專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在液晶顯示器裝置等的顯示用面板基板的制造中，對(duì)涂布著光致 抗蝕劑(photo-resist)的基板照射光束，并利用光束來(lái)掃描基板，從而在基板上描畫(huà)出圖 案的曝光裝置，曝光方法及使用它們的顯示用面板基板的制造方法，本發(fā)明尤其涉及一種 將光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次的曝光裝置、曝光方法、及使用它們的顯示用面板基板的制 造方法。
背景技術(shù)：
被用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜晶體管(Thin FilmTransistor,TFT) 基板或彩色濾光片(color filter)基板、等離子顯示器面板(plasma display panel)用 基板、有機(jī)電致發(fā)光(Electroluminescence，EL)顯示面板用基板等的制造，是使用曝光裝 置并利用光刻(photolithography)技術(shù)而在基板上形成圖案來(lái)進(jìn)行。關(guān)于曝光裝置，以前 有如下方式使用透鏡(lens)或反射鏡(mirror)將掩模(mask)的圖案投影至基板上的投 影方式，及在掩模與基板之間設(shè)置微小的間隙(接近間隙(proXimity gap))而將掩模的圖 案轉(zhuǎn)印至基板的接近方式。近年來(lái)，開(kāi)發(fā)了一種對(duì)涂布著光致抗蝕劑的基板照射光束，并利用光束來(lái)掃描基 板，從而在基板上描畫(huà)出圖案的曝光裝置。因利用光束來(lái)掃描基板，并在基板上直接描畫(huà)出 圖案，所以不需要高價(jià)的掩模。而且，可通過(guò)使描畫(huà)數(shù)據(jù)及掃描的程序改變，而與各種顯示 用面板基板相對(duì)應(yīng)。關(guān)于此種曝光裝置，例如有專(zhuān)利文獻(xiàn)1、專(zhuān)利文獻(xiàn)2、及專(zhuān)利文獻(xiàn)3所述 的曝光裝置。專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本專(zhuān)利特開(kāi)2003-332221號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本專(zhuān)利特開(kāi)2005-353927號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3 日本專(zhuān)利特開(kāi)2007-219011號(hào)公報(bào)光束對(duì)基板的掃描是使照射光束用的光束照射裝置、與支撐基板的夾盤(pán)(chuck) 相對(duì)地移動(dòng)而進(jìn)行的。圖15 圖18是說(shuō)明光束對(duì)基板的掃描的圖。圖15 圖18表示如 下示例使用八個(gè)光束照射裝置，并利用來(lái)自八個(gè)光束照射裝置的八條光束，將基板1的X 方向的掃描進(jìn)行四次，從而對(duì)基板1整體進(jìn)行掃描。各光束照射裝置具有頭部20a，該頭部 20a包括對(duì)基板1照射光束的照射光學(xué)系統(tǒng)，在圖15 圖18中，由虛線來(lái)表示各光束照射 裝置的頭部20a。從各光束照射裝置的頭部20a照射而來(lái)的光束，在Y方向上具有頻帶寬 度(bandWidth)W，通過(guò)光束照射裝置與夾盤(pán)的朝X方向的相對(duì)移動(dòng)，朝箭頭所示的方向來(lái) 掃描基板1。圖15表示第一次掃描，通過(guò)朝X方向的第一次掃描，在圖15中由灰色表示的掃描 區(qū)域進(jìn)行圖案的描畫(huà)。當(dāng)?shù)谝淮螔呙杞Y(jié)束時(shí)，通過(guò)光束照射裝置與夾盤(pán)的朝Y方向的相對(duì) 移動(dòng)，使掃描區(qū)域朝Y方向僅移動(dòng)與頻帶寬度W相同的距離。圖16表示第二次掃描，利用 朝X方向的第二次掃描，在圖16中由灰色表示的掃描區(qū)域進(jìn)行圖案的描畫(huà)。當(dāng)?shù)诙螔呙?結(jié)束時(shí)，通過(guò)光束照射裝置與夾盤(pán)的朝Y方向的相對(duì)移動(dòng)，使掃描區(qū)域朝Y方向僅移動(dòng)與頻帶寬度W相同的距離。圖17表示第三次掃描，利用朝X方向的第三次掃描，在圖17中由灰 色表示的掃描區(qū)域進(jìn)行圖案的描畫(huà)。當(dāng)?shù)谌螔呙杞Y(jié)束時(shí)，通過(guò)光束照射裝置與夾盤(pán)的朝 Y方向的相對(duì)移動(dòng)，使掃描區(qū)域朝Y方向僅移動(dòng)與頻帶寬度W相同的距離。圖18表示第四 次掃描，利用朝X方向的第四次掃描，在圖18中由灰色表示的掃描區(qū)域進(jìn)行圖案的描畫(huà)，從 而基板1整體的掃描結(jié)束。另外，圖15 圖18中表示的是將基板1的X方向的掃描進(jìn)行四次，從而對(duì)基板 1整體進(jìn)行掃描的示例，但掃描的次數(shù)并不限于此，也可進(jìn)行三次以下或五次以上的基板1 的X方向的掃描，從而對(duì)基板1整體進(jìn)行掃描。這樣，在將光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次的情況下，如果光束照射裝置與夾盤(pán)的掃 描方向或與掃描方向成正交的方向的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，則存在利用光束所描畫(huà)的圖案在 每次掃描時(shí)發(fā)生偏移的問(wèn)題。而且，在液晶顯示器裝置等的顯示用面板基板的制造中，因 曝光區(qū)域?qū)拸V，所以大多是使用多個(gè)光束照射裝置并利用多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板的掃 描，此時(shí)，如果各光束照射裝置的頭部的位置彼此發(fā)生偏移，則存在利用來(lái)自各光束照射裝 置的光束所描畫(huà)的圖案也發(fā)生偏移的問(wèn)題。以前，此種圖案的偏移的檢查是通過(guò)分析實(shí)際進(jìn)行曝光的基板來(lái)進(jìn)行的。因此，光 束照射裝置與夾盤(pán)的相對(duì)移動(dòng)的誤差的修正、或各光束照射裝置的頭部的位置的調(diào)節(jié)中， 要耗費(fèi)較多的時(shí)間及工夫。由此可見(jiàn)，上述現(xiàn)有的曝光技術(shù)、及顯示用面板基板的制造方法顯然仍存在有不 便與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改時(shí)進(jìn)。為了解決上述存在的問(wèn)題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡心思來(lái) 謀求解決之道，但長(zhǎng)久以來(lái)一直未見(jiàn)適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一般的技術(shù)又沒(méi)有適切的 方式能夠解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新的曝 光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng) 前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有的曝光技術(shù)、及顯示用面板基板的制造方法存在的 缺陷，而提供一種新的曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法，所要解決的技 術(shù)問(wèn)題是，當(dāng)將光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次從而在基板上描畫(huà)出圖案時(shí)，抑制由光采所描 畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移，以提高描畫(huà)精度。而且，當(dāng)使用多個(gè)光束照射裝置并利用多個(gè) 光束而并行地進(jìn)行基板的掃描時(shí)，使利用來(lái)自各光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案的偏移 受到抑制，以提高描畫(huà)精度。此外，還要制造出高品質(zhì)的顯示用面板基板。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。為達(dá)到上述目 的，依據(jù)本發(fā)明的曝光裝置包括夾盤(pán)，對(duì)涂布著光致抗蝕劑的基板進(jìn)行支撐；具有頭部的 光束照射裝置，該頭部包括對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制的空間性光調(diào)制器、根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間 性光調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)電路、及照射經(jīng)空間性光調(diào)制器而調(diào)制的光束的照射光學(xué)系統(tǒng)；以及移 動(dòng)機(jī)構(gòu)，使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，且將來(lái)自光束照射裝置的光束對(duì)基板的掃描 進(jìn)行多次，從而在基板上描畫(huà)出圖案，所述曝光裝置包括描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)，將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給 至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路；光接收機(jī)構(gòu)，設(shè)置在夾盤(pán)上，接收從光束照射裝置的頭部照射 而來(lái)的光束；以及檢測(cè)機(jī)構(gòu)，根據(jù)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)根據(jù)檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù) 的坐標(biāo)。