作以及經(jīng)常接觸的敏感襯底表面可能被保護(hù)的反表面(counter surface)所損壞或污染的事實(shí)。根據(jù)另外一種方案，必須處理的襯底以沿著處理液表面的方式導(dǎo)引，這樣，僅僅其下側(cè)以及可選的邊緣與處理液接觸。這樣的處理方法例如在文獻(xiàn)EPl 733 418中公開。只要傳送通過處理液相應(yīng)謹(jǐn)慎地進(jìn)行，襯底的頂側(cè)保持未處理，不需要保護(hù)層或者不需要接觸反表面。但是，問題在于濕法化學(xué)處理過程中由于化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的氣泡，例如，氮氧化物(NOx)，其積聚在襯底的下側(cè)，當(dāng)沿傳送方向看時(shí)，其最終在有角襯底的后邊緣或圓形襯底的后側(cè)區(qū)域處上升到液面，并且它們在此處最終爆裂。由于氣泡爆裂，可能形成以不期望的方式污染襯底頂側(cè)(尤其是后側(cè)區(qū)域)的微小液滴，從而負(fù)面影響處理結(jié)果。此外，(未受保護(hù)的)襯底頂側(cè)遭到這些液滴以及其他隨機(jī)的活性氣體的侵襲，這也導(dǎo)致該側(cè)的不期望的改變。接著，反應(yīng)氣體積聚在處理液和襯底上方的區(qū)域。因此，這樣的連續(xù)式設(shè)備一般進(jìn)行反應(yīng)氣體的排氣。公知設(shè)備中的排氣總是直接沿垂直向上的方向進(jìn)行，一般通過保護(hù)柵格。為了獲得反應(yīng)氣體的快速排氣，排氣經(jīng)常全負(fù)荷進(jìn)行。結(jié)果，不可能進(jìn)一步增大排氣能力。保護(hù)柵格意味著額外的流動(dòng)阻力，這進(jìn)一步降低排氣的容積得率(volumetric yield)。然而，輸入功率的進(jìn)一步增大是不合算的，使得無論排氣如何進(jìn)行，不期望的氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的濃度仍保持較高。這樣排氣的另一個(gè)問題在于這樣的事實(shí)，在處理液的表面可能形成波紋，這可能導(dǎo)致襯底頂側(cè)的浸濕。此外，向上導(dǎo)向的過度強(qiáng)力抽吸可能導(dǎo)致襯底的上升，這在任何情況下都必須避免的。另外，不可能完全排除垂直抽吸將氣泡爆裂過程中形成的液滴拋到襯底的頂側(cè)的可能性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的因此在于提供一種設(shè)備和方法，其能實(shí)施扁平物體例如硅襯底的單側(cè)濕法化學(xué)處理，同時(shí)排出產(chǎn)生的反應(yīng)氣體，其中在不需要保護(hù)頂側(cè)的情況下避免上述問題，即由于爆裂氣泡引起的頂側(cè)的不期望浸濕。這可以在不需要進(jìn)一步增大輸入功率的情況下獲得。本發(fā)明進(jìn)一步適應(yīng)于以簡單劃算的方式對現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，以解決排氣不足的問題。根據(jù)本發(fā)明的主權(quán)利要求所述的設(shè)備以及根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法實(shí)現(xiàn) 上述目的。其他優(yōu)選實(shí)施例可以從從屬權(quán)利要求、說明書以及附圖中得到。下面，首先描述本發(fā)明所基于的設(shè)備。接著陳述可以由這樣的設(shè)備所執(zhí)行的本發(fā)明的方法。本發(fā)明的設(shè)備用于從相應(yīng)地設(shè)置用于扁平物體的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物。該設(shè)備包括入口、用于收容例如可以是蝕刻液或清潔液的處理液的處理池、具有傳送面的用于沿傳送線在傳送方向上水平傳送扁平物體的連續(xù)式傳送器件(其中，例如輥、傳送帶、帶狀物或桿被討論為傳送器件)、待處理的物體通過其分別進(jìn)入或離開設(shè)備的出口及布置在傳送面上方的用于氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的集氣室。傳送方向定義為從入口到出口的方向。一般而言，集氣室的側(cè)邊由相應(yīng)壁限定并且頂壁由室頂限定。