專利名稱：曝光描圖裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系有關(guān)于一種在電路板、液晶組件用玻璃基板、PDP用玻璃組件基板等平面基材的表面形成圖案的曝光描圖裝置。
技術(shù)背景例如電路板(印刷電路板)系搭載于行動(dòng)電話、各種移動(dòng)電子機(jī)器 及個(gè)人計(jì)算機(jī)等。搭載于該等被搭載機(jī)的基材的圖案，傾向于要求其分 辨率及連接用焊盤徑、比爾徑等相當(dāng)細(xì)微的構(gòu)造。對(duì)應(yīng)于該等要求，在 圖案形成用曝光工程中，必須增加曝光裝置的光量，又必須提高光的矯 正度而提高平行光的精度。另一方面，在短期間內(nèi)可生產(chǎn)多品種量少的產(chǎn)品的要求越來(lái)越強(qiáng)。 以習(xí)知的曝光裝置，即使是接觸方式或投影曝光方式，要形成圖案則必 須有光罩，而在光罩的準(zhǔn)備、管理及維持方面上很難響應(yīng)上述要求。于此，將構(gòu)成圖案的數(shù)據(jù)系從CAD數(shù)據(jù)直接作為曝光裝置的光線的 控制訊號(hào)而利用的直接曝光方式與其裝置的要求變高。但是，習(xí)知的直 接曝光裝置由于使用405nm雷射作為照射至被曝光媒體的光線，被曝光 媒體的圖案形成的反應(yīng)速度慢。因此可解決該等問(wèn)題的曝光繪圖裝置被 強(qiáng)力渴望。[專利文獻(xiàn)l]特開(kāi)2006-113413[專利文獻(xiàn)2]特開(kāi)2006-343684[專利文獻(xiàn)3]特開(kāi)2006-337475發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所欲解決的問(wèn)題但是，習(xí)知的曝光描圖裝置由于使用405nm雷射作為照射至被曝光媒體的光線，被曝光媒體的圖案形成的反應(yīng)速度慢，會(huì)妨礙電路形成的 生產(chǎn)性。又，在大型基板的被曝光體的全面形成圖案時(shí)，需搭載復(fù)數(shù)個(gè) 空間光調(diào)變組件，對(duì)其照射較強(qiáng)的雷射光有成本高的問(wèn)題。專利文獻(xiàn)2或?qū)＠墨I(xiàn)3所揭露的圖案描繪裝置雖然是將由小輸出的7根UV燈光源照射的光線以光纖供給至一個(gè)位置或復(fù)數(shù)個(gè)光學(xué)系的曝光描圖裝置， 但會(huì)有無(wú)法控制配合被曝光體的感光條件的光線的問(wèn)題。本發(fā)明的目的在于提供一種曝光描圖裝置，搭載著少數(shù)的光源和復(fù)數(shù)個(gè)作為空間光調(diào)變組件的DMD (Digital Micro-mirror Device)組件， 在確保高運(yùn)轉(zhuǎn)率之同時(shí)，可確認(rèn)該光源的光量、空間光調(diào)變組件的運(yùn)轉(zhuǎn) 狀況而調(diào)整。第一觀點(diǎn)的曝光描圖裝置包括一孔洞構(gòu)件，設(shè)有用于將上述光源分 離成第一光束及第二光束的第一開(kāi)口窗及第二開(kāi)口窗；第一及第二空間 光調(diào)變裝置，空間調(diào)變上述第一光束及第二光束；投影光學(xué)系，將上述 第一空間光調(diào)變裝置及第二空間光調(diào)變裝置所調(diào)變的第一光束及第二光 束投影至被曝光體；第一光量傳感器，在上述孔洞構(gòu)件的附近，檢測(cè)出 上述光源的光量；第二光量傳感器，檢測(cè)出穿透上述投影光學(xué)系的第一 光束及第二光束的光量；以及判斷裝置，根據(jù)上述第一光量傳感器的第 一輸出信息以及上述第二光量傳感器的第二輸出信息而判斷從上述孔洞 構(gòu)件至上述被曝光體的狀況。藉由該構(gòu)造，第一觀點(diǎn)的曝光描圖裝置可掌握光束分離前的光源的 光量與光束分離后通過(guò)投影光學(xué)系的光量。因此，判斷裝置可判斷從孔 洞構(gòu)件至被曝光體的狀況。第二觀點(diǎn)的曝光描圖裝置中，上述第二光量傳感器被搭載于被曝光 體臺(tái)座上，在穿透上述投影光學(xué)系的第一光束及第二光束的正下方進(jìn)入 及退避。藉由該構(gòu)造，在有必要檢測(cè)出通過(guò)投影光學(xué)系的第一光束及第二光 束的光量時(shí)，第二光量傳感器可進(jìn)入通過(guò)投影光學(xué)系的第一光束及第二 光束的正下方。又，在曝光描圖工程中，第二光量傳感器可退避。第三觀點(diǎn)的曝光描圖裝置更包括第一縮聚部，設(shè)于第一光束的從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的光路中；第二縮聚部，設(shè)于第二光束的從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的光路中；判斷裝置系根據(jù)上述第二光 量傳感器所檢測(cè)出的第一光束的第一輸出信息與上述第二光束的第二輸 出信息而調(diào)整上述第一縮聚部及第二縮聚部。由于從光源至被曝光體之間存在著復(fù)數(shù)個(gè)光學(xué)組件等的光學(xué)零部 件，當(dāng)以孔洞構(gòu)件分離光束時(shí)，使分離的第一光束與第二光束的光量完 全一致是困難的。于此在第三觀點(diǎn)的曝光描圖裝置中，設(shè)置縮聚部，藉 由調(diào)整該縮聚部而使第一光束的光量與第二光束的光量一致。第四觀點(diǎn)的曝光描圖裝置更包括記憶裝置，記憶著伴隨上述被曝 光面隨著時(shí)間的變化的理想光量數(shù)據(jù)；警告部，當(dāng)上述第二光量傳感器的輸出信息超過(guò)上述記憶裝置所記憶的光量信息的既定范圍以上時(shí)，輸 出關(guān)于運(yùn)轉(zhuǎn)情況的警告。