而且，本發(fā)明的曝光方法中，利用夾盤(pán)來(lái)對(duì)涂布著光致抗蝕劑的基板進(jìn)行支撐；使 夾盤(pán)與具有頭部的光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，該頭部包括對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制的空間性光調(diào)制 器、根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)空間性光調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)電路、及照射經(jīng)空間性光調(diào)制器而調(diào)制的 光束的照射光學(xué)系統(tǒng)；將來(lái)自光束照射裝置的光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次，從而在基板上 描畫(huà)出圖案，所述曝光方法一邊使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，一邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給 至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路；利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，接收從光束照射裝置的頭部 照射而來(lái)的光束；根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移 進(jìn)行檢測(cè)；以及根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。光束照射裝置的空間性光調(diào)制器是將反射光束用的多個(gè)微小反射鏡在兩個(gè)方向 上排列而構(gòu)成，驅(qū)動(dòng)電路根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)而改變各反射鏡的角度，由此對(duì)朝基板照射的光束 進(jìn)行調(diào)制。經(jīng)空間性光調(diào)制器而調(diào)制的光束，從包括光束照射裝置的照射光學(xué)系統(tǒng)的頭部 而照射。一邊使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，一邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的 驅(qū)動(dòng)電路，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束。然 后，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根 據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)，因此可抑制利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏 移，從而使描畫(huà)精度提高。此外，本發(fā)明的曝光裝置中，檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束的強(qiáng)度的變 化進(jìn)行檢測(cè)，描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)根據(jù)檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量 分布均一。而且，本發(fā)明的曝光方法中，對(duì)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束的強(qiáng)度的變化進(jìn)行 檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量分布均一。因光束的光量分布均 一，所以圖案的描畫(huà)得以均一地進(jìn)行。此外，本發(fā)明的曝光裝置中，移動(dòng)機(jī)構(gòu)使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)，光 接收機(jī)構(gòu)在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置處，分別接收從光束照射裝置的頭部 照射而來(lái)的光束，檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖 案的掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。而且，本發(fā)明的曝光方法中，使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地 來(lái)回移動(dòng)，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置處 分別接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束 所描畫(huà)的圖案的掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。當(dāng)使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)而將 光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次時(shí)，即便在去路與歸路上夾盤(pán)與光束照射裝置的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn) 誤差，也可抑制利用光束所描畫(huà)的圖案的掃描方向的偏移。而且，本發(fā)明的曝光裝置中，光接收機(jī)構(gòu)在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊 界處分別接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由光接收機(jī)構(gòu)接收到 的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。而且，本 發(fā)明的曝光方法中，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的 邊界處分別接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利 用光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。即便在改變光束對(duì)基板的 掃描區(qū)域時(shí)夾盤(pán)與光束照射裝置的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可使利用光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的偏移受到抑制。而且，本發(fā)明的曝光裝置包括多個(gè)光束照射裝置，利用來(lái)自多個(gè)光束照射裝置的 多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板的掃描，光接收機(jī)構(gòu)在來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū) 域與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域的邊界處，分別接收從兩個(gè)光束照射裝置 的頭部照射而來(lái)的光束，檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用來(lái)自一個(gè) 光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案 的偏移進(jìn)行檢測(cè)。而且，本發(fā)明的曝光方法中，設(shè)置多個(gè)光束照射裝置，利用來(lái)自多個(gè)光束 照射裝置的多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板的掃描，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在來(lái)自一 個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域的邊界 處，分別接收從兩個(gè)光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利 用來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束所 描畫(huà)的圖案的偏移進(jìn)行檢測(cè)。