根據(jù)本發(fā)明，該設(shè)備特征在于為形成排氣通道，集氣室在出口的區(qū)域設(shè)置入口開口以及在入口的區(qū)域設(shè)置出口開口，以這樣的方式使得傳送氣體能夠沿與傳送方向相反地流動(dòng)穿過排氣通道。換而言之，設(shè)備在傳送線的一端的區(qū)域具有入口開口以及在傳送線的另一端的區(qū)域具有出口開口，使得新鮮空氣入口和排氣出口之間形成排氣通道，該排氣通道包括集氣室，并且上述傳送氣體可以沿水平方向均勻地流動(dòng)穿過排氣通道。因此，本發(fā)明的設(shè)備與公知設(shè)備的不同之處在于，排出空氣，即充滿氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的傳送氣體不是沿垂直方向去除，而是至少具有平行于傳送面的一個(gè)氣流分量。由此形成的氣流基本水平地，即平行于傳送面并且還平行于傳送方向，流動(dòng)。有效地避免了強(qiáng)力抽吸引起的襯底上升或者可能污染襯底表面的波紋的產(chǎn)生。因?yàn)閺男迈r空氣入口到排氣出口的路徑上不存在流體阻礙，所以比垂直工作的設(shè)備所需更低的功率就足夠了。尤其是新鮮空氣入口布置在出口的區(qū)域以及排氣出口布置在入口的區(qū)域，使得傳送氣體可以從設(shè)備的出口到入口均勻地流動(dòng)穿過排氣通道，從而實(shí)現(xiàn)避免污染的效果。結(jié)果，傳送氣體的流動(dòng)方向與傳送方向相反。根據(jù)本發(fā)明的新鮮空氣入口和排氣出口的布置的效果在于，在襯底后部區(qū)域上升并在該處爆裂的氣泡所導(dǎo)致的上述液滴被傳送離開襯底的表面。因此，液滴的薄霧不可能從形成液滴的氣泡上升處的襯底后邊緣到達(dá)襯底的表面。很顯然，后一襯底距離前一襯底的距離必須足夠大，以避免前一襯底的后邊緣處形成的液滴對后一襯底的污染。
優(yōu)選地，入口開口由設(shè)備的出口形成，并且/或者出口開口由設(shè)備的(襯底)入口形成。這樣，獲得設(shè)備的尤其簡單的構(gòu)造。可選地，在入口和出口的區(qū)域中可以設(shè)置專用開口，傳送氣體通過該專用開口進(jìn)入和離開設(shè)備。這樣的開口例如可以布置在入口和/或開口的正上方或側(cè)邊。另外，在另一個(gè)位置吸入或排放傳送氣體的管道同樣也可以，只要這些管道分別開始于或結(jié)束于入口或開口區(qū)域中的相應(yīng)位置處。很顯然，用于傳輸傳送氣體的相應(yīng)氣體傳輸器件必須存在或者使設(shè)備配置有相應(yīng)的功能。因此，優(yōu)選地，本發(fā)明的設(shè)備具有布置于排氣通道的區(qū)域中并且/或者流體連接到排氣通道的氣體傳輸器件。同樣顯然，可以存在幾個(gè)這樣的氣體傳輸器件，其根據(jù)本發(fā)明為·設(shè)備的各個(gè)子部分分別供應(yīng)新鮮空氣或者從其抽取排出氣體。也可以組合供應(yīng)器件或排出器件。這些器件可以直接布置到集氣室(例如，以風(fēng)扇的形式)，或者傳送氣體短暫地且在非顯著地改變?nèi)鐧?quán)利要求所述的水平流動(dòng)的情況下通過垂直或側(cè)向離開管道導(dǎo)引，在離開管道處，傳送氣體被相應(yīng)地加速。根據(jù)更優(yōu)選的實(shí)施例，設(shè)備具有布置在入口區(qū)域的抽吸喇叭(suction bell)。抽吸喇叭具有吸入排出空氣并將排出空氣傳輸出設(shè)備的足夠大小的抽吸喇叭開口。更優(yōu)選地，抽吸喇叭開口布置在排氣通道的區(qū)域(在氣相內(nèi)，水平抽吸)。可選地，抽吸喇叭開口位于排出氣體通道的上方(在氣相之上，垂直抽吸)。根據(jù)另一實(shí)施例，該設(shè)備包括影響傳送氣體即新鮮空氣和/或排出空氣的流動(dòng)速率的裝置。這樣的裝置優(yōu)選為風(fēng)門片等，其改變供應(yīng)新鮮空氣并且/或者抽取排出空氣的部件的橫截面，使得能夠以適當(dāng)方式影響排出空氣流動(dòng)的強(qiáng)度和氣體傳輸器件的功率變化。然后更優(yōu)選的是，該設(shè)備也包括分別控制氣體傳輸器件的控制單元或控制用于影響流動(dòng)速率的裝置的控制單元。這樣，流動(dòng)速率的改變同樣可以自動(dòng)進(jìn)行。根據(jù)又一實(shí)施例，本發(fā)明的設(shè)備包括用于傳送氣體(G)流動(dòng)的水平校準(zhǔn)的裝置。