專利名稱：用于鍍膜的基板傳輸裝置和基板傳輸方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于半 導(dǎo)體、平板顯示器、太陽(yáng)能等行業(yè)的鍍膜的基板傳輸裝置和基板傳輸方法。
背景技術(shù)：
非柔性基板，特別是易碎基板，如玻璃的傳輸方案很大程度上決定著生產(chǎn)的穩(wěn)定性和良品率。對(duì)于易碎基板通常采用水平放置在平行的輥輪組上，但這種方案只適用于膜面向上的工藝，而且只能進(jìn)行單基板的鍍膜，生產(chǎn)效率低。若要進(jìn)行雙面同時(shí)鍍膜，基板則需垂直運(yùn)輸，現(xiàn)有技術(shù)的垂直運(yùn)輸需要使用基板夾持器或機(jī)械手(US2002/0078892， 2002-6-27)或邊框設(shè)計(jì)，固定基板的裝置需要同時(shí)與基板的正反面接觸，結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成本高、設(shè)備維護(hù)費(fèi)用增加、可靠性低。Optisolar公司的美國(guó)專利US2010/0151680 (2010-6-17)公開了太陽(yáng)能電池制
備中能夠加強(qiáng)溫度均勻性的基板載體裝置，通過在垂直基板的一面安裝背板、在基板的四周安裝載體框、同時(shí)使用筋條及0型環(huán)等配件形成載體裝置，使基板在沉積鍍膜中通過加熱器后再傳過背板進(jìn)行加熱或冷卻。該專利公開文件提及安裝了載體裝置的基板可垂直傳輸，然而該裝置至少有六個(gè)缺點(diǎn)第一，在基板上安裝較多的金屬固定件會(huì)導(dǎo)致裝置安全性降低且基板損耗率高；第二，基板與金屬固定件的接觸之處無法鍍膜，造成基板鍍膜不均勻；第三，源材料蒸汽會(huì)沉積在金屬固定件上，造成源材料浪費(fèi)；第四，鍍膜裝置的腔體壁鍍膜嚴(yán)重，裝置清潔度差，溫度不穩(wěn)定，源材料利用率低；第五，該載體裝置設(shè)計(jì)復(fù)雜、生產(chǎn)成本高；第六，基板與金屬固定件之間的裝卸工作量大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一是提供一種可連續(xù)進(jìn)行兩片以上基板鍍膜的、保證鍍膜均勻、 源材料利用率高、生產(chǎn)成本低的用于鍍膜的基板傳輸裝置。本發(fā)明的目的之二是提供一種利用所述用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法。本發(fā)明的第一技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的—種用于鍍膜的基板傳輸裝置，包括基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于實(shí)現(xiàn)基板相對(duì)于鍍膜源的移動(dòng)，而所述傳輸裝置還包括獨(dú)立于所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的基板支撐機(jī)構(gòu)。本發(fā)明使用相互獨(dú)立的基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和基板支撐機(jī)構(gòu)，能使基板無邊框自由站立，所述基板傳輸裝置使鍍膜源實(shí)現(xiàn)同時(shí)對(duì)兩片以上基板鍍膜、保證鍍膜均勻、源材料利用率高、生產(chǎn)成本低。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述基板支撐機(jī)構(gòu)均只有一個(gè)工作面用于和基板接觸，所述基板支撐機(jī)構(gòu)工作面與水平面的夾角為65° 115°?；弪?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的工作面即基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與基板接觸所在平面，基板支撐機(jī)構(gòu)的工作面即基板支撐機(jī)構(gòu)與基板背面即非鍍膜面接觸所在平面；所述基板傳輸裝置能使基板保持斜角站立，使基板傳輸穩(wěn)定；當(dāng)基板厚度足夠大時(shí)，基板可垂直站立，基板傳輸裝置使基板穩(wěn)定傳輸。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為傳送帶或傳送鏈條。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括馬達(dá)和通過馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的傳動(dòng)輪。更優(yōu)選地，所述馬達(dá)為一個(gè)，所述傳動(dòng)輪為兩個(gè)以上，所述傳動(dòng)輪之間連接有鏈條、傳動(dòng)齒輪或傳動(dòng)帶。更優(yōu)選地，所述傳動(dòng)輪的截面為三角形、矩形或弧形。更優(yōu)選地，所述傳動(dòng)輪與所述馬達(dá)之間連接有彈性聯(lián)軸器。