藉由該構(gòu)造，記憶裝置記憶著被曝光面隨著時(shí)間變化的理想的光量 數(shù)據(jù)。因此，可做隨著時(shí)間變化的被曝光面上的預(yù)定的光量與實(shí)際的光 量的比較。當(dāng)光源為高壓水銀燈等時(shí)，可警告由于時(shí)間變化的燈泡壽命 等。警告可包括燈泡警告或聲音警告。第五觀點(diǎn)的曝光描圖裝置更包括警告部，當(dāng)上述第一光量傳感器 與上述第二光量傳感器的輸出信息超過(guò)既定關(guān)系以外時(shí)，輸出關(guān)于從上 述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的運(yùn)轉(zhuǎn)情況的警告。若第一光量傳感器輸出正常的輸出信息而第二光量傳感器輸出正常 范圍以外的輸出信息，則可掌握從孔洞構(gòu)件至被曝光體的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況。第六觀點(diǎn)的曝光描圖裝置的判斷裝置系根據(jù)第二光量傳感器所檢測(cè) 出的第一光束的光量與第二光束的光量，將關(guān)于第一或第二空間光調(diào)變 裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的警告輸出至警告部。分離的第一光束及第二光束應(yīng)該具有相同的光量，但是，在第二光 量傳感器檢測(cè)出的第一光束的光量與第二光束的光量有差異的情況下， 判斷裝置判斷為特別是需定期更換的第一或第二空間光調(diào)變裝置的操作 狀況有異常而可做警告。第七觀點(diǎn)的曝光描圖裝置更包括第三光量傳感器，檢測(cè)出上述第一及第二空間光調(diào)變裝置往不穿透上述投影光學(xué)系的方向上所調(diào)變的上 述第一光束及第二光束的光量，判斷裝置系根據(jù)第二光量傳感器的輸出 信息與第三光量傳感器的輸出信息而判斷從第一及第二空間光調(diào)變裝置 至被曝光體的狀況。根據(jù)第二光量傳感器的輸出信息與第三光量傳感器的輸出信息，可 決定異常位置是在空間光調(diào)變裝置上還是在投影光學(xué)系上。第八觀點(diǎn)的曝光描圖裝置中，第三光量傳感器系兼用第二光量傳感膽益。藉由此構(gòu)造，由于不必另外設(shè)置第三光量傳感器，可以降低成本。 發(fā)明的效果本發(fā)明的曝光描圖裝置系由復(fù)數(shù)個(gè)光量傳感器而判斷照射光，可判 斷光源的發(fā)光狀況與空間調(diào)變組件的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)，藉由發(fā)出空間調(diào)變組件 的異常及壽命的警報(bào)，可形成穩(wěn)定的圖案及穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)裝置。


第1圖為本發(fā)明之曝光描圖裝置100的概略立體圖。 第2圖為第一照明光學(xué)系30-1及30-2的概念圖。 第3圖為第二照明光學(xué)系37、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的立 體圖。第4圖為從Y方向觀看的反射光學(xué)組件22-1及22-2以及全反射鏡 23-1至全反射鏡23-8的圖。第5圖為第二照明光學(xué)系37的剖視圖。第6A圖為一個(gè)DMD組件41的立體圖，第6B圖為表示微面鏡M 的動(dòng)作的圖。第7A圖為載置于被曝光體臺(tái)座90的被曝光體CB的描圖處理的隨 時(shí)間變化的圖，第7B及7C圖為說(shuō)明縫合的圖。 第8圖為描圖處理的流程圖。第9圖為進(jìn)行曝光描圖裝置100的曝光量調(diào)整而檢測(cè)出光學(xué)系的異 常的方塊圖。第10圖為臺(tái)座面的照度特性pd的隨著時(shí)間變化的圖。第11圖為確認(rèn)高壓水銀燈10、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的流程圖。第12圖為確認(rèn)高壓水銀燈10、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的流程圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明10 高壓水銀燈；11 橢圓面鏡；19 電源控制部20 孔洞構(gòu)件； 21 開(kāi)口窗；22 反射光學(xué)組件；22H 穿透區(qū)域；23 全反射面鏡；29 檢測(cè)窗；30 第一照明光學(xué)系；35 縮聚調(diào)整部；37 第二照明光學(xué)系； 41 DMD組件；60 投影光學(xué)系；80 控制部；82 記憶電路；83 DMD 驅(qū)動(dòng)電路；84 被曝光體臺(tái)座驅(qū)動(dòng)電路；85 縮聚驅(qū)動(dòng)電路；88 判斷 電路；89 警告電路；90 被曝光體臺(tái)座，CB 被曝光體；IL 曝光光 線；SS11 第一光樣量傳感器；SS12 第二光量傳感器；SS31 第三光 量傳感器；SP 曝光區(qū)域具體實(shí)施方式
