專利名稱：蓋體開(kāi)閉裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種用于開(kāi)閉對(duì)構(gòu)成FOUP的一部分的基板的取出ロ進(jìn)行堵塞的蓋體的蓋體開(kāi)閉裝置。
背景技術(shù)：
作為半導(dǎo)體制造裝置之一，例如有一種對(duì)多個(gè)半導(dǎo)體晶圓(以下稱為晶圓)批量進(jìn)行熱處理的立式熱處理裝置。該立式熱處理裝置設(shè)置在大氣氣氛中，包括載體輸送區(qū)域，其用于輸送用于存儲(chǔ)晶圓的被稱為FOUP的載體；晶圓輸送區(qū)域，其用于將所述晶圓移載到作為基板保持器具的晶圓舟皿并向熱處理爐進(jìn)行輸送；隔壁，其設(shè)置在上述載體輸送區(qū)域與晶圓輸送區(qū)域之間。為了防止晶圓在處理過(guò)程中附著顆粒，使晶圓輸送區(qū)域比載體輸送區(qū)域保持高清潔度。
在所述_壁上形成有晶圓的輸送ロ，利用符合FIMS (Front-opening InterfaceMechanical Standard)規(guī)格的開(kāi)閉門對(duì)該輸送ロ進(jìn)行開(kāi)閉。所述開(kāi)閉門具有用于對(duì)設(shè)置在載體前表面的蓋體進(jìn)行拆卸的拆卸機(jī)構(gòu)。即，要求開(kāi)閉門具有為了在載體內(nèi)與晶圓輸送區(qū)域之間交接晶圓而對(duì)蓋體進(jìn)行開(kāi)閉的作用與將晶圓輸送區(qū)域與載體輸送區(qū)域隔離開(kāi)的作用。但是，半導(dǎo)體器件的高性能化及小型化逐漸發(fā)展，因此，用于該器件的配線寬、設(shè)計(jì)規(guī)則(design rule)等更加狹小，并且還需要留意以往不成為問(wèn)題的顆粒大小、數(shù)量。即，要求使晶圓輸送區(qū)域保持更高清潔度。另ー方面，從抑制半導(dǎo)體器件的制造成本的觀點(diǎn)來(lái)看，使裝置的設(shè)置環(huán)境、即所述載體輸送區(qū)域保持低清潔度是有效的。但是，載體輸送區(qū)域的清潔度低時(shí)，載體上就容易附著顆粒。而且，由于所述輸送ロ的開(kāi)閉門是在保持著載體的蓋體的狀態(tài)下向晶圓輸送區(qū)域側(cè)打開(kāi)，因此有可能附著于該蓋體的顆粒被帶入晶圓輸送區(qū)域而導(dǎo)致晶圓輸送區(qū)域的清潔度降低。在專利文獻(xiàn)I中，示出了ー種在所述隔壁上設(shè)有用于對(duì)載體的蓋體噴出氣體的噴嘴來(lái)去除附著在蓋體上的顆粒的裝置。但是，從上述那樣的情況來(lái)看，要求有ー種能更可靠地去除附著在載體的蓋體上的顆粒的裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況完成的，其目的是提供一種能夠防止FOUP的輸送區(qū)域的顆粒借助該FOUP的蓋體混入基板輸送區(qū)域的技木。本發(fā)明的蓋體開(kāi)閉裝置的特征在于，其是FOUP的開(kāi)閉裝置，該蓋體開(kāi)閉裝置通過(guò)使FOUP的基板取出ロ的ロ緣部緊貼于利用開(kāi)閉門進(jìn)行開(kāi)閉的輸送ロ的ロ緣部，并使設(shè)置在所述開(kāi)閉門的與所述FOUP相対的相對(duì)面部上的蓋體拆卸機(jī)構(gòu)經(jīng)由FOUP的蓋體的前表面?zhèn)鹊拈_(kāi)ロ部進(jìn)入蓋體內(nèi)，來(lái)解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體，所述輸送ロ形成在用于劃分FOUP的輸送區(qū)域的氣氛與基板輸送區(qū)域的氣氛的隔壁上，該蓋體開(kāi)閉裝置包括載置臺(tái)，其用于以所述蓋體的前表面朝向所述輸送ロ的方式載置FOUP ;氣體噴出ロ，其設(shè)置在所述相對(duì)面部上，供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體；進(jìn)退機(jī)構(gòu)，其使載置在所述載置臺(tái)上的FOUP相對(duì)于所述相對(duì)面部進(jìn)退；控制部，其輸出控制信號(hào)，使得在該FOUP利用所述進(jìn)退機(jī)構(gòu)相對(duì)于所述相對(duì)面部前進(jìn)到從所述氣體噴出ロ到所述FOUP的蓋體的距離是5mm以下的第I位置上吋，從該氣體噴出ロ向所述蓋體供給吹掃氣體。上述蓋體開(kāi)閉裝置例如具體構(gòu)成為如下所述。(a)所述控制部輸出控制信號(hào)，使得在使FOUP以第I速度前進(jìn)到所述第I位置之后持續(xù)供給吹掃氣體的狀態(tài)下，使該FOUP在所述第I位置停止或利用所述進(jìn)退機(jī)構(gòu)使該FOUP相對(duì)于相對(duì)面部以比第I速度慢的第2速度向比所述第I位置靠近所述相對(duì)面部的第2位置前進(jìn)。(b)所述進(jìn)退機(jī)構(gòu)是使所述載置臺(tái)相對(duì)于所述隔壁的輸送ロ進(jìn)行進(jìn)退的機(jī)構(gòu)。