本發(fā)明所述基板支撐機(jī)構(gòu)或傳動(dòng)輪的材料可以是高溫材料如鋁、銅、碳化硅、氮化硅、石英、玻璃陶瓷或石墨陶瓷，用于耐高溫基板如玻璃基板在高溫環(huán)境中的鍍膜；也可以是低溫材料，例如一些有機(jī)材料，用于有機(jī)基板在低溫環(huán)境中的鍍膜。本發(fā)明的第二技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的一種使用所述用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，包括以下步驟1)將基板放置在鍍膜源一側(cè)或兩側(cè)的所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，使基板的待涂膜面朝向鍍膜源工作面；2)使基板與水平面保持65° 115°自由站立在所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，基板的上部背面依靠在所述基板支撐機(jī)構(gòu)上，基板的待涂膜面與鍍膜源工作面的間距為1 IOOmm ；3)操控所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于實(shí)現(xiàn)基板的傳輸。本發(fā)明步驟2)所述的間距是指基板的待涂膜面與鍍膜源工作面之間的垂直間距。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，利用包括馬達(dá)和通過馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的傳動(dòng)輪的基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，將基板自由站立在所述傳動(dòng)輪上。更優(yōu)選地，設(shè)置兩個(gè)以上所述傳動(dòng)輪并設(shè)置所述傳動(dòng)輪間的間距小于基板在水平方向的一半長(zhǎng)度。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，利用固定的導(dǎo)輪作為所述基板支撐機(jī)構(gòu)，并將所述導(dǎo)輪與基板背面的接觸部設(shè)置于基板上半部。所述基板背面即基板的非鍍膜面。作為本發(fā)明技術(shù)方案的一種優(yōu)選，利用可移動(dòng)的滑輪作為所述基板支撐機(jī)構(gòu)，并將所述滑輪與基板背面的接觸部設(shè)置于基板上半部。綜上所述，本發(fā)明具有以下有益效果1、本發(fā)明使用相互獨(dú)立的基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和基板支撐機(jī)構(gòu)，能使基板無邊框自由站立，所述基板傳輸裝置使鍍膜源實(shí)現(xiàn)連續(xù)進(jìn)行基板穩(wěn)定傳輸鍍膜、保證鍍膜均勻、源材料利用率高、生產(chǎn)成本低；2、本發(fā)明的基板傳輸方法簡(jiǎn)單實(shí)用，可實(shí)現(xiàn)鍍膜源同時(shí)對(duì)兩片以上穩(wěn)定自由傳輸?shù)幕暹M(jìn)行均勻的鍍膜。


圖1是本發(fā)明一種實(shí)施例的用于鍍膜的基板傳輸裝置的示意圖；圖2是本發(fā)明一種實(shí)施例的用于鍍膜的基板傳輸裝置的側(cè)視圖；圖3A是本發(fā)明一種傳動(dòng)輪的截面示意圖；圖3B是本發(fā)明另一種傳動(dòng)輪的截面示意圖；圖3C是本發(fā)明第三種傳動(dòng)輪的截面示意圖；圖4是本發(fā)明另一種實(shí)施例的用于鍍膜的基板傳輸裝置的側(cè)視圖；圖中，1-基板；2-馬達(dá)；3-傳動(dòng)輪；4-基板支撐機(jī)構(gòu)；5-聯(lián)軸器；6_鍍膜源；7_真空腔體室；8-基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)工作面；9-基板支撐機(jī)構(gòu)工作面；10-鍍膜源工作面；11-傳送
市ο
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1所示，用于鍍膜的基板傳輸裝置包括基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和獨(dú)立于基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的基板支撐機(jī)構(gòu)4。如圖2所示，基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的工作面即基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與基板1的底部接觸的平面，在圖中表示為基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)工作面8，基板支撐機(jī)構(gòu)4的工作面即基板支撐機(jī)構(gòu) 4與基板1接觸的平面，在圖中表示為基板支撐機(jī)構(gòu)工作面9。