<曝光描圖裝置的全體構(gòu)造>第1圖為曝光描圖裝置100的立體圖。曝光描圖裝置100大致包括 第一照明光學(xué)系30、第二照明光學(xué)系37、空間光調(diào)變部41、投影光學(xué)系 60以及被曝光體臺(tái)座90。在本實(shí)施型態(tài)中，為了對(duì)大面積的被曝光體 CB做曝光而具備二系統(tǒng)的第一照明光學(xué)系30-1及第一照明光學(xué)系30-2。 曝光描圖裝置100的第一照明光學(xué)系30-1及第一照明光學(xué)系30-2具有第 一高壓水銀燈10-1及第二高壓水銀燈10-2 (參照第2圖)。第2圖為第一照明光學(xué)系30-1及第二照明光學(xué)系30-2的概念圖。以 下由于第一照明光學(xué)系30-1及第二照明光學(xué)系30-2兩系統(tǒng)是相同的構(gòu) 造，因此僅說(shuō)明第一系統(tǒng)的照明光學(xué)系30-l。第一高壓水銀燈10-1系配置于橢圓鏡11-1的第一焦點(diǎn)位置上。橢圓 鏡11-1將來(lái)自高壓水銀燈10照射的UV光有效地反射至第二焦點(diǎn)位置的 方向。除了高壓水銀燈之外，也可以使用氙氣燈或閃光燈。配置于第一照明光學(xué)系30-l的第一高壓水銀燈10-1為了使其光輸出穩(wěn)定在既定的位準(zhǔn)，從曝光描圖裝置100的電源控制部19 (參照第9圖) 投入電源到切斷電源,保持射出既定位準(zhǔn)的照明光。因此，被曝光體CB 未曝光期間，為了遮蔽曝光光線IL，在橢圓鏡ll-l的第二焦點(diǎn)位置配置 遮片13-1。遮片13-1配置于橢圓鏡11-1的第二焦點(diǎn)位置的理由是，由于 從高壓水銀燈10射出的曝光光線IL被集中在第二焦點(diǎn)位置，遮片13-1 以少的移動(dòng)量而遮蔽曝光光線IL。第一照明光學(xué)系30-1包含準(zhǔn)直透鏡31-1及復(fù)眼透鏡32-1等，將曝 光光線IL成形成具有均一光強(qiáng)度的光束。來(lái)自形成于橢圓鏡11-1的第二 焦點(diǎn)位置的光源像的發(fā)散光首先由準(zhǔn)直透鏡31-1形成大略平行的光束， 而入射至波長(zhǎng)選擇濾光器15-1。該波長(zhǎng)調(diào)整濾光器15-1為例如光量調(diào)整用的ND濾光器，搭載著截 斷350run以下及450nm以上的波長(zhǎng)的g線h線i線用穿透濾光器、截?cái)?350nm以下及380nm以上的波長(zhǎng)的i線用穿透濾光器、截?cái)?90nm以下 及420nm以上的波長(zhǎng)的h線用穿透濾光器、截?cái)?20nm以下及450nm以 上的波長(zhǎng)的g線用穿透濾光器等的復(fù)數(shù)個(gè)濾光器。該濾光器的選擇系對(duì) 應(yīng)于涂布在被曝光體的光阻的種類而決定。波長(zhǎng)被選擇的曝光光線IL系入射于復(fù)眼透鏡32-1，在光束范圍內(nèi)照 射強(qiáng)度被均一化。均一化的曝光光線IL朝具備四個(gè)開(kāi)口窗21與光兩檢 測(cè)用的檢測(cè)窗29的孔洞構(gòu)件20-1照射。曝光光線IL系從相對(duì)于孔洞構(gòu) 件20-1成正交的Z方向入射，分割成四道光束。由全反射鏡或全反射棱 鏡等的反射光學(xué)組件22-l反射至水平方向?；氐降?圖，由孔洞構(gòu)件20-l、孔洞構(gòu)件20-2、反射光學(xué)組件22-l 及反射光學(xué)組件22-2分離成八道的曝光光線IL系由全反射鏡23-1至全 反射鏡23-8反射至Y方向。由全反射鏡23-1至全反射鏡23-8所反射的 曝光光線IL系入射至第二照明光學(xué)系37-1至第二照明光學(xué)系37-8。入射至第二照明光學(xué)系37-1至第二照明光學(xué)系37-8的曝光光線IL 成形成適當(dāng)?shù)墓饬考肮馐螤?，而照射至作為空間光調(diào)變組件的排成一 列的八個(gè)DMD組件41-1至DMD組件41-8。DMD組件41-1至DMD組件41-8系由提供的影像數(shù)據(jù)對(duì)曝光光線IL做空間調(diào)變。由DMD組件41-1 至DMD組件41-8所調(diào)變的光束系經(jīng)由投影光學(xué)系60-1至投影光學(xué)系 60-8而以既定的倍率照射至被曝光體CB。該投影光學(xué)系60由于在被曝光體CB中使八個(gè)系統(tǒng)的各光路的照明 區(qū)域均一，在八個(gè)系統(tǒng)的各光路中微妙地調(diào)整倍率。又，對(duì)應(yīng)于被曝光 體CB的大小來(lái)調(diào)整倍率。曝光描圖裝置100具備合計(jì)8根的投影光學(xué)系 60，該等八根的投影光學(xué)系60在X方向上配置成一列。配置成一列的 DMD組件41及投影光學(xué)系60容易制造及維護(hù)。曝光描圖裝置100在投影光學(xué)系60的Z方向的下側(cè)，具備支持第一 照明光學(xué)系30、第二照明光學(xué)系37以及投影光學(xué)系60等的框體95。在 框體95上配置著一對(duì)導(dǎo)軌，在該等導(dǎo)軌上搭載著被曝光體臺(tái)座90。該被 曝光體臺(tái)座90以未圖標(biāo)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)，例如由步進(jìn)馬達(dá)等馬達(dá)驅(qū)動(dòng)導(dǎo) 螺桿等。藉此，被曝光體臺(tái)座90沿著一對(duì)導(dǎo)軌，在較長(zhǎng)方向的Y方向， 相對(duì)于投影光學(xué)系60移動(dòng)。在被曝光體臺(tái)座90上設(shè)置著作為被曝光體 CB的涂布有光阻的基板。該被曝光體CB在被曝光體臺(tái)座90上由真空 吸附而固定。又，對(duì)于大的被曝光體而言，僅靠合計(jì)八個(gè)系統(tǒng)的投影光 學(xué)系無(wú)法在所有的X方向的區(qū)域做曝光。因此，被曝光體臺(tái)座90可于X方向移動(dòng)。<第二照明光學(xué)系從孔洞構(gòu)件20至DMD組件41〉孔洞構(gòu)件20-l及孔洞構(gòu)件20-2系由金屬或陶瓷等低蓄熱性且熱膨脹 系數(shù)小的材料形成。由于曝光光線IL的一部份照射至孔洞構(gòu)件20-1及孔 洞構(gòu)件20-2，熱容易累積。