當(dāng)使用多個(gè)光束照射裝置并利用多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板 的掃描時(shí)，即便各光束照射裝置的頭部的位置彼此發(fā)生偏移，也可抑制利用來(lái)自各光束照 射裝置的光束所描畫(huà)的圖案的偏移，從而使描畫(huà)精度提高。本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法使用所述任一曝光裝置或曝光方法來(lái)進(jìn)行 基板的曝光。通過(guò)使用所述曝光裝置或曝光方法，可使利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描 的偏移受到抑制，從而使描畫(huà)精度提高，因此制造出高品質(zhì)的顯示用面板基板。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā) 明提供的曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效 果根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，一邊使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，一 邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，接收從光 束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案 的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)，由此可使利用光束 所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度。此外，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，對(duì)由光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束的強(qiáng)度 的變化進(jìn)行檢測(cè)，根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量分布均一，由此可均一地 進(jìn)行圖案的描畫(huà)。此外，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在至少 兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置處分別接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束， 根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)，由此當(dāng) 使夾盤(pán)與光束照射裝置相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)而將光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次時(shí)，即便在去路與 歸路上夾盤(pán)與光束照射裝置的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可使利用光束所描畫(huà)的圖案的掃描方 向的偏移受到抑制。而且，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在一個(gè) 掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊界處分別接收從光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根 據(jù)所接收的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的偏移進(jìn)行檢 測(cè)，由此即便在改變光束對(duì)基板的掃描區(qū)域時(shí)夾盤(pán)與光束照射裝置的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差， 也可使利用光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的偏移受到抑制。
而且，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，利用設(shè)置在夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，在來(lái)自 一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域的邊 界處，分別接收從兩個(gè)光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì) 利用來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束 所描畫(huà)的圖案的偏移進(jìn)行檢測(cè)，由此當(dāng)使用多個(gè)光束照射裝置并利用多個(gè)光束而并行地進(jìn) 行基板的掃描時(shí)，即便各光束照射裝置的頭部的位置彼此發(fā)生偏移，也可使利用來(lái)自各光 束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度。根據(jù)本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法，可使利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃 描的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度，因此可制造出高品質(zhì)的顯示用面板基板。綜上所述，本發(fā)明提供的曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法有效 提高了描畫(huà)精度。在技術(shù)上有顯著的進(jìn)步，并具有明顯的積極效果，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用 的新設(shè)計(jì)。上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠 更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的側(cè)視圖。圖3是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的主視圖。圖4是表示光束照射裝置的概略構(gòu)成的圖。圖5是說(shuō)明激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)的動(dòng)作的圖。圖6是表示描畫(huà)控制部的概略構(gòu)成的圖。圖7是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法的圖。圖8是圖7所示的夾盤(pán)的俯視圖。圖9是圖7所示的夾盤(pán)的主視圖。圖10是表示利用光束所描畫(huà)的圖案的一例的圖。圖11是表示利用光束所描畫(huà)的圖案的另一例的圖。圖12(a)是表示在CXD相機(jī)的視場(chǎng)內(nèi)所描畫(huà)的圖案的圖。圖12(b)、圖12(c)是表示光束的強(qiáng)度的圖。圖13是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。圖14是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造工序的一例的流程圖。圖15是說(shuō)明光束對(duì)基板的掃描的圖。圖16是說(shuō)明光束對(duì)基板的掃描的圖。圖17是說(shuō)明光束對(duì)基板的掃描的圖。圖18是說(shuō)明光束對(duì)基板的掃描的圖。1基板2圖案3基座4X導(dǎo)件5X平臺(tái)6Y導(dǎo)件7Y平臺(tái)8 θ平臺(tái)10夾盤(pán)
IOa切口部 11快門(mén)20光束照射裝置20a頭部 21激光光源單元22光纖23透鏡24反射鏡 25DMD沈投影透鏡 27DMD驅(qū)動(dòng)電路31、33線性標(biāo)尺32,34編碼器40激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置41激光光源 42、44激光干涉儀43、45棒反射鏡50圖像處理裝置51C⑶相機(jī) 51a C⑶相機(jī)的視場(chǎng)60平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路70主控制裝置71描畫(huà)控制部72,76存儲(chǔ)器73頻帶寬度設(shè)定部74中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部75坐標(biāo)決定部77描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部101 106、201 204 步驟B、C 虛線Χ、Υ、Ζ、θ 方向