(C)在所述相對(duì)面部上設(shè)有從該氣體噴出口向該氣體噴出口的外方延伸的回旋槽。(d)具有用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化的第I電離器。(e)具有過(guò)濾器単元與第2電離器，所述過(guò)濾器單元設(shè)在所述載置臺(tái)的上方，并具有過(guò)濾器，該過(guò)濾器単元將通過(guò)所述過(guò)濾器被浄化后的大氣朝向下方供給并形成下降氣流；所述第2電離器用于使從所述過(guò)濾器単元供給的大氣離子化。本發(fā)明的另ー蓋體開(kāi)閉裝置的特征在于，其是FOUP的開(kāi)閉裝置，該蓋體開(kāi)閉裝置通過(guò)使FOUP的基板取出ロ的ロ緣部緊貼于利用開(kāi)閉門進(jìn)行開(kāi)閉的輸送ロ的ロ緣部，并使設(shè)置在所述開(kāi)閉門的與所述FOUP相対的相對(duì)面部上的蓋體拆卸機(jī)構(gòu)經(jīng)由FOUP的蓋體的前表面?zhèn)鹊拈_(kāi)ロ部進(jìn)入蓋體內(nèi)，來(lái)解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體，所述輸送ロ形成在用于劃分FOUP的輸送區(qū)域的氣氛和基板輸送區(qū)域的氣氛的隔壁上，該蓋體開(kāi)閉裝置包括載置臺(tái)，其用于以使所述蓋體的前表面朝向所述輸送ロ的方式載置FOUP ;氣體噴出ロ，其設(shè)置在所述相對(duì)面部上，供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體；進(jìn)退機(jī)構(gòu)，其使載置在所述載置臺(tái)上的FOUP相對(duì)于所述相對(duì)面部進(jìn)退；第I電離器，其用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化。順便提一下,FOUP是Front-Opening Unified Pod的簡(jiǎn)稱,一般是指用于輸送、保管其直徑為300mm的晶圓的載體，但作為在此所說(shuō)的FOUP的容納對(duì)象的基板，如后述那樣不限于晶圓，并且其直徑也不限于300mm。并且，使FOUP主體與蓋體卡合的機(jī)構(gòu)不限于實(shí)施方式中所述那樣的利用轉(zhuǎn)動(dòng)部的轉(zhuǎn)動(dòng)使直動(dòng)部升降的結(jié)構(gòu)，而是包括利用進(jìn)入蓋體內(nèi)部的蓋體拆卸機(jī)構(gòu)來(lái)解除卡合的所有機(jī)構(gòu)


以下插入與

相關(guān)的固定句圖I是應(yīng)用了本發(fā)明的蓋體開(kāi)閉裝置的立式熱處理裝置的縱剖視圖。圖2是所述立式熱處理裝置的俯視圖。圖3是設(shè)置在所述立式熱處理裝置上的電離器的上表面圖。圖4是載體及設(shè)置在所述立式熱處理裝置上的開(kāi)閉門的縱剖視圖。圖5是所述載體及所述開(kāi)閉門的橫剖視圖。圖6是所述載體及供所述開(kāi)閉門設(shè)置的開(kāi)ロ部的立體圖。
圖7是設(shè)置在所述開(kāi)閉門上的氣體噴出口的俯視圖。圖8是表示所述蓋體被拆卸的樣子的エ序圖。圖9是表示所述蓋體被拆卸的樣子的エ序圖。圖10是表示所述蓋體被拆卸的樣子的エ序圖。圖11是表示所述蓋體被拆卸的樣子的エ序圖。圖12是表示所述蓋體被拆卸的樣子的エ序圖。圖13是表不另一蓋體的拆卸エ序的說(shuō)明圖。圖14是表示評(píng)價(jià)試驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)裝置的立體圖。
圖15是表示所述實(shí)驗(yàn)裝置的橫剖視圖。圖16是表示所述評(píng)價(jià)試驗(yàn)的結(jié)果的圖表。圖17是表示所述評(píng)價(jià)試驗(yàn)的結(jié)果的圖表。
具體實(shí)施例方式第I實(shí)施方式說(shuō)明組裝有本發(fā)明的蓋體開(kāi)閉裝置的立式熱處理裝置。圖I是立式熱處理裝置I的縱剖視圖，圖2是立式熱處理裝置I的俯視圖。圖中附圖標(biāo)記11是構(gòu)成立式熱處理裝置I的外殼體的框體，在該框體11內(nèi)形成有載體輸送區(qū)域Si，其用于相對(duì)于裝置搬入、搬出作為用于存儲(chǔ)被處理體即晶圓W的容器的載體C ;晶圓輸送區(qū)域S2，其作為移載區(qū)域，用于輸送載體C內(nèi)的晶圓W并將該晶圓W搬入后述的熱處理爐內(nèi)。載體C是如上所述的F0UP。載體輸送區(qū)域S I與晶圓輸送區(qū)域S2被隔壁2分隔。載體輸送區(qū)域SI是大氣氣氛。