又，也可以在孔洞構(gòu)件上設(shè)置放熱構(gòu)件，使 孔洞構(gòu)件20-1及孔洞構(gòu)件20-2不會(huì)因熱膨脹而變形?？锥礃?gòu)件具有對(duì)應(yīng)于DMD組件41的數(shù)量的幵口窗21。例如DMD 組件的光反射面為長(zhǎng)14mm寬12mm的矩形的大小。因此，照射至DMD 組件的光反射面的曝光光線IL必須是配合光反射面的矩形，必須配合 DMD組件的數(shù)量。第3圖為第二照明光學(xué)系37、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的立 體圖。又，第4圖為從Y方向觀看的反射光學(xué)組件22-l及22-2以及全反射鏡23-1至全反射鏡23-8的圖。通過(guò)孔洞構(gòu)件20-1及孔洞構(gòu)件20-2的Z方向的光束系以平面鏡或 在表面反射入射光的棱鏡等的反射光學(xué)組件22-1及反射光學(xué)組件22-2反 射至X方向。即，以孔洞構(gòu)件20-1分離成四道光束的曝光光線IL系以 反射光學(xué)組件22-l反射，在X方向上分離成光路IL1、光路IL2、光路 IL3以及光路IL4。同樣地，以孔洞構(gòu)件20-2分離成四道光束的曝光光線 IL系由反射光學(xué)組件22-2反射，在X方向上分離成光路IL5、光路IL6、 光路IL7以及光路IL8。分離的光路IL1至IL8系由全反射鏡23-1至全反 射鏡23-8反射至Y方向，而向DMD組件41-1至DMD組件41-8。如第 4圖所示，在反射光學(xué)組件22-1及反射光學(xué)組件22-2的中央部設(shè)有孔部 或無(wú)遮蔽物的透過(guò)部22A。以全反射鏡23-1至全反射鏡23-8而反射的光束經(jīng)由透鏡等的光學(xué)組 件及縮聚調(diào)整部35所構(gòu)成的第二照明光學(xué)系37-l至第二照明光學(xué)系37-8 而導(dǎo)入DMD組件。如第3圖所示，分離的光路IL1、光路IL4、光路IL5 及光路IL8至個(gè)別的DMD組件41的距離是相等的，分離的光路IL2、 光路IL3、光路IL6及光路IL7至個(gè)別的DMD組件41的距離是相等的。 但是光路IL1 、光路IL4、光路IL5及光路IL8與光路IL2、光路IL3、光 路IL6及光路IL7的光路長(zhǎng)不同。以DMD組件41-1至DMD組件41-8 反射的曝光光線IL經(jīng)由投影光學(xué)系60-1至投影光學(xué)系60-8必須以均一 的形狀照射至被曝光體CB。即，若從DMD組件41至被曝光體CB的光 路長(zhǎng)度不是一定，則形成的最終的圖案的分辨率、其它的質(zhì)量隨著照射 曝光光線IL的光路而變化。于此，從全反射鏡23-1至全反射鏡23-8到 DMD組件41-1至DMD組件41-8的光路IL1至光路IL8調(diào)整成均一的 焦點(diǎn)距離的光線而投入DMD組件41。當(dāng)然，與第3圖不同，在從全反 射鏡23至DMD組件41的全部的光路長(zhǎng)不同的情況下，必須個(gè)別調(diào)整。<光量傳感器>本實(shí)施例的曝光繪圖裝置具有檢測(cè)高壓水銀燈的光量的第一光量傳 感器SSll、檢測(cè)被照射于曝光體CB的光量的第二光量傳感器SS12以及 檢測(cè)DMD組件的狀態(tài)的第三光量傳感器SS3。如第4圖所示，本實(shí)施例的曝光描圖裝置100具有檢測(cè)出第一高壓水銀燈10-1與第二高壓水銀燈10-2的光量的第一光量傳感器SS11與第 一光量傳感器SS12。第一光量傳感器SS11與第一光量傳感器SS12系配置于孔洞構(gòu)件 20-1及孔洞構(gòu)件20-2的檢測(cè)窗29的下方。檢測(cè)出高壓水銀燈10的光量 之同時(shí)，配置于盡可能接近DMD組件41的位置，藉此不受由于構(gòu)成第 一照明光學(xué)系30的光學(xué)組件等衰減的影響。具體而言，在孔洞構(gòu)件20的Z方向的下側(cè)配置著反射光學(xué)組件22。 反射光學(xué)組件22使來(lái)至Z方向的曝光光線IL全反射至X方向。gp，反 射光學(xué)組件22的反射面系相對(duì)于X-Y平面做45度的傾斜。又，反射光 學(xué)組件22的反射面可配合于開(kāi)口窗21的大小，也可為與相鄰的開(kāi)口窗 21共享的反射面。該反射光學(xué)組件22在檢測(cè)窗29的下方形成穿透部 22A。第一光量傳感器SS11及第一光量傳感器SS12系配置于穿透部22A 下方的空洞。第二光量傳感器SS21及第二光量傳感器SS22 (參照第9圖)在被 曝光體臺(tái)座90上載置著二個(gè)。第二光量傳感器SS21和第二光量傳感器 SS22的間隔與投影光學(xué)系60-1和投影光學(xué)系60-2的間隔相同。因此， 第二光量傳感器SS21和第二光量傳感器SS22可各自一次檢測(cè)出個(gè)別的隨著被曝光體臺(tái)座90的移動(dòng)，第二光量傳感器SS21和第二光量傳 感器SS22在被曝光體CB所載置的同一面內(nèi)可于XY方向移動(dòng)。 一個(gè) DMD組件41往被曝光體CB的方向上朝向光路，將曝光光線IL照射至 既定的位置上，被曝光體臺(tái)座90上的第二光量傳感器SS21及第二光量 傳感器SS22移動(dòng)至既定的位置，藉此可測(cè)定在被曝光體臺(tái)座90的面上 的光量。對(duì)于其它的六個(gè)DMD組件41也是相同。而且，第二光量傳感器SS2只為一個(gè)也可以。在此情況下，雖然有 必要移動(dòng)至對(duì)應(yīng)于八系統(tǒng)的投影光學(xué)系60的既定位置但可降低成本。另 一方面，八個(gè)第二光量傳感器SS21至第二光量傳感器SS28可設(shè)于被曝 光體臺(tái)座90上。