具體實(shí)施例方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合 附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方 法其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、步驟、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的概略構(gòu)成的圖。而且，圖2是本發(fā)明 的一實(shí)施方式的曝光裝置的側(cè)視圖，圖3是本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光裝置的主視圖(即 正視圖)。曝光裝置包括基座3、Χ導(dǎo)件4、Χ平臺(tái)5、Υ導(dǎo)件6、Υ平臺(tái)7、θ平臺(tái)8、夾盤(pán)10、快 門(mén)(gate) 11、光束照射裝置20、線性標(biāo)尺(linear scale) 31、33、編碼器32、34、激光測(cè)長(zhǎng)系 統(tǒng)、激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、電荷耦合器件(Charge CoupledDevice, (XD)相機(jī)51、平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60、及主控制裝置70。另外，圖2及圖3中，省略了激光測(cè)長(zhǎng)系 統(tǒng)的激光光源41、激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60及主控制 裝置70。曝光裝置除包括這些之外，還包括將基板1搬入至夾盤(pán)10、且將基板1從夾盤(pán)10 搬出的基板搬送機(jī)械手(robot)，及進(jìn)行裝置內(nèi)的溫度管理的溫度控制單元等。另外，以下說(shuō)明的實(shí)施方式中的XY方向?yàn)槔?，也可將X方向與Y方向調(diào)換。在圖1及圖2中，夾盤(pán)10位于進(jìn)行基板1的交付的交付位置處。在交付位置處， 利用未圖式的基板搬送機(jī)械手將基板1搬入至夾盤(pán)10，且利用未圖式的基板搬送機(jī)械手將 基板1從夾盤(pán)10搬出。夾盤(pán)10真空吸附基板1的背面以對(duì)其進(jìn)行支撐?；?的表面涂 布著光致抗蝕劑。在進(jìn)行基板1的曝光的曝光位置的上空，橫跨基座3而設(shè)置著快門(mén)11?？扉T(mén)11中 搭載著多個(gè)光束照射裝置20。另外，本實(shí)施方式表示使用八個(gè)光束照射裝置20的曝光裝置 的示例，但光束照射裝置的數(shù)量并不限于此，本發(fā)明適用于使用一個(gè)或兩個(gè)以上的光束照 射裝置的曝光裝置。圖4是表示光束照射裝置的概略構(gòu)成的圖。光束照射裝置20包括光纖22、透鏡 23、反射鏡對(duì)、數(shù)字微鏡元件(Digital Micro-mirror Device，DM)) 25、投影透鏡洸、及DMD 驅(qū)動(dòng)電路27。光纖22將由激光光源單元21產(chǎn)生的紫外光的光束導(dǎo)入至光束照射裝置20 內(nèi)。從光纖22射出的光束經(jīng)由透鏡23及反射鏡M而朝DMD25照射。DMD25是將反射光束用的多個(gè)微小反射鏡在兩個(gè)方向上排列而構(gòu)成的空間性光調(diào)制器，改變各反射鏡的角度來(lái) 調(diào)制光束。經(jīng)DMD25調(diào)制的光束從包括投影透鏡沈的頭部20a照射。DMD驅(qū)動(dòng)電路27根 據(jù)由主控制裝置70所供給的描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)改變DMD25的各反射鏡的角度。在圖2及圖3中，夾盤(pán)10搭載于θ平臺(tái)8，在θ平臺(tái)8下設(shè)置著Y平臺(tái)7及X平 臺(tái)5。X平臺(tái)5搭載于設(shè)置在基座3的X導(dǎo)件4上，沿著X導(dǎo)件4朝X方向移動(dòng)。Y平臺(tái)7 搭載于設(shè)置在X平臺(tái)5的Y導(dǎo)件6上，沿著Y導(dǎo)件6朝Y方向移動(dòng)。θ平臺(tái)8搭載于Y平 臺(tái)7上，朝θ方向旋轉(zhuǎn)。在X平臺(tái)5、Υ平臺(tái)7、及θ平臺(tái)8上設(shè)置著滾珠絲杠(ballscrew) 及電動(dòng)機(jī)、或線性電動(dòng)機(jī)(linear motor)等的未圖式的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，各驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由圖1的平 臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60而驅(qū)動(dòng)。通過(guò)θ平臺(tái)8的朝θ方向的旋轉(zhuǎn)，搭載于夾盤(pán)10上的基板1以正交的二邊朝向 X方向及Y方向的方式旋轉(zhuǎn)。通過(guò)X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)，夾盤(pán)10在交付位置與曝光 位置之間移動(dòng)。在曝光位置處，通過(guò)X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)，從各光束照射裝置20的 頭部20a照射而來(lái)的光束朝X方向掃描基板1。而且，通過(guò)Y平臺(tái)7的朝Y方向的移動(dòng)，從 各光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束對(duì)基板1的掃描區(qū)域朝Y方向移動(dòng)。圖1 中，主控制裝置70對(duì)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60進(jìn)行控制，從而進(jìn)行θ平臺(tái)8的朝θ方向的旋轉(zhuǎn)、 X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)、及Y平臺(tái)7的朝Y方向的移動(dòng)。另外，本實(shí)施方式中，是通過(guò)利用X平臺(tái)5使夾盤(pán)10朝X方向移動(dòng)，而進(jìn)行來(lái)自光 束照射裝置20的光束對(duì)基板1的掃描，但也可通過(guò)移動(dòng)光束照射裝置20而進(jìn)行來(lái)自光束 照射裝置20的光束對(duì)基板1的掃描。而且，本實(shí)施方式中，是通過(guò)利用Y平臺(tái)7使夾盤(pán)10 朝Y方向移動(dòng)，而改變來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板1的掃描區(qū)域，但也可通過(guò)移動(dòng) 光束照射裝置20而改變來(lái)自光束照射裝置20的光束對(duì)基板1的掃描區(qū)域。在圖1及圖2中，基座3上設(shè)置著朝X方向延伸的線性標(biāo)尺31。線性標(biāo)尺31上附 有用于對(duì)X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)量進(jìn)行檢測(cè)的刻度。而且，X平臺(tái)5上設(shè)置著朝Y方 向延伸的線性標(biāo)尺33。線性標(biāo)尺33上附有用于對(duì)Y平臺(tái)7的朝Y方向的移動(dòng)量進(jìn)行檢測(cè) 的刻度。在圖1及圖3中，在X平臺(tái)5的一側(cè)面，與線性標(biāo)尺31相對(duì)向地安裝著編碼器32。 圖1的主控制裝置70對(duì)編碼器32的坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置進(jìn)行設(shè)定。編碼器32從基準(zhǔn)位置 起開(kāi)始進(jìn)行線性標(biāo)尺31的刻度的檢測(cè)，并將脈沖信號(hào)輸出至主控制裝置70。而且，在圖1 及圖2中，在Y平臺(tái)7的一側(cè)面，與線性標(biāo)尺33相對(duì)向地安裝著編碼器34。圖1的主控制 裝置70對(duì)編碼器34的坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置進(jìn)行設(shè)定。編碼器34從基準(zhǔn)位置起開(kāi)始進(jìn)行線 性標(biāo)尺33的刻度的檢測(cè)，并將脈沖信號(hào)輸出至主控制裝置70。主控制裝置70對(duì)編碼器32 的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù)，檢測(cè)X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)量，且對(duì)編碼器34的脈沖信號(hào)進(jìn)行 計(jì)數(shù)，檢測(cè)Y平臺(tái)7的朝Y方向的移動(dòng)量。圖5是說(shuō)明激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)的動(dòng)作的圖。另外，圖5中省略了圖1所示的快門(mén)11、光 束照射裝置20、及圖像處理裝置50。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)是公知的激光干涉式的測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)，包括 激光光源41、激光干涉儀42、44、及棒反射鏡(bar mirror) 43,45.棒反射鏡43安裝在夾 盤(pán)10的朝Y方向延伸的一側(cè)面。而且，棒反射鏡45安裝在夾盤(pán)10的朝X方向延伸的一側(cè) 激光干涉儀42將來(lái)自激光光源41的激光光束朝棒反射鏡43照射，并接收經(jīng)棒反射鏡43反射的激光光束，從而對(duì)來(lái)自激光光源41的激光光束與經(jīng)棒反射鏡43反射的激光 光束的干涉進(jìn)行測(cè)定。