另ー方面，為了防止在所搬入的晶圓W上形成氧化膜，晶圓輸送區(qū)域S2被設(shè)置為非活性氣體氣氛例如氮?dú)?N2)氣體氣氛,并被維持為比載體輸送區(qū)域SI的清潔度高的清潔度且低氧濃度。在后面的裝置說(shuō)明中，將載體輸送區(qū)域SI及晶圓輸送區(qū)域S2的排列方向作為立式熱處理裝置I的前后方向。說(shuō)明載體輸送區(qū)域SI。載體輸送區(qū)域SI由第I輸送區(qū)域12與位于第I輸送區(qū)域12的后方側(cè)(晶圓輸送區(qū)域S2側(cè))的第2輸送區(qū)域13構(gòu)成。沿第I輸送區(qū)域12的左右方向設(shè)有分別載置載體C的兩個(gè)第I載置臺(tái)14。在各第I載置臺(tái)14的載置面的例如3個(gè)位置設(shè)有用于對(duì)載體C進(jìn)行定位的銷15。在第2輸送區(qū)域13中，以相對(duì)于第I載置臺(tái)14前后排列的方式設(shè)有左右兩個(gè)第2載置臺(tái)16。各第2載置臺(tái)16利用進(jìn)退機(jī)構(gòu)17能夠前后自由移動(dòng)，各第2載置臺(tái)16在用于將晶圓W后述的從載體C交接到晶圓輸送區(qū)域S2的交接位置與后述的從載體輸送機(jī)構(gòu)21接收載體C的接收位置之間輸送該載體C。與第I載置臺(tái)14相同，在第2載置臺(tái)16的載置面上的3個(gè)位置也設(shè)有用于對(duì)載體C進(jìn)行定位的銷15。另外，所述載置面上設(shè)有用于固定載體C的鉤狀件16a。在第2輸送區(qū)域13的上部側(cè)設(shè)有用于保管載體C的載體保管部18。載體保管部18由兩層架構(gòu)成，各架能夠在左右載置兩個(gè)載體C。并且，在第2輸送區(qū)域13設(shè)有用于在第I載置臺(tái)14、第2載置臺(tái)16和載體保管部18之間輸送載體C的載體輸送機(jī)構(gòu)21。該載體輸送機(jī)構(gòu)21包括引導(dǎo)部21a,其能夠左右延伸且能夠自由升降；移動(dòng)部21b，其被該引導(dǎo)部21a引導(dǎo)地左右移動(dòng)；關(guān)節(jié)臂21c，其設(shè)置在該引導(dǎo)部21a上，用于保持載體C并沿水平方向輸送該載體C。
在第2輸送區(qū)域13的頂部設(shè)有具有HEPA過(guò)濾器或ULPA過(guò)濾器的過(guò)濾器単元31，該過(guò)濾器単元31將通過(guò)上述過(guò)濾器而被凈化后的空氣向下方供給。在過(guò)濾器単元31的下方設(shè)有電離器32，該電離器32將從所述過(guò)濾器単元31供給的空氣離子化。被離子化了的空氣被向第2載置臺(tái)16供給。圖3表示電離器32的上表面。電離器32例如由這樣橫向排列的多個(gè)棒狀電極34構(gòu)成，所述空氣通過(guò)電極34之間被向下方供給。自電源35向電極34施加有交流電壓?？諝馀c形成在被施加了交流電壓的電極34周圍的電場(chǎng)接觸，從而該空氣被離子化，產(chǎn)生陽(yáng)性的空氣離子與陰性的空氣離子。該被離子化了的空氣接觸到帶電物時(shí)，同極性的離子發(fā)生排斥，相反極性的離子發(fā)生吸引，其結(jié)果帶電物被消除電荷。
在隔壁2上設(shè)有使載體輸送區(qū)域SI與晶圓輸送區(qū)域S2相連通的晶圓W的輸送ロ20。輸送ロ 20設(shè)有從晶圓輸送區(qū)域S2側(cè)對(duì)該輸送ロ 20進(jìn)行堵塞的開(kāi)閉門5。開(kāi)閉門5連接有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50，開(kāi)閉門5構(gòu)成為利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50能沿前后方向及上下方向自由移動(dòng)，從而開(kāi)閉輸送ロ 20。后面詳細(xì)敘述該開(kāi)閉門5及輸送ロ 20周圍的結(jié)構(gòu)。在晶圓輸送區(qū)域S2設(shè)有下端開(kāi)ロ為爐ロ的立式熱處理爐22，在該熱處理爐22的下方側(cè)，以架狀保持多張晶圓W的晶圓舟皿23隔著隔熱部24載置于蓋25上。蓋25被支承在升降機(jī)構(gòu)26上，利用該升降機(jī)構(gòu)26使晶圓舟皿23相對(duì)于熱處理爐22進(jìn)行搬入或搬出。另外，在晶圓舟皿23與隔壁2的輸送ロ 20之間設(shè)有晶圓輸送機(jī)構(gòu)27。該晶圓輸送機(jī)構(gòu)27在沿向左右延伸的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)27a移動(dòng)并繞鉛垂軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的移動(dòng)體27b上設(shè)有5個(gè)能自由進(jìn)退的臂27c，該晶圓輸送機(jī)構(gòu)27用于在晶圓舟皿23與第2載置臺(tái)16上的載體C之間輸送晶圓W。