實(shí)施例一如圖1和圖2所示，基板傳輸裝置中的基板傳輸機(jī)構(gòu)包括一個(gè)馬達(dá)2和通過馬達(dá) 2驅(qū)動(dòng)的多個(gè)傳動(dòng)輪3，傳動(dòng)輪3之間通過鏈條傳動(dòng)，傳動(dòng)輪3的截面形狀為三角形(見圖 3A)，馬達(dá)2和傳動(dòng)輪3用于實(shí)現(xiàn)基板1的穩(wěn)定傳輸?；逯螜C(jī)構(gòu)4為固定的導(dǎo)輪，基板支撐機(jī)構(gòu)工作面9即基板1的底部。若基板1位于高溫環(huán)境中，傳動(dòng)輪3與基板支撐機(jī)構(gòu) 4的材料必須耐高溫。傳動(dòng)輪3和基板支撐機(jī)構(gòu)4的材料為碳化硅。為了更有效地防止基板1翻倒，將導(dǎo)輪設(shè)置在距基板1的底部的高度為基板1的高度的四分之三處。為了使基板傳輸更穩(wěn)定，傳動(dòng)輪3之間的間距為基板在水平方向的三分之一寬度。實(shí)際鍍膜工作時(shí)，基板傳輸裝置位于真空腔體室7內(nèi)，基板1自由站立在傳動(dòng)輪3 上，基板1的背面即非鍍膜面斜靠在基板支撐機(jī)構(gòu)4上，基板1與水平面的夾角即基板支撐機(jī)構(gòu)工作面9與水平面的夾角為89. 5°，鍍膜源6的兩側(cè)各放置一塊基板1，鍍膜源6的鍍膜源工作面10與基板1平行并保持IOmm的間距，實(shí)現(xiàn)鍍膜源6同時(shí)對(duì)兩片穩(wěn)定自由傳輸?shù)幕?進(jìn)行均勻的鍍膜。實(shí)施例二用于鍍膜的基板傳輸裝置結(jié)構(gòu)同實(shí)施例一，不同的是馬達(dá)2有多個(gè)，每個(gè)馬達(dá)2連接一個(gè)傳動(dòng)輪3，傳動(dòng)輪3與馬達(dá)2之間連接有彈性聯(lián)軸器5，對(duì)基板1的輸送具有減震和緩沖作用；基板支撐機(jī)構(gòu)4為可移動(dòng)的滑輪，距基板1的底部的高度為基板1的高度的五分之四；傳動(dòng)輪3的截面形狀為矩形(見圖3B)，傳動(dòng)輪3之間的間距為基板在水平方向的四分之一寬度；傳動(dòng)輪3和基板支撐機(jī)構(gòu)4的材料為氮化硅；為提高邊緣鍍膜的均勻性，鍍膜源6的有效鍍膜高度略大于基板1的高度。實(shí)際鍍膜工作時(shí)，基板1自由站立在傳動(dòng)輪3上，基板1與水平面的夾角即基板支撐機(jī)構(gòu)工作面9與水平面的夾角為65°或115°，滑輪與基板同時(shí)移動(dòng)，鍍膜源6的鍍膜源工作面10并保持IOOmm的間距。根據(jù)鍍膜均勻度和厚度的實(shí)際需要，鍍膜源工作面10也可根據(jù)實(shí)際需要與基板1設(shè)置一定的角度。本裝置特別適用于非柔性基板如玻璃板的傳輸。實(shí)施例三用于鍍膜的基板傳輸裝置結(jié)構(gòu)同實(shí)施例二，不同的是傳動(dòng)輪3和基板支撐機(jī)構(gòu)4 的材料為石英，傳動(dòng)輪3的截面形狀為弧形(見圖3C)，基板支撐機(jī)構(gòu)4為可隨基板1移動(dòng)的滑塊。實(shí)施例四用于鍍膜的基板傳輸裝置結(jié)構(gòu)見圖4，在鍍膜源6的一側(cè)放置基板，鍍膜源6在一側(cè)對(duì)穩(wěn)定自由連續(xù)傳輸?shù)幕?進(jìn)行均勻的鍍膜，該裝置中的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為傳送帶11，傳送帶11為具有摩擦力的皮帶；基板支撐機(jī)構(gòu)4為擋板，其材料為鋁。傳送帶11與鋁質(zhì)擋板共同作用使基板1與水平面的夾角為80°或110°。本具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明的解釋，其并不是對(duì)本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改，但只要在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。
權(quán)利要求
1.一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，包括基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于實(shí)現(xiàn)基板相對(duì)于鍍膜源的移動(dòng)，其特征在于所述傳輸裝置還包括獨(dú)立于所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的基板支撐機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，其特征在于所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述基板支撐機(jī)構(gòu)均只有一個(gè)工作面用于和基板接觸，所述基板支撐機(jī)構(gòu)工作面與水平面的夾角為65° 115°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，其特征在于所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為傳送帶或傳送鏈條。