該測(cè)定在Y方向的2個(gè)部位進(jìn)行。主控制裝置70對(duì)激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng) 控制裝置40的坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置進(jìn)行設(shè)定。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40根據(jù)激光干涉儀42 的測(cè)定結(jié)果來(lái)檢測(cè)夾盤(pán)10的X方向的位置及旋轉(zhuǎn)。另一方面，激光干涉儀44將來(lái)自激光光源41的激光光束朝棒反射鏡45照射，并 接收經(jīng)棒反射鏡45反射的激光光束，從而對(duì)來(lái)自激光光源41的激光光束與經(jīng)棒反射鏡45 反射的激光光束的干涉進(jìn)行測(cè)定。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40根據(jù)激光干涉儀44的測(cè)定結(jié) 果，來(lái)檢測(cè)夾盤(pán)10的Y方向的位置。圖4中，主控制裝置70包括對(duì)光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27供給描畫(huà)數(shù)據(jù) 的描畫(huà)控制部。圖6是表示描畫(huà)控制部的概略構(gòu)成的圖。描畫(huà)控制部71包括存儲(chǔ)器72、 76、頻帶寬度設(shè)定部73、中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74、坐標(biāo)決定部75、及描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部77。存儲(chǔ)器76中存儲(chǔ)著設(shè)計(jì)值映像(design value map)。設(shè)計(jì)值映像中以XY坐標(biāo)來(lái) 表示描畫(huà)數(shù)據(jù)。描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部77根據(jù)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器76中的設(shè)計(jì)值映像，而作成對(duì)各光 束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27供給的描畫(huà)數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器72將描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部77所作 成的描畫(huà)數(shù)據(jù)的XY坐標(biāo)作為位址(address)而加以存儲(chǔ)。頻帶寬度設(shè)定部73決定從存儲(chǔ)器72讀出的描畫(huà)數(shù)據(jù)的Y坐標(biāo)的范圍，由此對(duì)從 光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束的Y方向的頻帶寬度進(jìn)行設(shè)定。激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40對(duì)開(kāi)始進(jìn)行曝光位置處的基板1的曝光之前的夾盤(pán)10 的XY方向的位置進(jìn)行檢測(cè)。中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74根據(jù)由激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40所檢 測(cè)出的夾盤(pán)10的XY方向的位置，來(lái)決定開(kāi)始進(jìn)行基板1的曝光之前的夾盤(pán)10的中心點(diǎn)的 XY坐標(biāo)。圖1中，當(dāng)利用來(lái)自光束照射裝置20的光束進(jìn)行基板1的掃描時(shí)，主控制裝置70 對(duì)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60進(jìn)行控制，以利用X平臺(tái)5使夾盤(pán)10朝X方向移動(dòng)。當(dāng)移動(dòng)基板1的 掃描區(qū)域時(shí)，主控制裝置70對(duì)平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60進(jìn)行控制，以利用Y平臺(tái)7使夾盤(pán)10朝Y 方向移動(dòng)。在圖6中，中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74對(duì)來(lái)自編碼器32、34的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù)，檢 測(cè)X平臺(tái)5的朝X方向的移動(dòng)量及Y平臺(tái)7的朝Y方向的移動(dòng)量，從而決定夾盤(pán)10的中心 點(diǎn)的XY坐標(biāo)。坐標(biāo)決定部75根據(jù)由中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74決定的夾盤(pán)10的中心點(diǎn)的XY坐標(biāo)， 來(lái)決定對(duì)各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27供給的描畫(huà)數(shù)據(jù)的XY坐標(biāo)。存儲(chǔ)器72將 由坐標(biāo)決定部75決定的XY坐標(biāo)作為位址而輸入，并將存儲(chǔ)在所輸入的XY坐標(biāo)的位址中的 描畫(huà)數(shù)據(jù)輸出至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。以下，對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光方法進(jìn)行說(shuō)明。圖7是說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施 方式的曝光方法的圖。而且，圖8是圖7所示的夾盤(pán)的俯視圖，圖9是圖7所示的夾盤(pán)的主 視圖。另外，在圖7及圖8中省略了圖1所示的快門(mén)11及光束照射裝置20，且以虛線來(lái)表 示光束照射裝置20的頭部20a。在圖8及圖9中，夾盤(pán)10上設(shè)置著切口部10a，切口部IOa中設(shè)置著兩個(gè)C⑶相機(jī) 51。各光束照射裝置20的頭部20a在Y方向上以等間隔而配置著，兩個(gè)CXD相機(jī)51按照 各光束照射裝置20的頭部20a的間隔的整數(shù)倍的間隔而設(shè)置在夾盤(pán)10上。各CXD相機(jī)51 的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)搭載于夾盤(pán)10的基板的表面的高度。另外，本實(shí)施方式中，在夾盤(pán)10設(shè)置著兩 個(gè)CXD相機(jī)51，但也可在夾盤(pán)10設(shè)置三個(gè)以上的CXD相機(jī)51。
本實(shí)施方式中，在開(kāi)始進(jìn)行基板的曝光之前，使用設(shè)置在夾盤(pán)10的CCD相機(jī)51，接 收從光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束。并且，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利 用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)。圖7中，首先，主控制裝置70使編碼器 32,34及激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40的坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置發(fā)生位移，該位移的量相當(dāng)于用來(lái) 檢測(cè)該偏移的圖案的基板上的位置、與用于檢測(cè)的CCD相機(jī)51的位置的差異。然后，主控制裝置70在夾盤(pán)10上未搭載著基板的狀態(tài)下，根據(jù)激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制 裝置40的檢測(cè)結(jié)果來(lái)控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，并利用X平臺(tái)5及Y平臺(tái)7而使夾盤(pán)10朝開(kāi) 始進(jìn)行曝光之前的規(guī)定的位置移動(dòng)。然后，主控制裝置70控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，使Y平臺(tái) 7朝Y方向移動(dòng)而改變光束的掃描區(qū)域，以使描畫(huà)出檢測(cè)偏移的圖案的光束通過(guò)CCD相機(jī) 51的視場(chǎng)。然后，主控制裝置70控制平臺(tái)驅(qū)動(dòng)電路60，一邊使X平臺(tái)5朝X方向移動(dòng)，一 邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)從描畫(huà)控制部71供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27。