圖4和圖5分別是載體C、晶圓W的輸送ロ 20及開(kāi)閉門5的縱剖視圖和橫剖視圖，圖6是輸送ロ 20及載體C的立體圖。用這些誒圖4 圖6說(shuō)明載體C，載體C由作為容器主體的載體主體41與蓋體42構(gòu)成。在載體主體41內(nèi)的左右設(shè)有多層用于支承晶圓W的背面?zhèn)戎芫壊康闹С胁?1a。在載體主體41的前表面上形成有晶圓W的取出ロ 43。圖中附圖標(biāo)記44是所述取出口 43的開(kāi)ロ緣部，開(kāi)ロ緣部44的內(nèi)周側(cè)的左右的上下分別形成有卡合槽44a。在載體主體41的上部設(shè)有用于使前文所述的基板輸送機(jī)構(gòu)21輸送載體C而進(jìn)行把持的把持部41b。另外，如圖4所示，在載體主體41的下部設(shè)有凹部45a與槽部45b，凹部45a供第I載置臺(tái)14及第2載置臺(tái)16的銷15嵌合。槽部45b與第2載置臺(tái)16的鉤狀件16a相卡合,通過(guò)該卡合,載體主體41被固定在第2載置臺(tái)16上。說(shuō)明載體C的蓋體42，在蓋體42的內(nèi)部的左右設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)部46。在轉(zhuǎn)動(dòng)部46的上下設(shè)有在鉛垂方向上延伸的直動(dòng)部47。該直動(dòng)部47構(gòu)成為根據(jù)轉(zhuǎn)動(dòng)部46的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行升降，在其頂端從蓋42的側(cè)面突出的狀態(tài)與其頂端被拉入蓋體42內(nèi)的狀態(tài)之間進(jìn)行切換。圖6表示所述直動(dòng)部47的頂端突出的狀態(tài)。該頂端與所述載體主體41的卡合槽44a相卡合，由此蓋體42與載體主體41相卡合。在蓋體42的前表面設(shè)有用于供后述的鍵69插入到蓋體42的內(nèi)部的開(kāi)ロ部48。接著，說(shuō)明開(kāi)閉門5及晶圓W的輸送ロ 20的結(jié)構(gòu)。在輸送ロ 20的載體輸送區(qū)域SI側(cè)的ロ緣部的、載體主體41的開(kāi)ロ緣部44所抵接的位置設(shè)有密封構(gòu)件51。另外，如圖5所示，在輸送ロ 20的側(cè)緣部側(cè)鉛垂設(shè)有N2氣體供給管52。該N2氣體供給管52在上下具有氣體供給ロ 53。為了在載體C與晶圓輸送區(qū)域S2之間交接晶圓W而使載體C移動(dòng)到開(kāi)ロ緣部44緊貼于密封構(gòu)件51的位置(作為交接位置)時(shí)，該氣體供給ロ 53向載體C與開(kāi)閉門5所圍成的閉塞空間內(nèi)供給N2氣體。另外，在輸送ロ 20的下端部設(shè)有橫向長(zhǎng)的排氣ロ 55。圖中附圖標(biāo)記55a是為了抑制橫向的排氣偏向一方而設(shè)置在排氣ロ 55上的多孔質(zhì)體。開(kāi)閉門5形成為其周緣部向載體輸送區(qū)域S I側(cè)彎曲的箱體，在該箱體的開(kāi)ロ緣設(shè)有密封構(gòu)件56，開(kāi)閉門5隔著該密封構(gòu)件56緊貼于搬送ロ 20的緣部。 在開(kāi)閉門5的載體輸送區(qū)域SI側(cè)設(shè)有蓋體42的拆卸機(jī)構(gòu)6。該拆卸機(jī)構(gòu)6具有相對(duì)板61和使相對(duì)板61沿前后方向移動(dòng)的進(jìn)退機(jī)構(gòu)62。相對(duì)板61具有與載置在第2載置臺(tái)16上的蓋體42的前表面相對(duì)的相對(duì)面部60。如圖6所示,在相對(duì)面部60上,例如在橫向的中央的上下分別開(kāi)ロ有氣體噴出口 63。在氣體噴出口 63上連接有配管64的一端，配管64的另一端連接在N2氣體供給機(jī)構(gòu)65上，N2氣體供給機(jī)構(gòu)65用于向下游側(cè)加壓輸送作為吹掃氣體的N2氣體。在配管64上夾設(shè)有電離器66。與上文所述的電離器32相同，該電離器66也具有電極,該電離器66暴露于在該電極的周圍生成的電場(chǎng)中并從所述氣體噴出ロ 63噴出被離子化了的N2氣體。圖4中的附圖標(biāo)記d是相對(duì)面部60與蓋體42的前表面之間的距離。如后述那樣，載體C接近拆卸機(jī)構(gòu)6，該距離d為5mm以下吋，從氣體噴出ロ 63噴出隊(duì)氣體。在相對(duì)面部60上設(shè)有從氣體噴出ロ 63向該氣體噴出ロ 63的外側(cè)回旋地延伸的回旋槽67?；匦?7例如在各氣體噴出口 63的周向上形成4條，形成為分別向左回旋。圖7是氣體噴出ロ 63及回旋槽67的主視圖。在載體C的蓋體42與相對(duì)面部60相対的狀態(tài)下，從氣體噴出口 63噴出N2氣體時(shí)，如圖7的箭頭所示，該N2氣體被回旋槽67引導(dǎo)。