在該情況下，雖然可一次檢測(cè)出八個(gè)系統(tǒng)的光量，但必須先調(diào)整八個(gè)第二光量傳感器SS21至第二光量傳感器SS28的感度。第三光量傳感器SS31及第三光量傳感器SS32 (參照第9圖)在本 實(shí)施例中可與上述第二光量傳感器SS12兼用。DMD組件41的全部的微 面鏡M，不朝向投影光學(xué)系60的方向而是傾斜既定角度,由此，光束不經(jīng)由 投影光學(xué)系60而直接地入射于第三光學(xué)傳感器SS31及第三光量傳感器 SS32。第三光量傳感器SS31也可不兼用于上述第二光量傳感器SS2而配 置于DMD組件41的附近。當(dāng)?shù)谌饬總鞲衅鱏S3配置于DMD組件41 的附近的壁面等的固定構(gòu)件時(shí)，第三光量傳感器SS3分別配置于八系統(tǒng)。 藉由掌握第二光量傳感器SS2及第三光量傳感器SS3的輸出狀況，可檢 查入射DMD組件的光量或微面鏡的異常。 <縮聚調(diào)整部>第5圖為第二照明光學(xué)系37的一系統(tǒng)的剖面。由孔洞構(gòu)件20、反射光學(xué)組件22及全反射面鏡23反射的光束IL 經(jīng)由透鏡等的光學(xué)組件及縮聚調(diào)整部35所構(gòu)成的第二照明光學(xué)系37而 導(dǎo)入DMD組件41。如第5圖所示，縮聚調(diào)整部在與光軸正交的位置上設(shè)置縮聚窗，使 四個(gè)分離的各光束照射至被曝光體CB的光量均一化而設(shè)定該縮聚窗的 面積。該縮聚部的面積的設(shè)定可以是預(yù)設(shè)的固定開(kāi)口，也可以是以馬達(dá) 等驅(qū)動(dòng)的方式。在縮聚調(diào)整部35,高壓水銀燈的大約1/4的光量，即熱量被投入到 縮聚窗。當(dāng)調(diào)整該縮聚窗的面積而使通過(guò)該縮聚窗的光束IL的光量均一 化時(shí)，由于縮聚窗的內(nèi)徑的邊緣會(huì)遮蔽光束IL，在縮聚調(diào)整部35會(huì)產(chǎn)生 熱。因此在縮聚調(diào)整部35設(shè)置羽狀的放熱部35F，以冷卻噴嘴吹附冷媒 而限制縮聚調(diào)整部35的溫度上升。安裝于該縮聚調(diào)整部35的放熱部35F 系也可以復(fù)數(shù)個(gè)羽狀的平板所構(gòu)成。通過(guò)第二照明光學(xué)系37的光束IL以面鏡39反射至Z方向，而導(dǎo)入 反射棱鏡43。在反射棱鏡43藉由改變反射角，將入射光束IL導(dǎo)入DMD 組件41 ，同時(shí)以DMD組件41的微面鏡M反射的光束IL反射至投影光 學(xué)系60的方向。 ，<DMD組件>第6a圖表示一個(gè)DMD組件41的立體圖，第6b圖表示微面鏡M的 動(dòng)作。本實(shí)施例的曝光描圖裝置100具有八個(gè)DMD組件41 ，其一個(gè)DMD 組件41的光反射面由例如配置成1024x1280的數(shù)組狀的1310720個(gè)的微 面鏡M所構(gòu)成。DMD組件41沿X方向配置1024個(gè)微面鏡M,沿Y方 向配置1280個(gè)微面鏡M，例如在X方向具有約12mm的光反射面，在Y 方向具有約14mm的光反射面。每個(gè)微面鏡M的尺寸為例如11.5pm角。該DMD組件41系例如為在晶圓42上以鋁濺鍍制作的反射率高的 矩形微面鏡M由靜電作用而動(dòng)作的組件。如第6b圖所示，個(gè)個(gè)微面鏡 M以對(duì)角線為中心可旋轉(zhuǎn)傾斜，定位于穩(wěn)定的二個(gè)姿勢(shì)。當(dāng)任意的微面 鏡M (m， n) (1^mS1024， 1^n^1280)定位于被曝光體CB方向時(shí)， 入射的曝光光線IL朝向投影光學(xué)系60而被反射。當(dāng)微面鏡M(m， n) 定位于投影光學(xué)系60的外側(cè)方向時(shí)，匯聚的光向光吸收板(未圖示)反 射而從投影光學(xué)系60散逸。<曝光描圖的動(dòng)作>參照第7圖及第8圖，針對(duì)曝光描圖裝置100中的描圖處理做說(shuō)明。 第7A圖為載置于被曝光體臺(tái)座90上的被曝光體CB的描圖處理的隨時(shí)間變化的圖。第7B及7C圖為說(shuō)明縫合的圖。又，第8圖為描圖處理的流程圖。以虛線圍繞的長(zhǎng)方形的區(qū)域SP1至SP8為由八個(gè)投影光學(xué)系60-1至 投影光學(xué)系60-8照射至X-Y平面上的曝光區(qū)域。在X方向上排成一列的 曝光區(qū)域SP1至曝光區(qū)域SP8藉由被曝光體臺(tái)座卯在Y方向移動(dòng)，由 DMD組件41-1至DMD組件41-8做空間調(diào)變的圖案被曝光至被曝光體 CB。在被曝光體CB上涂布著光阻或干膜。曝光后的曝光完畢的區(qū)域EX 藉由被曝光體臺(tái)座90于Y方向移動(dòng)而延伸至被曝光體CB的一邊的端部 CB-EB。當(dāng)曝光區(qū)域SP1至曝光區(qū)域SP8到達(dá)被曝光體CB的端部時(shí)，遮片 13-1及遮片13-2 (參照第2圖)暫時(shí)遮蔽曝光光線IL。然后，被曝光體臺(tái)座卯于X方向移動(dòng)，當(dāng)移動(dòng)至被曝光體CB尚未曝光的區(qū)域時(shí)，打開(kāi)遮片13-1及遮片13-2，曝光區(qū)域SP1至曝光區(qū)域SP8再度地被曝光。然 后，藉由被曝光體臺(tái)座卯于Y方向移動(dòng)，曝光完畢的區(qū)域EX延伸至被 曝光體CB的端部CB-EA。如此，藉由往復(fù)一次或數(shù)次在一片被曝光體 CB例如在電子基板上描繪電路。以第8圖的流程圖做詳細(xì)的說(shuō)明。在步驟Rll中，第一高壓水銀燈10-1及第二高壓水銀燈10-2的光 量系以第一光量傳感器SS11及第一光量傳感器SS12做確認(rèn)。