圖6中，描畫(huà)控制部71的中心點(diǎn)坐標(biāo)決定部74根據(jù)坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置已發(fā)生位 移的激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40及編碼器32、34的輸出信號(hào)，來(lái)決定夾盤(pán)10的中心點(diǎn)坐標(biāo)， 因此從描畫(huà)控制部71供給至DMD驅(qū)動(dòng)電路27的描畫(huà)數(shù)據(jù)，設(shè)為使XY坐標(biāo)只偏移(offset) 了如下量，該量相當(dāng)于用來(lái)檢測(cè)該偏移的圖案的基板上的位置、與用于檢測(cè)的CCD相機(jī)51 的位置的差異。圖9中，CCD相機(jī)51使焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)手支撐在夾盤(pán)10上的基板的表面的高度，接收從 光束照射裝置20照射而來(lái)的光束。圖7中，CCD相機(jī)51將所接收到的光束的圖像信號(hào)輸 出至圖像處理裝置50。圖像處理裝置50對(duì)CXD相機(jī)51的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，并對(duì)利用光 束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)。圖6中，描畫(huà)控制部71的描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部77根據(jù)圖像處理裝置50的檢測(cè)結(jié)果， 對(duì)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器76中的設(shè)計(jì)值映像的描畫(huà)數(shù)據(jù)的XY坐標(biāo)進(jìn)行轉(zhuǎn)換，從而新作成對(duì)各光束 照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27供給的描畫(huà)數(shù)據(jù)。當(dāng)進(jìn)行基板1的曝光時(shí)，主控制裝置70 使編碼器32、34及激光測(cè)長(zhǎng)系統(tǒng)控制裝置40的坐標(biāo)系的基準(zhǔn)位置恢復(fù)為正常，主控制裝置 70的描畫(huà)控制部71將新作成的描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至DMD驅(qū)動(dòng)電路27。利用設(shè)置在夾盤(pán)10的 CCD相機(jī)51，接收從光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù) 先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù) 的坐標(biāo)，因此可抑制利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移，從而使描畫(huà)精度提高。圖10是表示利用光束所描畫(huà)的圖案的一例。圖10中，將利用光束所描畫(huà)的圖案2 涂黑來(lái)表示。如圖15 圖18所示的示例那樣，當(dāng)使夾盤(pán)10與光束照射裝置20相對(duì)地來(lái) 回移動(dòng)而將光束對(duì)基板1的掃描進(jìn)行多次時(shí)，如果在去路與歸路上夾盤(pán)10與光束照射裝置 20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，則如圖10所示，利用光束所描畫(huà)的圖案2在去路的掃描區(qū)域1與 歸路的掃描區(qū)域2，在掃描方向(X方向)上發(fā)生偏移。圖10中的虛線表示C⑶相機(jī)51的視場(chǎng)，本實(shí)施方式中，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的CXD 相機(jī)51，在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置處分別接收從光束照射裝置20的頭 部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案2的掃描方向 的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。即便在去路與歸路上夾盤(pán)10與 光束照射裝置20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可抑制利用光束所描畫(huà)的圖案2的掃描方向的偏 移。
圖11是表示利用光束所描畫(huà)的圖案的另一例的圖。圖11中與圖10同樣地，將利 用光束所描畫(huà)的圖案2涂黑來(lái)表示。如果在改變光束對(duì)基板1的掃描區(qū)域時(shí)夾盤(pán)10與光 束照射裝置20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，則如圖11所示，利用光束所描畫(huà)的圖案2在與掃描方 向正交的方向(Y方向)上發(fā)生偏移。圖11中的虛線表示C⑶相機(jī)51的視場(chǎng)，本實(shí)施方式中，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的CXD 相機(jī)51，在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊界處分別接收從光束照射裝置20的頭部 20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案2的與掃描方向 正交的方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。即便在改變光束對(duì) 基板1的掃描區(qū)域時(shí)夾盤(pán)10與光束照射裝置20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可使利用光束所 描畫(huà)的圖案2的與掃描方向正交的方向的偏移受到抑制。而且，如本實(shí)施方式所示，當(dāng)設(shè)置多個(gè)光束照射裝置20且利用來(lái)自多個(gè)光束照射 裝置20的多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板1的掃描時(shí)，如果各光束照射裝置20的頭部20a的 位置彼此發(fā)生偏移，則利用來(lái)自各光束照射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案2也會(huì)發(fā)生偏移。本實(shí)施方式中，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的C⑶相機(jī)51，在來(lái)自一個(gè)光束照射裝置20的 光束的掃描區(qū)域與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置20的光束的掃描區(qū)域的邊界處，分別接收從 兩個(gè)光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用來(lái)自 一個(gè)光束照射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案2與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置20的光束所 描畫(huà)的圖案2的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。當(dāng)使用多個(gè)光束 照射裝置20并利用多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板1的掃描時(shí)，即便各光束照射裝置20的頭 部20a的位置彼此發(fā)生偏移，也可使利用來(lái)自各光束照射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案的偏 移受到抑制，從而使描畫(huà)精度提高。并且，通過(guò)利用來(lái)自多個(gè)光束照射裝置20的多個(gè)光束 而并行地進(jìn)行基板1的掃描，可縮短基板1整體的掃描所花費(fèi)的時(shí)間，從而可縮短節(jié)拍時(shí)間 (tact time)0圖12(a)是表示CCD相機(jī)的視場(chǎng)內(nèi)所描畫(huà)的圖案的圖，圖12 (b)、圖12(c)是表示 光束的強(qiáng)度的圖。圖12(a)中，與圖10同樣地，將利用光束所描畫(huà)的圖案2涂黑來(lái)表示。 圖12(b)的虛線表示圖12(a)中虛線B所示的位置處的光束的強(qiáng)度的時(shí)間性變化。而且， 圖12(c)的虛線表示描畫(huà)圖12(a)中虛線C所示的位置時(shí)的光束的強(qiáng)度的空間性變化。如 圖12(b)、圖12(c)虛線所示，如果描畫(huà)圖案2時(shí)的光束的強(qiáng)度在時(shí)間性及空間性方面不均 一，則無(wú)法均一地進(jìn)行圖案2的描畫(huà)。圖7中，圖像處理裝置50對(duì)CXD相機(jī)51的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，并檢測(cè)光束的強(qiáng)度 的時(shí)間性及空間性變化。