由此，產(chǎn)生以氣體噴出口 63為中心的N2氣體的回旋流。另外，氣體噴出口 63的設(shè)置、個(gè)數(shù)不限于此例，例如，也可以在相對(duì)面部60的中央設(shè)置ー個(gè)氣體噴出ロ 63。另外，回旋槽67也可以向右回旋。返回圖4 圖6，從相對(duì)面部60沿其厚度方向延伸出有棒狀的連接部68，在連接部68的頂端設(shè)有圓形棒狀的鍵(插銷)69。連接部68繞其軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，由此，鍵69也轉(zhuǎn)動(dòng)。鍵69與上述蓋體42的轉(zhuǎn)動(dòng)部46相卡合，能夠使該轉(zhuǎn)動(dòng)部46轉(zhuǎn)動(dòng)。由于鍵69的形狀只要是能夠進(jìn)行該卡合即可，因此不限于圖示的圓柱形狀，例如也可以是棱柱形狀，也可以是將這些圓柱或棱柱的角部倒圓后形成的形狀。在該立式熱處理裝置I上設(shè)有例如由計(jì)算機(jī)構(gòu)成的控制部1A。控制部IA具有由程序、存儲(chǔ)器、CPU組成的數(shù)據(jù)處理部等，所述程序中編入有從控制部IA對(duì)立式熱處理裝置I的各部發(fā)送控制信號(hào)而使后述的各處理工序進(jìn)行的命令(各步驟)。根據(jù)該控制信號(hào)來(lái)控制載體C的輸送、第2載置臺(tái)16的進(jìn)退、拆卸機(jī)構(gòu)6的進(jìn)退、晶圓W的輸送、蓋體42的開(kāi)閉、開(kāi)閉門5的開(kāi)閉、對(duì)蓋體42供給凡氣體等動(dòng)作。如后所述進(jìn)行晶圓W的輸送和處理。該程序存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)例如軟盤、光盤、硬盤、MO(磁光盤)及存儲(chǔ)卡等存儲(chǔ)介質(zhì)中而被安裝于控制部1A。下面說(shuō)明上述實(shí)施方式的作用。從過(guò)濾器単元31向下方供給空氣，該空氣被電離器32離子化后再向下方供給，在設(shè)有第2載置臺(tái)16的第2輸送區(qū)域13形成下降氣流。借助于該下降氣流，存在于所述第2輸送區(qū)域13的顆粒被消除電荷，對(duì)載體C的附著力減弱。然后，利用沿?zé)o塵室的頂部移動(dòng)的未圖示的自動(dòng)輸送機(jī)器人將載體C載置到第I載置臺(tái)14上。接著，利用載體輸送機(jī)構(gòu)21將載體C輸送到第2載置臺(tái)16，并利用鉤狀件16a將載體C固定在第2載置臺(tái)16上。第2載置臺(tái)16利用進(jìn)退機(jī)構(gòu)17朝向隔壁2的輸送ロ 20前進(jìn)，載體C在暴露于所述下降氣流下的狀態(tài)下移動(dòng)。利用下降氣流消除附著于載體C的顆粒P的電荷，該顆粒P相對(duì)于載體C的附著力減弱并被該氣流吹走而被從載體C去除(圖8)。當(dāng)相對(duì)面部60與載體C的蓋體42之間的距離d達(dá)到5mm時(shí)，第2載置臺(tái)16的移動(dòng)速度減慢，并從該氣體噴出口 63向蓋體42噴出利用電尚器66尚子化了的N2氣體。從該氣體噴出ロ 63噴出的N2氣體流過(guò)蓋體42的前表面與拆卸機(jī)構(gòu)6的相對(duì)面部60之間的間隙，消除附著在蓋體42的前表面的顆粒P的電荷，該顆粒P對(duì)蓋體42的附著力減弱。然后，利用該N2氣體從蓋體42吹走并除去附著力減弱后的顆粒P (圖9)。載體C繼續(xù)前進(jìn)，拆卸機(jī)構(gòu)6的鍵69經(jīng)由蓋體42的開(kāi)ロ部48進(jìn)入蓋體42內(nèi)，當(dāng) 上述距離d達(dá)到規(guī)定的大小時(shí)，停止從氣體噴出口 63噴出凡氣體。載體C進(jìn)ー步前進(jìn)，移動(dòng)到用于交接晶圓的交接位置，載體C的開(kāi)ロ緣部44與隔壁2的輸送ロ 20的周圍的密封構(gòu)件51相抵接，在載體C與開(kāi)閉門5之間形成閉塞空間54，并且所述拆卸機(jī)構(gòu)6的鍵69與蓋體42內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)部46相卡合(圖10)。所述閉塞空間54的大氣氣氛被從排氣ロ 55排出，并且從氣體供給ロ 53向該閉塞空間54供給N2氣體，在該閉塞空間54中形成N2氣體氣氛。鍵69轉(zhuǎn)動(dòng)90度，解除蓋體42與載體主體41的卡合，并且將蓋體42保持在鍵69上，在鍵69保持蓋體42的狀態(tài)下，相對(duì)板61向開(kāi)閉門5后退，開(kāi)放載體主體41的晶圓W的取出口 43 (圖11)。開(kāi)閉門5后退后，下降而從輸送ロ 20退避，載體C內(nèi)向晶圓輸送區(qū)域S2開(kāi)放(圖12)，利用晶圓輸送機(jī)構(gòu)27依次取出載體C內(nèi)的晶圓W并移載到晶圓舟皿23。