電源控制 部19控制第一高壓水銀燈10-1及第二高壓水銀燈10-2的光量大約均等。 第一高壓水銀燈10-1及第二高壓水銀燈10-2的光量大約均等后，遮片 13遮蔽曝光光線IL。在步驟R12中，輸入被曝光體CB在X方向Y方向的尺寸及涂布的 光阻的感光度條件等。在步驟R13中，進(jìn)行八個(gè)投影光學(xué)系60-1至投影光學(xué)系60-8的倍 率調(diào)整。例如，被曝光體CB的X方向的寬度為640mm。此時(shí)，曝光區(qū) 域SP1的X方向的寬度為40mm而設(shè)定投影光學(xué)系60的倍率時(shí)，排成 一列的曝光區(qū)域SPl至曝光區(qū)域SP8為320mm。因此，當(dāng)被曝光體臺(tái)座 90往復(fù)一次時(shí)，X方向的寬度640mm的曝光結(jié)束。而且，在該計(jì)算例中， 并未考慮后述的縫合的區(qū)域。實(shí)際上，設(shè)置縫合區(qū)域而使曝光區(qū)域SP1 的X方向的寬度在40mm以上而設(shè)定投影光學(xué)系60的倍率。而且，使倍 率為等倍率而設(shè)定成相當(dāng)于DMD組件41的寬度的12mm或14mm也可。在步驟R14中，根據(jù)涂布于被曝光體CB的光阻、高壓水銀燈10的 光量以及投影光學(xué)系60的倍率等而計(jì)算被曝光體90的Y方向的移動(dòng)速 度。在步驟R15中，被曝光體CB由被曝光體臺(tái)座90所真空吸附。 在步驟R16中，遮片13開(kāi)放，開(kāi)始被曝光體CB的曝光描圖。 在步驟R17中，被曝光體臺(tái)座90于Y方向移動(dòng)。 在步驟R18中，當(dāng)曝光區(qū)域SP1至曝光區(qū)域SP8到達(dá)被曝光體CB 的端部時(shí)，遮片13遮蔽曝光光線IL。在此狀態(tài)下，被曝光體CB的一半成為曝光完畢區(qū)域EX。在步驟R19中，被曝光體90于X方向移動(dòng)。在步驟R20中，遮片13開(kāi)放，進(jìn)行曝光體CB的曝光描圖。在步驟R21中，被曝光體臺(tái)座90于Y方向移動(dòng)。在步驟R22中，再度地，當(dāng)曝光區(qū)域SP1至曝光區(qū)域SP8到達(dá)被曝 光體CB的端部時(shí)，遮片13遮蔽曝光光線IL。在此狀態(tài)下，被曝光體 CB的全面成為曝光完畢的區(qū)域EX。在步驟R23中，被曝光體CB從真空吸附被釋放，被曝光體CB從 被曝光體臺(tái)座90取出。<縫合>接著說(shuō)明縫合。由于相鄰的曝光區(qū)域SP的交界處、光量不均以及位置偏移，會(huì)有顯 眼的接縫。因此為了不使接縫顯眼，而實(shí)施縫合。第7B圖為第7A圖的 曝光區(qū)域SP6及曝光區(qū)域SP7的放大，曝光區(qū)域SP6及SP7分離的圖。 曝光區(qū)域SP6及曝光區(qū)域SP7上形成全曝光區(qū)域EX1及半曝光區(qū)域EX2。在全曝光區(qū)域EX1，DMD組件41-6的微面鏡M旋轉(zhuǎn)至使全部的曝光 光線IL根據(jù)電路圖案朝向被曝光體CB。另一方面，在半曝光區(qū)域EX2， 為了使經(jīng)過(guò)二度曝光而形成圖案，DMD組件41-6的微面鏡M旋轉(zhuǎn)至使 約一半的曝光光線IL朝向被曝光體CB。 DMD組件41-7的微面鏡M也 是同樣地被驅(qū)動(dòng)。因此，當(dāng)相鄰的曝光區(qū)域SP6及曝光區(qū)域SP7的半曝 光區(qū)域EX2重迭時(shí)，如第7C圖所示，成為全曝光區(qū)域EX1。而且，在 第7A圖中，去程的曝光區(qū)域SP1的半曝光區(qū)域EX2與回程的曝光區(qū)域 SP8的半曝光區(qū)域EX2重迭。<光量調(diào)整>第9圖為進(jìn)行曝光描圖裝置100的曝光量調(diào)整，而檢測(cè)出光學(xué)系的 異常的流程圖。為了說(shuō)明的簡(jiǎn)略化，從八個(gè)系統(tǒng)的第二照明光學(xué)系37至 投影光學(xué)系60的構(gòu)造中，畫(huà)出從第二照明光學(xué)系37-1至投影光學(xué)系60-1 ， 從第二照明光學(xué)系37-2至投影光學(xué)系60-2，從第二照明光學(xué)系37-5至投 影光學(xué)系60-5，從第二照明光學(xué)系37-6至投影光學(xué)系60-6的方塊圖。16控制部80系與第一電源控制部19-1及第二電源控制部19-2連接， 與DMD驅(qū)動(dòng)電路連接。而且，控制部80系連接被曝光體臺(tái)座驅(qū)動(dòng)電路 84及縮聚驅(qū)動(dòng)電路85。又，控制部80具有記憶電路82、判斷電路88及 警告電路89。記憶電路82，如第10圖所示，記憶隨著曝光描圖裝置IOO 的高壓水銀燈10的使用時(shí)間的變化的臺(tái)座面的照度特性pd。曝光描圖裝 置100由于具有二個(gè)高壓水銀燈10，記憶電路82記憶著可控制第一高壓 水銀燈10-1與第二高壓水銀燈10-2的光量的光量范圍pr。又，記憶電路 82記憶著最低限度的光量的門坎值th。因?yàn)楫?dāng)光量降低至門坎值以下時(shí)， 曝光描圖裝置100的被曝光體CB的曝光速度降低而生產(chǎn)性降低。判斷電路88系根據(jù)第一光量傳感器SS1、第二光量傳感器SS2及第 三光量傳感器SS3而指示電源控制部19、被曝光體臺(tái)座驅(qū)動(dòng)電路84或縮 聚驅(qū)動(dòng)電路85，或指示警告電路89。警告電路89在曝光描圖裝置100產(chǎn)生異常時(shí)發(fā)出警告聲音或以警告 燈警告。例如，高壓水銀燈IO發(fā)生異常時(shí)，或DMD組件41發(fā)生異常時(shí)， 如第10圖所示的光量線fpd般，照度急遽降落而下降至門坎值th以下。 