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，其特征在于所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括馬達(dá)和通過馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的傳動(dòng)輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，其特征在于所述馬達(dá)為一個(gè)，所述傳動(dòng)輪為兩個(gè)以上，所述傳動(dòng)輪之間連接有鏈條、傳動(dòng)齒輪或傳動(dòng)帶。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，其特征在于所述傳動(dòng)輪的截面為三角形、矩形或弧形。
7.一種使用權(quán)利要求1或2所述的用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，其特征在于包括以下步驟1)將基板放置在鍍膜源一側(cè)或兩側(cè)的所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，使基板的待涂膜面朝向鍍膜源工作面；2)使基板與水平面保持65° 115°自由站立在所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，基板的上部背面依靠在所述基板支撐機(jī)構(gòu)上，基板的待涂膜面與鍍膜源工作面的間距為1 IOOmm ；3)操控所述基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于實(shí)現(xiàn)基板的傳輸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，其特征在于利用包括馬達(dá)和通過馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的傳動(dòng)輪的基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，將基板自由站立在所述傳動(dòng)輪上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，其特征在于設(shè)置兩個(gè)以上所述傳動(dòng)輪并設(shè)置所述傳動(dòng)輪間的間距小于基板在水平方向的一半長(zhǎng)度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，其特征在于利用固定的導(dǎo)輪作為所述基板支撐機(jī)構(gòu)，并將所述導(dǎo)輪與基板背面的接觸部設(shè)置于基板上半部。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于鍍膜的基板傳輸裝置傳輸基板的方法，其特征在于利用可移動(dòng)的滑輪作為所述基板支撐機(jī)構(gòu)，并將所述滑輪與基板背面的接觸部設(shè)置于基板上半部。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于半導(dǎo)體、平板顯示器、太陽(yáng)能等行業(yè)的鍍膜的基板傳輸裝置和基板傳輸方法。一種用于鍍膜的基板傳輸裝置，包括基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，而傳輸裝置還包括獨(dú)立于基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的基板支撐機(jī)構(gòu)。用于鍍膜的基板傳輸方法的步驟為將基板放置在鍍膜源的一側(cè)或兩側(cè)，使基板的待涂膜面朝向鍍膜源的鍍膜源工作面，基板與鍍膜源工作面的間距為1～100mm；使基板與水平面保持65°～115°自由站立在基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上并同時(shí)使基板的上部背面依靠在基板支撐機(jī)構(gòu)上進(jìn)行傳輸。本發(fā)明使用相互獨(dú)立的基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和基板支撐機(jī)構(gòu)，能使基板無邊框自由站立，基板傳輸裝置使鍍膜源實(shí)現(xiàn)連續(xù)進(jìn)行基板穩(wěn)定傳輸鍍膜、保證鍍膜均勻、源材料利用率高、生產(chǎn)成本低。
文檔編號(hào)H01L21/677GK102315148SQ20111019004
公開日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月30日
發(fā)明者梅芳, 趙軍 申請(qǐng)人:上方能源技術(shù)(杭州)有限公司