當(dāng)載體C內(nèi)的晶圓W沒(méi)有時(shí)，利用與上述相反的動(dòng)作，將載體C的蓋體42關(guān)閉并固定在載體主體41上。然后，第2載置臺(tái)16后退，載體C離開(kāi)隔壁2，利用載體輸送機(jī)構(gòu)21將載體C輸送到載體保管部18暫時(shí)保管。另ー方面，將搭載了載體W的晶圓舟皿23搬入到熱處理爐22內(nèi)，對(duì)晶圓W進(jìn)行熱處理例如CVD、退火處理、氧化處理等。之后，當(dāng)處理完的晶圓W返回載體C吋，也利用與從載體C取出晶圓W時(shí)相同的步驟打開(kāi)蓋體42。該立式熱處理裝置I具有設(shè)置在用于開(kāi)閉隔壁的輸送ロ 20的開(kāi)閉門5上、與載體C的蓋體42的前表面相對(duì)的相對(duì)板61和設(shè)置在該相對(duì)板61的相對(duì)面部60上的氣體噴出ロ 63，并在所述相對(duì)面部60與所述蓋體42之間的距離d為5mm時(shí)，從氣體噴出ロ 63噴出N2氣體。也如后述實(shí)驗(yàn)所示那樣，通過(guò)這樣調(diào)整距離d，能夠加大所述N2氣體的流速，可靠地去除附著在蓋體42上的顆粒。因此，能夠抑制顆粒借助蓋體42從載體輸送區(qū)域SI混入晶圓輸送區(qū)域S2。根據(jù)后述實(shí)驗(yàn)，所述距離d不限于5mm，5mm以下即可。由于所述N2氣體被電離器66離子化，因此能夠更可靠地去除蓋體42的顆粒。另夕卜，利用設(shè)置在所述相對(duì)面部60上的回旋槽67，從相對(duì)板61的厚度方向看，N2氣體的流動(dòng)形成回旋。通過(guò)形成這樣的流動(dòng)，由于作用于顆粒的風(fēng)壓變大，因此能夠提高蓋體42的顆粒的去除率。而且，由于能夠?qū)⒂呻x子化了的N2氣體產(chǎn)生的下降氣流供給至載體C，因此能夠抑制載體C的顆粒附著并提高從載體C去除顆粒的去除率。因而，能夠更可靠地抑制顆粒混入到晶圓輸送區(qū)域S2。另外，加大第2載置臺(tái)16的移動(dòng)速度直至第2載置臺(tái)16到達(dá)從氣體噴出ロ 63噴出N2氣體的位置，在使載體C從所述位置進(jìn)ー步前進(jìn)時(shí)，使該第2載置臺(tái)16的移動(dòng)速度降低。由此，蓋體42暴露在N2氣體中的時(shí)間足夠長(zhǎng)，從而能夠防止顆粒殘留在蓋體上并抑制載體C移動(dòng)到形成所述閉塞空間54的晶圓的交接位置的時(shí)間，抑制生產(chǎn)率的降低。另外，在上述實(shí)施方式中，在從氣體噴出口 63噴出氣體時(shí)使第2載置臺(tái)16的速度降低，但是，也可以代替降低速度而暫時(shí)停止第2載置臺(tái)16的前迸。即，在停止第2載置臺(tái)16的前進(jìn)的狀態(tài)下，也可以繼續(xù)所述N2氣體的供給，并在N2氣體的供給停止后再次使第2載置臺(tái)16前迸。在上述例子中，在使載體C前進(jìn)時(shí)，從氣體噴出口噴出N2氣體，但是也可以在使相對(duì)板61前進(jìn)時(shí)噴出N2氣體。例如，如圖13所述，首先使載體C移動(dòng)到所述交接位置。然 后，使相對(duì)板61朝向載體C前進(jìn)，在如上述那樣距離d為5mm以下時(shí)噴出N2氣體。從蓋體42去除的顆粒P被從排氣ロ 55排出而去除。在該情況下，也與上述例子相同，通過(guò)在開(kāi)始供給N2氣體前加大相對(duì)板61的前進(jìn)速度、在開(kāi)始供給N2氣體后減小相對(duì)板61的前進(jìn)速度，能夠謀求提高生產(chǎn)率與提升顆粒的去除率。另外，在該情況下，也可以代替減小前進(jìn)速度而暫時(shí)停止相對(duì)板61的前進(jìn)來(lái)進(jìn)行氣體供給。對(duì)被處理體是半導(dǎo)體晶圓的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但是被處理體不限于此，也可以是玻璃基板、LCD基板。另外，開(kāi)閉門5及隔壁2不限于劃分大氣氣氛與非活性氣體氣氛,例如也可以是劃分被控制為彼此濕度不同的區(qū)域的結(jié)構(gòu)。另外，從氣體噴出口 63噴出的吹掃氣體不限于N2氣體，也可以是空氣、Ar等其它非活性氣體。評(píng)價(jià)試驗(yàn)I說(shuō)明本發(fā)明相關(guān)的評(píng)價(jià)試驗(yàn)I。如圖14和圖15所示，使兩個(gè)板81、82相対。在板82的中心形成N2氣體的噴出ロ 83，能夠沿板的厚度方向供給從氣體供給管84供給來(lái)的N2氣體。圖中附圖標(biāo)記X表示板81、82之間的間隙。在板81的表面設(shè)定測(cè)定點(diǎn)A，關(guān)于該測(cè)定點(diǎn)A的風(fēng)速，通過(guò)分別改變所述間隙X的大小及來(lái)自噴出口 83的N2氣體流量來(lái)進(jìn)行測(cè)定。