此時(shí)，判斷電路88根據(jù)第一光量傳感器SS11、第二光量傳感器SS12及 第三光量傳感器SS3的輸出而判斷有異常，將警告輸出至警告電路89。第一電源控制部19-1及第二電源控制部19-2進(jìn)行供給至第一高壓水 銀燈10-1及第二高壓水銀燈10-2的電力調(diào)整。DMD驅(qū)動(dòng)電路83根據(jù)從 控制部80供給的電路圖案信息，而驅(qū)動(dòng)DMD組件41的配置成1024x 1280 的數(shù)組狀的微面鏡M。被曝光體臺(tái)座驅(qū)動(dòng)電路84以既定速度驅(qū)動(dòng)曝光體 臺(tái)座90。被曝光體臺(tái)座驅(qū)動(dòng)電路85將縮聚調(diào)整部15驅(qū)動(dòng)至既定的大小 而使八個(gè)系統(tǒng)的光量在所有的曝光面形成相同的照度。以第一光量傳感器SS11所檢測(cè)出的高壓水銀燈10的光量的輸出信 息為51。又以第二光量傳感器SS2所檢測(cè)出的各光路的輸出信息為S2， 以第三光量傳感器SS2所檢測(cè)出的各光路的光量的輸出信息為53。<高壓水銀燈的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況>第一光量傳感器SS11檢測(cè)出經(jīng)由第一照明光學(xué)系30的高壓水銀燈 10-1的直接的光量。由第一光量傳感器SS11的輸出信息51-1及51-2，第一電源控制部19-1及第二電源控制部19-2系調(diào)整從高壓水銀燈10至 孔洞構(gòu)件20的二系統(tǒng)的高壓水銀燈10的光量平衡。當(dāng)高壓水銀燈10的 調(diào)整結(jié)束時(shí)，在孔洞構(gòu)件20-1及孔洞構(gòu)件20-2中，光量大略相等。判斷電路88將第一光量傳感器SS11的輸出信息51與預(yù)設(shè)的被曝光 體的感光度條件比較，判斷是否可以既定的運(yùn)轉(zhuǎn)條件進(jìn)行圖案形成等曝 光。接著，判斷電路8S將第一光量傳感器SS11的輸出信息S1與預(yù)先記 憶的高壓水銀燈10的基準(zhǔn)光量作比較，可確認(rèn)高壓水銀燈10的發(fā)光效 率。當(dāng)達(dá)到預(yù)設(shè)的發(fā)光時(shí)，控制部80可輸出運(yùn)轉(zhuǎn)許可信息。運(yùn)轉(zhuǎn)許可信息 指，例如由鍵盤輸入的曝光設(shè)定或描圖設(shè)定的許可，手動(dòng)的被曝光體臺(tái) 座90的原點(diǎn)移出的許可等。假設(shè)供給最大電力而輸出信息Sl未達(dá)既定 時(shí)，警告電路89判斷高壓水銀燈10的壽命到達(dá)或有異?；蛘呤请娫从?異常，而發(fā)出警告。在本曝光描圖裝置中，若二個(gè)高壓水銀燈10不是相同的光量，被曝 光體全體無(wú)法以均勻的曝光光線照射。因此，比較各照明光學(xué)系的第一 光量傳感器SS11的二個(gè)高壓水銀燈10的輸出，控制各光學(xué)系的電源供 給部，藉由使該等值相同，裝置全體確保相同的曝光光線。<DMD組件及投影光學(xué)系的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況>接著，第二光量傳感器SS12檢測(cè)出通過(guò)孔洞構(gòu)件20、第二照明光 學(xué)系37、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的光束的光量。此時(shí)，由于不在 被曝光體CB上進(jìn)行描圖，DMD組件41-1的配置成1024x1280的數(shù)組狀 的1310720個(gè)全部微面鏡M設(shè)定為相同的角度而使所有的光束朝向被曝 光體方向。同樣地，從DMD組件41-2至DMD組件41-8的全部微面鏡 M系設(shè)定為相同的角度。之所以，第二光量傳感器SS2可在與載置于被 曝光體臺(tái)座90上的被曝光體CB相同的面內(nèi)，分別檢測(cè)出八個(gè)系統(tǒng)的光 束的光量。判斷電路88以所有的八個(gè)系統(tǒng)檢測(cè)出第二光量傳感器S2的輸出信 息52-1至輸出信息S2-8，判斷個(gè)別的輸出信息S2-l至輸出信息52-8是 否在第10圖所示的光量范圍pr內(nèi)。在所有的八個(gè)系統(tǒng)中，第二光量傳感 器SS2的輸出信息應(yīng)為相同。假使僅第一系統(tǒng)的投影光學(xué)系60-1的一個(gè)光學(xué)組件異常，則僅第一系統(tǒng)的投影光學(xué)系60-1達(dá)不到既定的光量，而 在其它七個(gè)系統(tǒng)的被曝光體面達(dá)到既定的光量。即，由于配置于孔洞構(gòu)件20附近的第一光量傳感器SS11的光量為均一，判斷電路88根據(jù)來(lái)自 第二光量傳感器SS2的輸出信息S2-l S2-8而掌握從孔洞構(gòu)件20經(jīng)由投 影光學(xué)系60至被曝光面的作動(dòng)狀態(tài)。判斷電路88在例如第一系統(tǒng)的一 個(gè)輸出信息52-l不在既定范圍而比既定范圍的數(shù)值小時(shí)，判斷從該第一 系統(tǒng)的孔洞構(gòu)件20至投影光學(xué)系60的某處有異常。而且，通常構(gòu)成投影光學(xué)系60的反射鏡、透鏡或棱鏡等的光學(xué)組件 具有長(zhǎng)的壽命。另一方面，與該等光學(xué)組件相比較，DMD組件41具有 短的壽命，因此DMD組件41必須定期地更換。之所以，也可構(gòu)成為當(dāng)判 斷在孔洞構(gòu)件20至投影光學(xué)系60的某處有異常時(shí)，從警告電路89警告 DMD組件41有異?；蜻_(dá)到了壽命。本曝光描圖裝置100更具有第三光量傳感器SS3。如上所述，可兼 用作第二光量傳感器SS2?？