專利名稱：一種中留邊單層金屬化膜電容器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電容器，尤其涉及一種中留邊單層金屬化膜電容器。
背景技術(shù)：
目前，采用的內(nèi)部串聯(lián)結(jié)構(gòu)的電容器電介質(zhì)為有機薄膜，金屬極板為金屬箔(特別是鋁箔)，具體結(jié)構(gòu)為一層有機薄膜、一層鋁箔(包括兩條不接觸中間留空的鋁箔帶)、一層有機薄膜、一層鋁箔，總共四層構(gòu)成。因金屬箔厚度較大，一般為數(shù)十微米，甚至超過有機薄膜的厚度，制出的電容器體積較大，成本較高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種體積較佳的中留邊單層金屬化膜電容器。本發(fā)明解決現(xiàn)內(nèi)部串聯(lián)電容器缺點的技術(shù)方案為一種中留邊單層金屬化膜電容器，其包括電容器芯子，所述電容器芯子包括卷繞的一層中留邊金屬化膜(1)和一層兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)。作為上述方案的進一步改進，所述中留邊金屬化膜(1)設(shè)置有兩個金屬化層(3)， 所述兩個金屬化層(3)位于所述中留邊金屬化膜(1)的同一側(cè)，且所述兩個金屬化層(3)間隔。優(yōu)選地，所述兩個金屬化層(3)的間隔距離范圍為2飛mm。作為上述方案的進一步改進，所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)設(shè)置有金屬化層 (4)，所述金屬化層(4)位于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的中部，且所述金屬化層(4)與所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的兩端存在距離。優(yōu)選地，所述金屬化層(4)距離所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)兩端的距離范圍為廣3mm。作為上述方案的進一步改進，所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)均為單面金屬化膜。優(yōu)選地，所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的寬度不相等，所述中留邊金屬化膜(1)的寬度大于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2) 的寬度，所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)居中對齊。在優(yōu)選地， 所述中留邊金屬化膜(1)的寬度大于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的寬度范圍為2飛mm。所述中留邊單層金屬化膜電容器，使用金屬化技術(shù)，電容器芯子由一層中留邊單面金屬化膜和一層兩側(cè)邊緣留邊單面金屬化膜卷繞而成，因此具有卷繞工藝簡化、體積小、 成本低、電性能優(yōu)良的特點。


圖1為本發(fā)明較佳實施方式提供的電容器芯子所用薄膜的剖示圖。符號說明_
中留邊金屬化膜|ι~
兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜 2_ 金屬化層|3、具體實施例方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。如圖1所示，中留邊單層金屬化膜電容器的電容器芯子主要由一層中留邊金屬化膜1和一層兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜2卷繞而成。中留邊金屬化膜1上兩側(cè)為金屬化層3，中部約2飛mm的寬度留空無金屬層，即此層基膜上的金屬化層為兩個不相通的金屬帶。兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜2上金屬化層4位于薄膜中間，兩側(cè)邊緣各有約廣3mm的寬度無金屬區(qū)域。兩層金屬化膜均為單面金屬化膜。而且，兩層金屬化膜寬度不相等，中留邊金屬化膜1 寬度大于兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜2約2飛mm，兩層膜居中對齊。本發(fā)明具有如下優(yōu)點
1、金屬化層厚度只有為零點零幾微米，對比金屬箔的數(shù)十微米厚度，實現(xiàn)了內(nèi)部串聯(lián)結(jié)構(gòu)電容器的體積的小幅度減小。2、金屬化后節(jié)省了成本。3、原結(jié)構(gòu)需要卷繞兩層有機薄膜和兩層鋁箔，現(xiàn)結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)為兩層金屬化膜，生產(chǎn)工藝簡化。4、金屬化電容器具有自愈功能，在電容器出來局部擊穿后會恢復(fù)到原來的性能， 但金屬箔電容器就沒有此性能，電容器的電性能得到了提高。上述實施例僅用來進一步說明本發(fā)明為一種中留邊單層金屬化膜電容器，但本發(fā)明并不局限于實施例，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均落入本發(fā)明技術(shù)方案的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種中留邊單層金屬化膜電容器，其包括電容器芯子，其特征是所述電容器芯子包括卷繞的一層中留邊金屬化膜(1)和一層兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述中留邊金屬化膜(1)設(shè)置有兩個金屬化層(3 )，所述兩個金屬化層(3 )位于所述中留邊金屬化膜(1)的同一側(cè)，且所述兩個金屬化層(3 )間隔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述兩個金屬化層 (3)的間隔距離范圍為2飛mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)設(shè)置有金屬化層(4)，所述金屬化層(4)位于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2) 的中部，且所述金屬化層(4)與所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的兩端存在距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述金屬化層(4)距離所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)兩端的距離范圍為廣3mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4或5所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)均為單面金屬化膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的寬度不相等，所述中留邊金屬化膜(1)的寬度大于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的寬度，所述中留邊金屬化膜(1)和所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)居中對齊。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的中留邊單層金屬化膜電容器，其特征是所述中留邊金屬化膜(1)的寬度大于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的寬度范圍為2飛mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種中留邊單層金屬化膜電容器，其包括電容器芯子，所述電容器芯子包括卷繞的一層中留邊金屬化膜(1)和一層兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)。所述中留邊金屬化膜(1)設(shè)置有兩個金屬化層(3)，所述兩個金屬化層(3)位于所述中留邊金屬化膜(1)的同一側(cè)，且所述兩個金屬化層(3)間隔且間隔距離范圍為2~6mm。所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)設(shè)置有金屬化層(4)，所述金屬化層(4)位于所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的中部，且所述金屬化層(4)與所述兩側(cè)邊緣留邊金屬化膜(2)的兩端存在距離且其距離范圍為1~3mm。所述電容器具有卷繞工藝簡化，體積小，成本低，電性能優(yōu)良的特點。
文檔編號H01G4/005GK102496455SQ20111038632
公開日2012年6月13日 申請日期2011年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月29日
發(fā)明者周峰 申請人:安徽賽福電子有限公司