圖中附圖標(biāo)記r表示所述測(cè)定點(diǎn)A距離噴出口 83的中心軸線85的距離，該評(píng)價(jià)試驗(yàn)I中，設(shè)定為r = 150mm。N2氣體的流量分別設(shè)定成了 IOslm(L/分鐘)、50slm、lOOslm。圖16的圖表表不實(shí)驗(yàn)結(jié)果。圖表中的縱軸表不測(cè)定點(diǎn)A的風(fēng)速(單位m/秒),橫軸表示所述間隙X的大小(單位mm)。在N2氣體的流量為10slm、50slm、IOOslm的任一種的情況下，都隨著間隙X變大而風(fēng)速變低，在X為5mm處，風(fēng)速接近O。當(dāng)超過(guò)5mm吋，認(rèn)為風(fēng)速大約為0，并認(rèn)為適用于上述實(shí)施方式的情況下的顆粒的去除能力降低，因此如上述實(shí)施方式說(shuō)明的那樣，有必要使蓋體42與相對(duì)面部60之間的距離接近5mm以下。另外，在該評(píng)價(jià)試驗(yàn)I中，無(wú)論N2氣體的流量為哪種的情況下，當(dāng)X為Imm以下時(shí)，風(fēng)速的上升率都提高。因此，在上述實(shí)施方式中，在距離d為Imm以下時(shí)，從氣體噴出口 63噴出N2氣體特別有效。另外，向被帶入無(wú)塵室的材料等噴出空氣而去除顆粒的空氣噴射被設(shè)計(jì)為所述空氣的風(fēng)速是20m 30m/秒。在該實(shí)驗(yàn)所測(cè)定的范圍內(nèi)，將N2氣體流量設(shè)定為lOOslm，在所述X接近O吋，風(fēng)速為20m/秒。因此，為了得到與該空氣噴射同等的性能，在上述實(shí)施方式中將從氣體噴出ロ 63噴出的N2氣體設(shè)定為IOOslm以上的流量是有效的。
評(píng)價(jià)試駘2使用與評(píng)價(jià)試驗(yàn)I相同的裝置，通過(guò)改變所述測(cè)定點(diǎn)A的位置、即所述r的大小進(jìn)行了風(fēng)速測(cè)定。將所述間隙X的大小設(shè)定成1mm。與評(píng)價(jià)試驗(yàn)I相同將N2氣體的流量分別設(shè)定成 10slm、50slm、lOOslm。圖17是表示該實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖表。圖表中的縱軸表示測(cè)定點(diǎn)A的風(fēng)速(単位m/秒)，橫軸表示所述r的大小(單位mm)。如圖表所示，r越小,在各流量間的風(fēng)速的差越大。并且，r越大，在各流量間的風(fēng)速的差越小，逐漸接近O。因此，在相對(duì)板61上，為了可靠地去除顆粒，優(yōu)選設(shè)置多個(gè)該相對(duì)板61的氣體噴出口 63。在本發(fā)明的蓋體開(kāi)閉裝置中，在用于開(kāi)閉隔壁的輸送ロ的開(kāi)閉門的、與FOUP相對(duì)的相對(duì)面部上設(shè)置氣體噴出口，將所述相對(duì)面部與FOUP的蓋體之間的距離控制在5mm以下，進(jìn)行從所述氣體噴出口噴出吹掃氣體。由此，形成在所述蓋體與所述相對(duì)面部之間的氣流的流速變大，將附著在蓋體上的顆粒去除的去除率變高。結(jié)果，能夠抑制該顆?；烊牖宓妮斔蛥^(qū)域的氣氛中。另外，在本發(fā)明的另ー蓋體開(kāi)閉裝置中，從所述氣體噴出口供給被電 離器離子化了的吹掃氣體，因此，容易去除所述顆粒。結(jié)果，能夠抑制該顆?；烊牖宓妮斔蛥^(qū)域的氣氛中。本公開(kāi)是基于2011年3月25日申請(qǐng)的日本特許出愿第2011-068399號(hào)的優(yōu)先權(quán)利益，該日本申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容在這里作為參考文獻(xiàn)而記載。
權(quán)利要求
1.ー種蓋體開(kāi)閉裝置，其是FOUP的開(kāi)閉裝置，該蓋體開(kāi)閉裝置通過(guò)使FOUP的基板取出ロ的ロ緣部緊貼于利用開(kāi)閉門進(jìn)行開(kāi)閉的輸送ロ的ロ緣部，并使設(shè)置在所述開(kāi)閉門的與所述FOUP相対的相對(duì)面部上的蓋體拆卸機(jī)構(gòu)經(jīng)由FOUP的蓋體的前表面?zhèn)鹊拈_(kāi)ロ部進(jìn)入蓋體內(nèi)，來(lái)解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體，所述輸送ロ形成于用于劃分FOUP的輸送區(qū)域的氣氛與基板輸送區(qū)域的氣氛的隔壁上，其特征在于，該蓋體開(kāi)閉裝置包括 載置臺(tái)，其用于以所述蓋體的前表面朝向所述輸送ロ的方式載置FOUP ； 氣體噴出口，其設(shè)置在所述相對(duì)面部上，供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體； 進(jìn)退機(jī)構(gòu)，其使載置于所述載置臺(tái)上的FOUP相對(duì)于所述相對(duì)面部進(jìn)退； 控制部，其輸出控制信號(hào)，使得在從所述相對(duì)面部到所述FOUP的蓋體的距離為5mm以下且FOUP位于蓋體與相對(duì)面部分離的氣體供給有效位置的狀態(tài)下，從所述氣體噴出口向所述蓋體供給吹掃氣體，之后從FOUP拆卸蓋體。