專利名稱：噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于太陽能制造工業(yè)領(lǐng)域，具體涉及一種用于高溫?cái)U(kuò) 散設(shè)備的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置。
背景技術(shù)：
晶體硅太陽電池作為 一種將太陽能直接轉(zhuǎn)換為電能的半導(dǎo)體器
件，其技術(shù)最成熟、應(yīng)用最廣泛，占據(jù)了 90%以上的光伏電池市場份 額。太陽能作為一種取之不盡、用之不竭的新型綠色能源已經(jīng)成為全 世界的共識(shí)。世界各國均在加大力度積極推進(jìn)開發(fā)利用太陽能工程。 高溫?cái)U(kuò)散設(shè)備是制備晶體硅太陽電池的關(guān)鍵工藝設(shè)備，其技術(shù)水平的 高低直接決定著電池的光電轉(zhuǎn)換效率。硅片單片方塊電阻的均勻性是 衡量高溫?cái)U(kuò)散設(shè)備效果的重要指標(biāo)。因此，如何提高基片(硅片)單 片方塊電阻的均勻性得到了業(yè)內(nèi)人士的廣泛關(guān)注。
在太陽能制造工業(yè)中，石英擴(kuò)散管內(nèi)通入含雜質(zhì)源的工藝氣體(擴(kuò) 散源)在高溫條件下對(duì)基片進(jìn)行擴(kuò)散。圖1為已有技術(shù)的擴(kuò)散源輸送 裝置的示意圖。按照已有技術(shù)擴(kuò)散源輸送裝置的進(jìn)氣方式，工藝氣體 從石英擴(kuò)散管1的尾部通入，從而對(duì)裝載有待擴(kuò)散基片的石英舟2中 的基片(圖中的虛線表示待擴(kuò)散基片)進(jìn)行處理。這樣的進(jìn)氣方式會(huì) 造成石英擴(kuò)散管1內(nèi)擴(kuò)散源中雜質(zhì)源的濃度不均勻；這是因?yàn)?，基?對(duì)氣流的運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生阻擋作用，造成基片與基片之間雜質(zhì)源濃度不同， 基片中心的雜質(zhì)源濃度低于周圍的雜質(zhì)源濃度，從而造成擴(kuò)散后基片
的單片方塊電阻值不均勻。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種用于高溫?cái)U(kuò)散設(shè)備的噴淋式擴(kuò)散源 輸送裝置，它可以提高整個(gè)石英擴(kuò)散管內(nèi)工藝氣體雜質(zhì)源濃度分布的 均勻性，從而提高擴(kuò)散后基片單片方塊電阻均勻性。
本實(shí)用新型的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，包括 石英擴(kuò)散管；和
至少一根具有至少一個(gè)開孔的石英進(jìn)氣管， 其中待擴(kuò)散基片放置在石英擴(kuò)散管內(nèi)的石英舟內(nèi)，所述石英進(jìn)氣 管位于石英舟的上方、下方或上方和下方，且石英進(jìn)氣管上開孔的位
置與石英舟相對(duì)。
本實(shí)用新型的用于高溫?cái)U(kuò)散設(shè)備的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的有益
效果在于可以減小石英管內(nèi)雜質(zhì)源濃度分布的差異，避免基片對(duì)氣 流的運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生阻擋。擴(kuò)散后基片單片方塊電阻均勻性與已有技術(shù)的進(jìn) 氣方式相比，有了比較明顯的提高，提升的幅度在5%左右。


圖1為已有技術(shù)的擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。
圖2為本實(shí)用新型一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。
圖3為本實(shí)用新型另一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。
圖4為本實(shí)用新型又一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。
附圖標(biāo)記說明
1:石英擴(kuò)散管
2:裝載有待擴(kuò)散基片的石英舟
3:石英進(jìn)氣管 4:開孔
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。
本實(shí)用新型的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，包括 石英擴(kuò)散管；和
至少一根具有至少一個(gè)開孔的石英進(jìn)氣管， 其中待擴(kuò)散基片放置在石英擴(kuò)散管內(nèi)的石英舟內(nèi)，所述石英進(jìn)氣 管位于石英舟的上方、下方或上方和下方，且石英進(jìn)氣管上開孔的位
置與石英舟相對(duì)。
優(yōu)選的，所述石英進(jìn)氣管位于石英舟的正上方、正下方或正上方 禾p正下方。
本實(shí)用新型的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，當(dāng)石英進(jìn)氣管為一根時(shí)， 可以位于石英舟的上方，也可以位于石英舟的下方。
當(dāng)石英進(jìn)氣管為多根時(shí)，可以全部位于石英舟的上方，也可以全 部位于石英舟的下方，當(dāng)然也可以部分位于石英舟的上方''，部分位于 石英舟的下方。
優(yōu)選的，所述的石英進(jìn)氣管為一根，且位于石英舟的上方。 當(dāng)石英進(jìn)氣管的開孔為一個(gè)時(shí)，石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英
舟相對(duì)，優(yōu)選地，位于石英舟中心的正上方。
當(dāng)石英進(jìn)氣管的開孔為多個(gè)時(shí)，石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英
舟相對(duì)，優(yōu)選地，位于石英舟的正上方，且以石英舟中心為基準(zhǔn)沿石
英舟長度方向?qū)ΨQ設(shè)置。優(yōu)選地，所述石英進(jìn)氣管的開孔至少兩個(gè)，位于石英舟的正上方， 且以石英舟中心為基準(zhǔn)沿石英舟長度方向?qū)ΨQ設(shè)置。