這意味著，可能最初垂直或從側(cè)邊流動(dòng)進(jìn)入集氣室的傳送氣體可以被簾子、隔板等以這樣的方式偏轉(zhuǎn)，使得形成根據(jù)本發(fā)明所要求的流動(dòng)。顯然，類似地，上述情況可以分別對傳送氣體或排出空氣的流出同樣有效。更優(yōu)選地，可以存在用于偏轉(zhuǎn)一般從上流入排氣通道的新鮮空氣的一個(gè)或幾個(gè)偏轉(zhuǎn)喇nA(deflection bell),偏轉(zhuǎn)喇口入位于(襯底)出口的區(qū)域，即，在傳送線的端部。為了均勻化，空氣可以從優(yōu)選開孔的室頂區(qū)域(柵格)導(dǎo)引進(jìn)入這樣的偏轉(zhuǎn)喇叭。傳送氣體最終沿水平方向并且因此平行于傳送面和由后者傳送的扁平物體以及與傳送方向相反地離開偏轉(zhuǎn)喇叭。更優(yōu)選地，開孔面積至少與偏轉(zhuǎn)喇叭的開口面積一樣大。這些開口的面積優(yōu)選地至少與優(yōu)選存在的抽吸喇叭的上述抽吸喇叭開口的面積一樣大。根據(jù)又一實(shí)施例，至少一個(gè)另外的入口開口和/或出口開口布置在集氣室的區(qū)域中。在本發(fā)明的設(shè)備很長時(shí)或者在集氣室包括不同處理池以及因此包括不同部分時(shí)，這總是有利的。然后更優(yōu)選的是，這些入口和/或開口中每一個(gè)連接到單獨(dú)的氣體傳輸器件。這樣，在不提供非常強(qiáng)大的氣體傳輸裝置的情況下可以確保傳送氣體具有足夠大的傳送速率，或者，可以確保連續(xù)式設(shè)備的不同部分中產(chǎn)生的不同反應(yīng)氣體彼此不混合。另外，只要能夠相應(yīng)地靈活控制氣體傳輸裝置，就可以以簡單的方式產(chǎn)生不同并且容易改變的氣流速率和可選的氣流方向。根據(jù)更優(yōu)選實(shí)施例，傳送氣體是空氣。很自然地，根據(jù)不同應(yīng)用，其他氣體也是可以的。同樣包括清潔或處理氣體。此外,相對于排氣通道的lm2橫截面積,傳送氣體的優(yōu)選流量被調(diào)整為O. I_5m3/min,更優(yōu)選為lm3/min ;并且/或者，流動(dòng)速率中的與傳送方向相反指向(并與傳送方向平行)的分量在傳送面的區(qū)域中為O. 01-5m/s，更優(yōu)選為lm/s。本發(fā)明也可以用作提供用于改造現(xiàn)有技術(shù)中已知設(shè)備的轉(zhuǎn)換套件。相應(yīng)地，這樣的轉(zhuǎn)換套件包括用于關(guān)閉最初排出空氣開口的擋板以及布置在入口或出口的區(qū)域中的新鮮空氣入口和/或排出空氣出口，最初排出空氣開口設(shè)置用于垂直通過并且將集氣室限制到其頂部，其中，新鮮空氣入口具有到外部的流體連接通道，并且排出空氣出口具有到氣體傳輸器件的流體連接通道。換而言之，轉(zhuǎn)換套件提供將進(jìn)行垂直排出空氣抽吸的一般設(shè)備改造成根據(jù)本發(fā)明具有水平流動(dòng)的設(shè)備所需的全部主要部件。顯然，優(yōu)選地，設(shè)置新鮮空氣·入口以及排出空氣出口，以及一般已經(jīng)存在的氣體傳輸器件的互連導(dǎo)致與傳輸方向相反穿過的氣流。還顯然，其他上述部件，諸如用于水平校準(zhǔn)傳送氣體的特別裝置可以包含在上述轉(zhuǎn)換套件中。根據(jù)上述轉(zhuǎn)換套件的優(yōu)選實(shí)施例，布置在排出空氣出口上方的擋板(并且僅僅此板)具有通到位于上方的最初排出空氣開口的缺口。這樣，確保排出空氣僅在引入排氣室的流動(dòng)路徑的端部以及因此在改造后的連續(xù)式設(shè)備的入口處在垂直方向上(雖然是在垂直方向上)被抽吸離開，其可以在集氣室的剩余區(qū)域中僅僅水平流動(dòng)，如本發(fā)明所要求的，因?yàn)樽畛醮嬖诘拇怪遍_口被剩下的擋板關(guān)閉。如上所述，本發(fā)明還涉及一種從用于扁平物體的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的傳送氣體調(diào)節(jié)方法。因此，本發(fā)明涉及一種使用前面描述的設(shè)備通過傳送氣體從用于扁平物體的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的方法，其中該方法的特征在于排氣通道中的傳送氣體被導(dǎo)向與傳送方向相反的方向，并且基本平行于傳送面以及傳送方向。為了避免重復(fù)，參考關(guān)于本發(fā)明的設(shè)備的上述描述?