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的蓋體開(kāi)閉裝置，其特征在干， 所述控制部輸出控制信號(hào)，使得在FOUP以第I速度前進(jìn)到所述氣體供給有效位置之后持續(xù)供給吹掃氣體的狀態(tài)下，使該FOUP在所述氣體供給有效位置停止或使該FOUP以比第I速度慢的第2速度向比所述氣體供給有效位置接近所述相對(duì)面部的位置前迸。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的蓋體開(kāi)閉裝置，其特征在干， 所述進(jìn)退機(jī)構(gòu)是使所述載置臺(tái)相對(duì)于所述隔壁的輸送ロ進(jìn)行進(jìn)退的機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的蓋體開(kāi)閉裝置，其特征在干， 在所述相對(duì)面部上設(shè)有從該氣體噴出ロ向該氣體噴出口的外方延伸的回旋槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的蓋體開(kāi)閉裝置，其特征在干， 該蓋體開(kāi)閉裝置具有用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化的第I電離器。
6.ー種蓋體開(kāi)閉裝置，其是FOUP的開(kāi)閉裝置，該蓋體開(kāi)閉裝置通過(guò)使FOUP的基板取出ロ的ロ緣部緊貼于利用開(kāi)閉門進(jìn)行開(kāi)閉的輸送ロ的ロ緣部，并使設(shè)置在所述開(kāi)閉門的與所述FOUP相対的相對(duì)面部上的蓋體拆卸機(jī)構(gòu)經(jīng)由FOUP的蓋體的前表面?zhèn)鹊拈_(kāi)ロ部進(jìn)入蓋體內(nèi)，來(lái)解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體，所述輸送ロ形成在用于劃分FOUP的輸送區(qū)域的氣氛與基板輸送區(qū)域的氣氛的隔壁上，其特征在于，該蓋體開(kāi)閉裝置包括 載置臺(tái)，其用于以所述蓋體的前表面朝向所述輸送ロ的方式載置FOUP ； 氣體噴出口，其設(shè)置在所述相對(duì)面部上，供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體； 進(jìn)退機(jī)構(gòu)，其使載置在所述載置臺(tái)上的FOUP相對(duì)于所述相對(duì)面部進(jìn)退； 第I電離器，其用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或6所述的蓋體開(kāi)閉裝置，其特征在于，該蓋體開(kāi)閉裝置包括 過(guò)濾器単元，其設(shè)在所述載置臺(tái)的上方，并具有過(guò)濾器，該過(guò)濾器単元用于將通過(guò)所述過(guò)濾器而被凈化后的大氣朝向下方供給并形成下降氣流； 第2電離器，其用于使從所述過(guò)濾器単元供給的大氣離子化。
全文摘要
本發(fā)明提供一種蓋體開(kāi)閉裝置。該蓋體開(kāi)閉裝置包括載置臺(tái)，其用于以FOUP的蓋體的前表面朝向形成于用于劃分FOUP的輸送區(qū)域的氣氛與基板輸送區(qū)域的氣氛的隔壁上的輸送口的方式載置FOUP；氣體噴出口，其設(shè)置在用于開(kāi)閉輸送口的開(kāi)閉門的與FOUP相對(duì)的相對(duì)面部上，供給用于去除附著在蓋體上的顆粒的吹掃氣體；進(jìn)退機(jī)構(gòu)，其使載置于載置臺(tái)上的FOUP相對(duì)于相對(duì)面部進(jìn)退；控制部，其輸出控制信號(hào)，使得在從相對(duì)面部到FOUP的蓋體的距離為5mm以下且FOUP位于蓋體與相對(duì)面部分離的氣體供給有效位置的狀態(tài)下，從氣體噴出口向蓋體供給吹掃氣體，之后從FOUP拆卸蓋體。
文檔編號(hào)H01L21/673GK102693926SQ20121007709
公開(kāi)日2012年9月26日 申請(qǐng)日期2012年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月25日
發(fā)明者菅原佑道 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社