當(dāng)然，為了提高基片單片方塊電阻雜質(zhì)源的均勻性，本領(lǐng)域技術(shù) 人員可以根據(jù)需要和實(shí)際情況(例如石英舟的大小等因素)，設(shè)置石英 進(jìn)氣管上開孔的數(shù)目。當(dāng)然，開孔的數(shù)目越多，雜質(zhì)源的均勻性越好。
更有利的是，為了得到更均勻的擴(kuò)散源濃度，擴(kuò)散源噴淋的范圍 更廣，在進(jìn)氣管的橫截面上可以開多排開孔。
附帶雜質(zhì)源的工藝氣體(擴(kuò)散源)從石英進(jìn)氣管上的開孔進(jìn)入到 石英擴(kuò)散管中，從而對(duì)石英擴(kuò)散管中石英舟內(nèi)的待擴(kuò)散基片進(jìn)行處理。 上述的擴(kuò)散源指的是工藝氣體，雜質(zhì)源是工藝氣體中包含的雜質(zhì)。
上述的石英舟用于盛放待擴(kuò)散的基片。
上述的基片包含硅片。使用硅片進(jìn)行描述也不應(yīng)理解為對(duì)本實(shí)用
新型的限制。
需要說明的是，雖然本發(fā)明的內(nèi)容以及隨后的附圖中均出現(xiàn)石英 舟和基片的描述，但是石英舟和基片并不是本發(fā)明裝置的必需部分， 這只是為了方便讀者理解和申請(qǐng)人描述。
圖2為本實(shí)用新型的一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。石英 進(jìn)氣管3置于石英舟2(盛放待擴(kuò)散基片，圖中的虛線表示待擴(kuò)散基片) 的正上方，在石英進(jìn)氣管3朝石英舟2的方向有開孔4，孔徑《mm, 以石英舟2放置的中心位置為基準(zhǔn)沿其長度方向向兩邊開孔，開孔的 數(shù)量>1個(gè)。當(dāng)然，開孔的數(shù)量越多，對(duì)均勻性的提高越有幫助。擴(kuò)散 源從石英進(jìn)氣管3尾部通入石英擴(kuò)散管1,再由石英進(jìn)氣管3上的開孔 4噴淋到石英擴(kuò)散管1內(nèi)進(jìn)行擴(kuò)散。
圖3為本實(shí)用新型的另一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。石 英進(jìn)氣管3置于石英舟2(盛放待擴(kuò)散基片)的正下方，在石英進(jìn)氣管
3朝石英舟2的方向有開孔4，孔徑^5mm，以石英舟2放置的中心位 置為基準(zhǔn)沿其長度方向向兩邊開孔，開孔的數(shù)量〉1個(gè)。當(dāng)然，開孔的 數(shù)量越多，對(duì)均勻性的提高越有幫助。擴(kuò)散源從石英進(jìn)氣管3尾部通 入石英擴(kuò)散管l,再由石英進(jìn)氣管3上的開孔4噴淋到石英擴(kuò)散管1內(nèi)
進(jìn)行擴(kuò)散。
圖4為本實(shí)用新型的另一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置的示意圖。石 英進(jìn)氣管3置于石英舟2 (盛放待擴(kuò)散基片)的正上方和正下方，在石 英進(jìn)氣管3朝石英舟2的方向有開孔4，孔徑^5mm,以石英舟2放置 的中心位置為基準(zhǔn)沿其長度方向向兩邊開孔，開孔的數(shù)量〉1個(gè)。當(dāng)然， 開孔的數(shù)量越多，對(duì)均勻性的提高越有幫助。擴(kuò)散源從石英進(jìn)氣管3 尾部通入石英擴(kuò)散管1，再由石英進(jìn)氣管3上的開孔4噴淋到石英擴(kuò)散 管1內(nèi)進(jìn)行擴(kuò)散。
權(quán)利要求1、一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，其特征在于，所述裝置包括石英擴(kuò)散管；和至少一根具有至少一個(gè)開孔的石英進(jìn)氣管，其中待擴(kuò)散基片放置在石英擴(kuò)散管內(nèi)的石英舟內(nèi)，所述石英進(jìn)氣管位于石英舟的上方、下方或上方和下方，且石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英舟相對(duì)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，其特征在于， 所述石英進(jìn)氣管位于石英舟的正上方、正下方或正上方和正下方。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，其特征在于， 當(dāng)石英進(jìn)氣管的開孔為一個(gè)時(shí)，石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英舟相 對(duì)，且位于石英舟中心的正上方。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，其特征在于， 當(dāng)石英進(jìn)氣管的開孔為多個(gè)時(shí)，石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英舟相 對(duì)，位于石英舟的正上方，且以石英舟中心為基準(zhǔn)沿石英舟長度方向 對(duì)稱設(shè)置。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，其特征在于， 其中的石英進(jìn)氣管為一根。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種噴淋式擴(kuò)散源輸送裝置，所述裝置包括石英擴(kuò)散管和至少一根具有至少一個(gè)開孔的石英進(jìn)氣管，待擴(kuò)散基片放置在石英擴(kuò)散管內(nèi)的石英舟內(nèi)；所述石英進(jìn)氣管位于石英舟的上方、下方或上方和下方；石英進(jìn)氣管上開孔的位置與石英舟相對(duì)。利用本實(shí)用新型的裝置可以減小石英擴(kuò)散管內(nèi)雜質(zhì)源濃度分布的差異，避免基片對(duì)氣流的運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生阻擋。擴(kuò)散后基片單片方塊電阻均勻性與已有技術(shù)的進(jìn)氣方式相比，有了比較明顯的提高，提升的幅度在5％左右。
文檔編號(hào)H01L21/02GK201194231SQ200820005020
公開日2009年2月11日 申請(qǐng)日期2008年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月21日
發(fā)明者姚海燕, 杰 張, 張光春, 健 楊, 汪義川, 黃治國 申請(qǐng)人:無錫尚德太陽能電力有限公司