；旧希糜谌コ龤鈶B(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的傳送氣體的流動(dòng)方向具有平行于傳送方向的一個(gè)或幾個(gè)分量。在集氣室內(nèi)部位置處的流動(dòng)的每個(gè)矢量具有一個(gè)或幾個(gè)分量，例如，垂直分量、指向傳送方向的分量以及垂直于其他兩種分量的側(cè)向?qū)虻姆至俊Ｒ虼?，分量?yōu)選地沿著與連續(xù)式設(shè)備的相應(yīng)主方向相對應(yīng)的直角坐標(biāo)系的軸線?，F(xiàn)在，根據(jù)本發(fā)明，平行于傳送面并且平行于傳送方向的分量可以不是零，但是其必須與傳送方向相反。這意味著流動(dòng)并不僅僅包括垂直分量。對于氣流分段移動(dòng)的情況，即，不具有從入口到出口連續(xù)并且平行于傳送面的路徑的情況，個(gè)別的或分段的氣流的各個(gè)分量必須以適當(dāng)方式被類似地導(dǎo)向。后者尤其指這樣的情況，連續(xù)式設(shè)備包括幾個(gè)排出空氣分段，其彼此獨(dú)立地具有本發(fā)明的氣流分量。在下面，除非另有陳述，為簡單的原因，假設(shè)存在一個(gè)單獨(dú)的排氣通道。根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，傳送氣體的流動(dòng)方向僅具有平行于傳送面移動(dòng)的分量。這意味著，氣流僅包括水平分量。這樣的分量例如可以相對于傳送方向橫向流動(dòng)，即，(當(dāng)沿傳送方向看時(shí))從左到右和/或反之亦然。
根據(jù)另一更優(yōu)選實(shí)施例，傳送氣體的流動(dòng)方向還僅具有平行為傳送方向的分量。這意味著，氣流僅包括沿著傳送方向和/或與之相反的水平分量。顯然，平行于傳送面的分量不必然同樣平行于傳送方向。然而，相反，平行于傳送方向的分量也必然平行于傳送面。更優(yōu)選的是，這些分量在連續(xù)式設(shè)備的入口和出口之間不僅平行于傳送面，而且盡可能平行于傳送方向。更優(yōu)選的是，每個(gè)/所有分量(盡可能地)分別從出口到入口導(dǎo)向，并且因此與傳送方向相反。顯然，例如在入口開口和/或出口開口的區(qū)域中，由于結(jié)構(gòu)原因，其在不超出本發(fā)明范圍的情況下必須偏離此方向。對于上述的對流，這在連續(xù)式設(shè)備的入口區(qū)域尤其不成問題，其原因在于，襯底的處理才剛剛開始，所以此處沒有氣泡。另外優(yōu)選的是，傳送氣體具有由至少一個(gè)氣體傳輸器件產(chǎn)生并且/或者被用于水 平校準(zhǔn)傳送氣體的流動(dòng)的裝置導(dǎo)向即偏轉(zhuǎn)的氣流，該氣體傳輸器件布置在排氣通道的區(qū)域并且/或者流體連接到排氣通道。這些優(yōu)選這樣使用的器件和裝置已經(jīng)在上面描述過了，此處省略重復(fù)描述。根據(jù)又一實(shí)施例，偏轉(zhuǎn)的角度或強(qiáng)度取決于流動(dòng)速率。這意味著，與需要具有較大半徑和流線形狀的較輕微的偏轉(zhuǎn)的較高流動(dòng)速率相比，對于較低流動(dòng)速率而言，可以使用更強(qiáng)更突然(abrupt)的偏轉(zhuǎn)。較低流動(dòng)速率在O. ΟΙ-lm/s的范圍內(nèi)，而較高流動(dòng)速率可以達(dá)到5m/s以及更高。根據(jù)又一實(shí)施例，根據(jù)傳送氣體所導(dǎo)出的氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的濃度，控制排氣通道中的傳送氣體的流動(dòng)速率。因此，對于較低濃度，較低的流動(dòng)速率足以。這樣，在不同的情況下，可以做出最經(jīng)濟(jì)的反應(yīng)。優(yōu)選地，設(shè)置相對應(yīng)的傳感器，其測量排出空氣的污染程度并且將其分別傳給控制單元或相對應(yīng)設(shè)置的風(fēng)門片，使得可以根據(jù)需要控制流動(dòng)速率。在下面，借助于附圖，描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。