圖6中，描畫(huà)控制部71的描畫(huà)數(shù)據(jù)作成部77根據(jù)圖像處理裝置 50的檢測(cè)結(jié)果，抽取存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器72中的新的描畫(huà)數(shù)據(jù)中的光束的強(qiáng)度較強(qiáng)部分的數(shù)據(jù)， 并修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)以使光束的光量分布均一。經(jīng)修正的描畫(huà)數(shù)據(jù)的光束的強(qiáng)度在圖12(b)、 圖12(c)中以實(shí)線來(lái)表示。因光束的光量分布變得均一，所以可均一地進(jìn)行圖案2的描畫(huà)。根據(jù)以上所說(shuō)明的實(shí)施方式，一邊使夾盤(pán)10與光束照射裝置20相對(duì)地移動(dòng)，一 邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動(dòng)電路27，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的CCD相機(jī) 51，接收從光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用 光束所描畫(huà)的圖案2的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐 標(biāo)，由此可使利用光束所描畫(huà)的圖案2的每次掃描的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度。
13
此外，對(duì)由CCD相機(jī)51接收到的光束的強(qiáng)度的變化進(jìn)行檢測(cè)，并根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái) 修正該描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量分布變得均一，由此可均一地進(jìn)行圖案2的描畫(huà)。此外，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的CXD相機(jī)51，在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束 位置處分別接收從光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù) 先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案2的掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)，由此當(dāng)使夾盤(pán)10與光束照射裝 置20相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)而將光束對(duì)基板1的掃描進(jìn)行多次時(shí)，即便在去路與歸路上夾盤(pán)10 與光束照射裝置20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可使利用光束所描畫(huà)的圖案2的掃描方向的偏 移受到抑制。而且，利用設(shè)置在夾盤(pán)10的CXD相機(jī)51，在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊 界處分別接收從光束照射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先 對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案2的與掃描方向正交的方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)，由此即便在改變光 束對(duì)基板1的掃描區(qū)域時(shí)夾盤(pán)10與光束照射裝置20的相對(duì)移動(dòng)出現(xiàn)誤差，也可使利用光 束所描畫(huà)的圖案2的與掃描方向正交的方向的偏移受到抑制。而且，利用設(shè)置在夾盤(pán)的CXD相機(jī)51，在來(lái)自一個(gè)光束照射裝置20的光束的掃描 區(qū)域與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置20的光束的掃描區(qū)域的邊界處，分別接收從兩個(gè)光束照 射裝置20的頭部20a照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用來(lái)自一個(gè)光束照 射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案2與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案 2的偏移進(jìn)行檢測(cè)，由此當(dāng)使用多個(gè)光束照射裝置20并利用多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基板1 的掃描時(shí)，即便各光束照射裝置20的頭部20a的位置彼此發(fā)生偏移，也可使利用來(lái)自各光 束照射裝置20的光束所描畫(huà)的圖案2的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度。通過(guò)使用本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法來(lái)進(jìn)行基板的曝光，可使利用光束所描畫(huà) 的圖案的每次掃描的偏移受到抑制，從而可提高描畫(huà)精度，因而可制造出高品質(zhì)的顯示用 面板基板。例如，圖13是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。在 薄膜形成工序(步驟101)中，利用濺鍍法(sputtering method)或等離子化學(xué)氣相淀積 (Chemical Vapor Deposition, CVD)法等，在基板上形成作為液晶驅(qū)動(dòng)用的透明電極的導(dǎo) 電體膜或絕緣體膜等的薄膜。在抗蝕劑涂布工序(步驟10 中，利用輥式涂布法(rollcoa ting method)等來(lái)涂布光致抗蝕劑，從而在薄膜形成工序(步驟101)中形成的薄膜上形成 光致抗蝕劑膜。在曝光工序(步驟10 中，使用曝光裝置而在光致抗蝕劑膜上形成圖案。 在顯影工序(步驟104)中，利用噴淋(shower)顯影法等將顯影液供給至光致抗蝕劑膜上， 以將光致抗蝕劑膜的不需要部分除去。在蝕刻工序(步驟105)中，利用濕式蝕刻而將薄膜 形成工序(步驟101)中所形成的薄膜中的未被光致抗蝕劑膜遮住的部分除去。在剝離工 序(步驟106)中，利用剝離液而將蝕刻工序(步驟105)中的已完成掩模的作用的光致抗蝕 劑膜剝離。在上述這些的各工序之前或之后，可視需要而實(shí)施基板的清洗/干燥工序。將 這些工序重復(fù)進(jìn)行數(shù)次，從而在基板上形成TFT陣列。而且，圖14是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造工序的一例的流程 圖。在黑矩陣(black matrix)形成工序(步驟201)中，利用抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻、 剝離等的處理，而在基板上形成黑矩陣。在著色圖案形成工序(步驟20 中，利用染色法 或顏料分散法等，而在基板上形成著色圖案。針對(duì)R(red，紅色)、G (green，綠色)、B (blue,藍(lán)色)的著色圖案重復(fù)進(jìn)行該工序。在保護(hù)膜形成工序(步驟20 中，在著色圖案上形成 保護(hù)膜，在透明電極膜形成工序(步驟204)中，在保護(hù)膜上形成透明電極膜。在這些的各 工序之前、中途或之后，可視需要實(shí)施基板的清洗/干燥工序。 在圖13所示的TFT基板的制造工序中、曝光工序(步驟103)中、圖14所示的彩 色濾光片基板的制造工序中、黑矩陣形成工序(步驟201)及著色圖案形成工序(步驟202) 的曝光處理中，均可適用本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，其包括夾盤(pán)，對(duì)涂布著光致抗蝕劑的基板進(jìn)行支撐；具有頭部的光束照射裝置，該頭部包括對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制的空間性光調(diào)制器、根據(jù)描畫(huà) 數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述空間性光調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)電路、及照射經(jīng)所述空間性光調(diào)制器而調(diào)制的光束 的照射光學(xué)系統(tǒng)；以及移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述夾盤(pán)與所述光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，將來(lái)自所述光束照射裝置的光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次，從而在基板上描畫(huà)出圖案， 所述曝光裝置的特征在于包括描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)，將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的驅(qū)動(dòng)電路；光接收機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述夾盤(pán)上，接收從所述光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；以及檢測(cè)機(jī)構(gòu)，根據(jù)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每 次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且所述描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束的強(qiáng)度的變化進(jìn)行檢測(cè)； 所述描畫(huà)控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量分 布均一。