圖I示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)狀態(tài)的具有排氣裝置的連續(xù)式設(shè)備。圖2示出具有根據(jù)本發(fā)明的裝置的連續(xù)式設(shè)備。圖3示出實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的方法時(shí)的單個(gè)扁平物體的區(qū)域中的情況。
具體實(shí)施例方式圖I中圖示的設(shè)備給出了公知連續(xù)式設(shè)備I的排氣裝置的構(gòu)造的概略圖。此設(shè)備I包括充滿處理液F的處理池4。在處理液F的表面，本方案中被稱為襯底的扁平物體3在傳送面6上沿傳送方向7水平導(dǎo)引。為此，使用連續(xù)式傳送裝置5，在圖示示例中，其具有許多彼此之間布置足夠近的輥(圖中示出為大的實(shí)心圓)。基于在垂直方向精確調(diào)整的位置，襯底3僅僅單側(cè)即下側(cè)被處理液F處理。集氣室10位于充滿處理液F的處理池4上方。集氣室10通過柵格與位于集氣室10上方的排氣室分隔。襯底3通過入口 8進(jìn)入集氣室10，通過出口 9離開集氣室10。集氣室10用來收集氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物2 (在所有圖中示為小的非實(shí)心圓)。這些反應(yīng)產(chǎn)物2在化學(xué)處理過程中尤其是在襯底3的下側(cè)形成，其從處理液F中浮現(xiàn)出，并且必須傳送離開以避免襯底頂側(cè)的不期望處理。為此，傳送氣體G，本案中的周圍空氣，通過入口 8和出口 9抽吸進(jìn)來。傳送氣體G使得反應(yīng)產(chǎn)物2與其一起沿其路徑穿過在向上的方向上限制集氣室10的柵格。傳送氣體G的流動(dòng)用粗實(shí)線箭頭表示。反應(yīng)產(chǎn)物2的幾條流路用細(xì)虛線箭頭表示。如從圖I中可以得到，這些流路沒有沿著從處理液F表面到柵格的最短路徑流動(dòng)并穿過柵格，而是首先以不受控制的方式漂過集氣室10，直到距離柵格足夠近。此原因在于，集氣室10的中央?yún)^(qū)域的傳送氣體G的垂直流動(dòng)非常弱。因此，尤其在中央?yún)^(qū)域，襯底頂側(cè)被氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物2的不期望處理的危險(xiǎn)增大。此外，當(dāng)反應(yīng)產(chǎn)物2突破處理液F的表面時(shí)，形成的液滴以不受控制的方式沿所有方向(未示出)飛散。因此，同樣存在襯底表面的污染危險(xiǎn)。根據(jù)圖2所示本發(fā)明的設(shè)備有效地避免這些問題。設(shè)備在傳送線的一端(出口 9)的區(qū)域具有入口開口 11以及在傳送線的另一端(入口 8)的區(qū)域中具有出口開口 12，使得在入口開口 11和出口開口 12之間形成包括集氣室10的排氣通道13，通過該排氣通道13，傳送氣體G可以沿與傳送方向7相反的方向流動(dòng)。為了確保流入集氣室10的出口 9區(qū)域中的傳送氣體G基本不具有垂直分量，此處 設(shè)置傳送氣體G的流動(dòng)的水平校準(zhǔn)裝置14，在本案中設(shè)計(jì)為隔板。因?yàn)榕艢馔ǖ?3在其端部前不遠(yuǎn)處具有出口開口 12，在本案中，布置在連續(xù)式設(shè)備I的入口 8的區(qū)域中，傳送氣體G基本水平地流過集氣室10。由此獲得以下好處。氣流在集氣室10的任何位置以相同速度和強(qiáng)度流動(dòng)。絕不會(huì)出現(xiàn)像公知設(shè)備那樣的不均勻去除。因?yàn)闆]有柵格等阻礙傳送氣體G的流動(dòng)，氣體傳送裝置(未示出)可以設(shè)計(jì)成相應(yīng)較小的尺寸，或者對于給定尺寸，其一般具有功率儲(chǔ)備(power reserve)。因?yàn)閭魉蜌怏wG沿與傳送方向7相反的方向流動(dòng)，故而避免了因飛散液體對襯底頂側(cè)的污染。該情況在圖3中示出。因?yàn)檫B續(xù)式傳送裝置5的輥如旋轉(zhuǎn)箭頭所示地順時(shí)針旋轉(zhuǎn)，所以傳送方向7在圖中為從左向右的方向。襯底3的垂直位置被精確調(diào)整，使得僅其下側(cè)與處理液F接觸。此外，當(dāng)處理液F被輥5帶起并間接地傳輸?shù)奖欢ㄎ怀杀葓D示位置稍高一點(diǎn)的襯底3上時(shí)(根據(jù)未圖示的方案)，也可以獲得相當(dāng)?shù)奶幚斫Y(jié)果。根據(jù)本發(fā)明主張的，為了去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物2，傳送氣體G的流動(dòng)方向具有與傳送方向7相反指向的分量。甚至于其主要具有與傳送面6平行的分量。例外情況為新鮮空氣入口 11以及排出空氣出口 12的區(qū)域，在該區(qū)域，基于結(jié)構(gòu)原因，流動(dòng)格外地還具有垂直分量。可以看出，累積在襯底3下側(cè)的氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物2在襯底后邊緣(圖中的左側(cè))區(qū)域上升。由于用粗實(shí)線箭頭表示的傳送氣體G的流動(dòng)，在氣泡的爆裂過程中形成的飛散液體被傳送遠(yuǎn)離襯底3的后邊緣和表面(朝向圖中的左側(cè))。結(jié)果，不需要擔(dān)憂襯底頂側(cè)的污染。本發(fā)明的設(shè)備和方法在這方面顯著不同于公知技術(shù)中已知的設(shè)備和方法。本發(fā)明以一種有益的方式提供設(shè)備和方法，其能進(jìn)行扁平物體例如硅襯底的單側(cè)濕法化學(xué)處理，同時(shí)排出產(chǎn)生的反應(yīng)氣體，其中在不需要保護(hù)頂側(cè)的情況下避免了由于爆裂氣泡引起的頂側(cè)的不期望浸濕的上述問題。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例能夠以簡單劃算的方式對現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)。符號說明
I連續(xù)式設(shè)備2氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物3扁平物體，襯底4處理池5連續(xù)式傳送裝置，輥6傳送面
7傳送方向8入口9出口10集氣室11新鮮空氣入口，入口開口12排出空氣出口，出口開口13排氣通道14水平校準(zhǔn)裝置F處理液G傳送氣體
權(quán)利要求
1.一種設(shè)備，其通過傳送氣體(G)從用于扁平物體(3)的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備(I)中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物(2)，所述設(shè)備包括入口(8)、用于收容處理液(F)的處理池(4)、具有傳送面(6)的用于沿傳送方向(7)水平傳送扁平物體(3)的連續(xù)式傳送器件(5)、出口( 9 )以及布置在所述傳送面(6 )上方的用于氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物(2 )的集氣室(10 )，其特征在于為形成排氣通道(13 )，所述集氣室(10 )在所述出口( 9 )的區(qū)域設(shè)置入口開口( 11)以及在所述入口(8)的區(qū)域設(shè)置出口開口(12)，以這樣的方式使得所述傳送氣體(G)能夠沿與所述傳送方向(7)相反的方向并且基本平行于所述傳送面(6)和所述傳送方向(7)流過所述排氣通道(13)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，其中，所述入口開口(11)由所述設(shè)備的所述出口(9)形成，并且/或者所述出口開口( 12)由所述設(shè)備的所述入口(8)形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的設(shè)備，還包括氣體傳輸器件和/或用于影響所述傳送氣體(G)的流動(dòng)速率的裝置，所述氣體傳輸器件布置于所述排氣通道(13)的區(qū)域中，并且/或者其流體連接到所述排氣通道(13)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，還包括控制單元，所述控制單元控制所述氣體傳輸器件和/或用于影響流動(dòng)速率的裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求廣4中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，還包括用于所述傳送氣體(G)的流動(dòng)的水平校準(zhǔn)的裝置(14)。