3.如權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述夾盤(pán)與所述光束照射裝置相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)； 所述光接收機(jī)構(gòu)在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置處，分別接收從所述光束 照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的 掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。
4.如權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于所述光接收機(jī)構(gòu)在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊界處分別接收從所述光束照 射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的 與掃描方向正交的方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。
5.如權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于包括多個(gè)所述光束照射裝置，利用來(lái)自多個(gè)光束照射裝置的多個(gè)光束而并行地進(jìn)行基 板的掃描；所述光接收機(jī)構(gòu)在來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域與來(lái)自另一個(gè)光束照射 裝置的光束的掃描區(qū)域的邊界處，分別接收從兩個(gè)光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)根據(jù)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用來(lái)自一個(gè)光束照射裝 置的光束所描畫(huà)的圖案與利用來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案的偏移進(jìn)行 檢測(cè)。
6.一種曝光方法，利用夾盤(pán)來(lái)對(duì)涂布著光致抗蝕劑的基板進(jìn)行支撐；使夾盤(pán)與具有頭部的光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，該頭部包括對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制的空間性光調(diào)制器、根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述空間性光調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)電路、及照射經(jīng)所述空間性光 調(diào)制器而調(diào)制的光束的照射光學(xué)系統(tǒng)；將來(lái)自光束照射裝置的光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次，從而在基板上描畫(huà)出圖案，所述 曝光方法的特征在于一邊使所述夾盤(pán)與所述光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，一邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至所述光束照 射裝置的驅(qū)動(dòng)電路；利用設(shè)置在所述夾盤(pán)的光接收機(jī)構(gòu)，接收從所述光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)；以及根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正所述描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。
7.如權(quán)利要求6所述的曝光方法，其特征在于對(duì)由所述光接收機(jī)構(gòu)接收到的光束的強(qiáng)度的變化進(jìn)行檢測(cè)； 根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正所述描畫(huà)數(shù)據(jù)，以使光束的光量分布均一。
8.如權(quán)利要求6或7所述的曝光方法，其特征在于 使所述夾盤(pán)與所述光束照射裝置相對(duì)地來(lái)回移動(dòng)；利用設(shè)置在所述夾盤(pán)的所述光接收機(jī)構(gòu)，在至少兩次連續(xù)掃描的開(kāi)始位置或結(jié)束位置 處分別接收從所述光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用所述光束所描畫(huà)的圖案的掃描方向的偏移進(jìn)行檢測(cè)。
9.如權(quán)利要求6或7所述的曝光方法，其特征在于利用設(shè)置在所述夾盤(pán)的所述光接收機(jī)構(gòu)，在一個(gè)掃描區(qū)域與另一個(gè)掃描區(qū)域的邊界處 分別接收從所述光束照射裝置的頭部照射而來(lái)的光束；根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用所述光束所描畫(huà)的圖案的與掃描方向正交的方向的 偏移進(jìn)行檢測(cè)。
10.如權(quán)利要求6或7所述的曝光方法，其特征在于設(shè)置多個(gè)所述光束照射裝置，利用來(lái)自多個(gè)所述光束照射裝置的多個(gè)光束而并行地進(jìn) 行基板的掃描；利用設(shè)置在所述夾盤(pán)的所述光接收機(jī)構(gòu)，在來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域 與來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束的掃描區(qū)域的邊界處，分別接收從兩個(gè)光束照射裝置的 頭部照射而來(lái)的光束；根據(jù)所接收到的光束，預(yù)先對(duì)利用來(lái)自一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案與利用 來(lái)自另一個(gè)光束照射裝置的光束所描畫(huà)的圖案的偏移進(jìn)行檢測(cè)。
11.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于使用如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的曝光裝置來(lái)進(jìn)行基板的曝光。
12.—種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于使用如權(quán)利要求6至10中任一項(xiàng)所述的曝光方法來(lái)進(jìn)行基板的曝光。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于曝光裝置、曝光方法、及顯示用面板基板的制造方法。其中的曝光方法包括一邊使夾盤(pán)(10)與光束照射裝置(20)相對(duì)地移動(dòng)，一邊將描畫(huà)數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置(20)的驅(qū)動(dòng)電路(27)。利用設(shè)置在夾盤(pán)(10)的光接收機(jī)構(gòu)(CCD相機(jī)(51))，接收從光束照射裝置(20)的頭部(20a)照射而來(lái)的光束，根據(jù)所接收到的光束預(yù)先對(duì)利用光束所描畫(huà)的圖案(2)的每次掃描的偏移進(jìn)行檢測(cè)，且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)。本發(fā)明在將光束對(duì)基板的掃描進(jìn)行多次而在基板上描畫(huà)圖案時(shí)，使利用光束所描畫(huà)的圖案的每次掃描的偏移受到抑制，提高了描畫(huà)精度。
文檔編號(hào)H01L21/77GK102096327SQ20101052835
公開(kāi)日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月20日
發(fā)明者北村純一, 原保彥, 山本健司, 植原聡 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高科技