6.根據(jù)權(quán)利要求f5中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，至少一個(gè)另外的入口開口和/或出口開口布置在所述集氣室(10)的區(qū)域中。
7.根據(jù)權(quán)利要求I飛中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述傳送氣體(G)是空氣，并且/或者，相對于所述排氣通道(13)的lm2橫截面積，所述傳送氣體(G)的流量被調(diào)整為O. I_5m3/min,優(yōu)選為lm3/min ;并且/或者其中,流動(dòng)速率中的指向所述傳送方向(7)反向的分量在所述傳送面(6)的區(qū)域中為0.01-5m/s，優(yōu)選為lm/s。
8.一種方法，其使用權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備通過傳送氣體(G)從用于扁平物體(3)的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備(I)中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物(2)，其特征在于所述排氣通道(13)中的所述傳送氣體(G)被導(dǎo)向與所述傳送方向(7)相反的方向并且基本平行于所述傳送面(6)以及所述傳送方向(7)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述設(shè)備包括入口(8)、用于收容處理液(F)的處理池(4)、具有傳送面(6)的用于沿傳送方向(7)水平傳送扁平物體(3)的連續(xù)式傳送器件(5 )、出口( 9 )以及布置在所述傳送面(6 )上方的用于氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物(2 )的集氣室(10 )，并且其中，為形成排氣通道(13)，所述集氣室(10)在所述出口(9)的區(qū)域設(shè)置入口開口(11)以及在所述入口( 8 )的區(qū)域設(shè)置出口開口( 12 )。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其中，所述傳送氣體(G)具有由布置在所述排氣通道(13)的區(qū)域中并且/或者流體連接到所述排氣通道(13)的至少一個(gè)氣體傳輸器件產(chǎn)生的氣流，并且/或者所述氣流通過用于所述傳送氣體(G)的所述氣流的水平校準(zhǔn)的裝置(14)而偏轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述排氣通道(13)中的所述傳送氣體(G)的所述氣流的速率根據(jù)所述傳送氣體(G)所導(dǎo)出的氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物(2)的濃度來控制。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種改善在襯底的化學(xué)連續(xù)式處理過程中去除含有反應(yīng)氣體的空氣的設(shè)備及方法。該設(shè)備通過傳送氣體從用于扁平物體的單側(cè)濕法化學(xué)處理的連續(xù)式設(shè)備中去除氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，其包括入口、用于收容處理液的處理池、具有傳送面的用于沿傳送方向水平傳送扁平物體的連續(xù)式傳送器件、出口以及布置在傳送面上方的用于氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物的集氣室。其特征在于為形成排氣通道，集氣室在出口的區(qū)域設(shè)置入口開口以及在入口的區(qū)域設(shè)置出口開口，以該方式使得傳送氣體能夠沿與傳送方向相反的方向且基本平行于傳送面和傳送方向流動(dòng)穿過排氣通道。本發(fā)明方法的特征在于排氣通道中的傳送氣體被導(dǎo)向與傳送方向相反的方向并且基本平行于傳送面以及傳送方向。
文檔編號H01L21/02GK102909205SQ20121027740
公開日2013年2月6日 申請日期2012年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月5日
發(fā)明者迪爾克·巴賴斯, 弗洛里安·卡爾滕巴赫, 安德烈·林德特, 帕斯奎爾·羅恰, 霍爾格·施普倫格 申請人:睿納有限責(zé)任公司