赏ㄟ^(guò)將DMD組件41的微面鏡M朝向第三 光量傳感器SS3而檢測(cè)出光量。假設(shè),當(dāng)控制所有入射于一個(gè)DMD組件41-1的光反射面的光束通過(guò) 投影光學(xué)系60時(shí)，第二光量傳感器SS2輸出了輸出信息S2-1。假設(shè),當(dāng) 所有入射于DMD組件41-1的光反射面的光束不穿透投影光學(xué)系60-1而 直接入射于第三光量傳感器SS31時(shí)，第三光量傳感器SS31輸出了輸出 信息53-l。此時(shí)，若DMD組件41-1及投影光學(xué)系60-1沒(méi)有異常，第二 光量傳感器SS2的輸出信息S2-l與第三光量傳感器SS3的輸出信息S3-l 應(yīng)該大略相同。因?yàn)樵谕队肮鈱W(xué)系60-l衰減的光量是微小的。但是，若 光量變化大，警告電路89將判斷DMD組件41-1及投影光學(xué)系60-1有 異常，而輸出警告。已經(jīng)掌握從第二光量傳感器SS2的輸出信息52-1至輸出信息S2-8 大略相同的情況下，投影光學(xué)系60-l至投影光學(xué)系60-8被判斷為無(wú)異常。 因此，判斷電路88在輸出信息S3-l與既定輸出不同的情況下，判斷DMD 組件41的個(gè)別的微面鏡M不正常運(yùn)轉(zhuǎn)，警告電路89輸出警告。第11圖及第12圖為確認(rèn)高壓水銀燈10、 DMD組件41及投影光學(xué)系60的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的流程圖。在第ll圖的步驟S31中，藉由第一光量傳感器SS11與SS12，檢測(cè) 出高壓水銀燈10-1的光量的輸出信息與高壓水銀燈10-2的光量的 輸出信息51-2。在步驟S32中，判斷電路88判斷光量是否超過(guò)門坎值th，高壓水銀 燈10-1的光量與高壓水銀燈10-2的光量是否相同。在輸出信息S1-1與 輸出信息Sl-2不同的情況下，進(jìn)入步驟S33。在步驟S33中，調(diào)整第一電源控制部19-1及第二電源控制部19-2 的電力供給，使高壓水銀燈10-1的光量與高壓水銀燈10-2的光量相同。 若高壓水銀燈IO的光量大體上相同，則進(jìn)入步驟S34。在步驟S34中，使八個(gè)系統(tǒng)的DMD組件41的面鏡M的方向全部 朝向投影光學(xué)系60的方向。在步驟S35中，以在與被曝光體CB大體上相同面的第二光量傳感 器SS2檢測(cè)出被曝光面的光束SP1至光束SP8的光量52-n (n=l 8)。 在步驟S36中，判斷電路88判斷光量52-n是否在既定范圍pr內(nèi)。 若光量S2-n不在既定范圍pr內(nèi)，則進(jìn)入步驟S37或以點(diǎn)線表示的第12 圖的步驟S41的流程中。若光量S2-n在既定的范圍pr，則進(jìn)入步驟S38。 在步驟S37中，對(duì)于不在既定范圍pr的系統(tǒng)，警告電路89輸出異 常警告。由于在第一光量傳感器SSll沒(méi)有異常，從孔洞構(gòu)件20至投影 光學(xué)系60某處有異常。不在此處發(fā)出警告而是進(jìn)一步確定異常位置而輸 出警告時(shí)，如點(diǎn)線所示，跳過(guò)步驟S37而進(jìn)入第12圖的步驟S41。通常，投影光學(xué)系60的壽命長(zhǎng)，DMD組件41則必須定期地更換。 因此，也可構(gòu)成為,在判斷從孔洞構(gòu)件20至投影光學(xué)系60的某處為異常 時(shí)，警告電路89發(fā)出警告一律表示DMD組件41異?；蛞堰_(dá)到壽命。在步驟S38中，判斷電路88判斷光量S2-n是否相同。實(shí)際上，在 被曝光體CB面上，光束SP1至光束SP8的光量(n=l 8)必須均 一。若為光束SP1至光束SP8的光量，則可開(kāi)始曝光描圖。另一方面， 雖然光束SP1至光束SP8的光量S2-n (n=l 8)在既定范圍pr內(nèi)，但各 個(gè)光束SP不均勻的情況下，進(jìn)入步驟S39中。在步驟S39中，藉由第5圖所示的縮聚調(diào)整部35的縮聚調(diào)整，使所 有的光束SP均一。在第12圖的步驟S41中，根據(jù)控制部80的指令，DMD驅(qū)動(dòng)電路 83驅(qū)動(dòng)微面鏡M。然后，使八個(gè)系統(tǒng)的DMD組件41的平面鏡M的方 向均朝向投影光學(xué)系60的外側(cè)。g卩，由第三光量傳感器SS3檢測(cè)出不經(jīng) 由投影光學(xué)系60而從DMD組件41直接反射的光量。在步驟S42中，以第三光量傳感器SS3，檢測(cè)出從DMD組件41直 接反射的光量53-n (n=l 8)。在步驟S43中，判斷電路88比較第二光量傳感器SS2的光量52-n 與第三光量傳感器SS3的光量S3-n，而判斷光量52-n與光量S3-n是否不 同。在光量S2-n與光量S3-n不同的情況下，進(jìn)入步驟S44，在相同的情 況下，則進(jìn)入步驟S45。在步驟S44中，警告電路89輸出DMD組件41的異常警告或投影 光學(xué)系60的異常警告。由于經(jīng)由投影光學(xué)系60檢測(cè)出的光量52-n不在 既定范圍pr內(nèi)，光量52-n與從DMD組件41直接檢測(cè)的光量53-n不同， 判斷電路88判斷DMD組件41或投影光學(xué)系60為異常。由于投影光學(xué) 系60很少故障，判斷電路88判斷DMD組件41的壽命終止或異常。在步驟S45中，警告電路89發(fā)出從孔洞構(gòu)件20至DMD組件41的 前方的異常警告。由于經(jīng)由投影光學(xué)系60所檢測(cè)出的光量52-n不在既定 范圍pr內(nèi)，光量52-n與光量S3-n相同，判斷電路88判斷在DMD組件 41的上游有異常。而且，由于在第一光量傳感器SS11沒(méi)有問(wèn)題(步驟 S32)，在孔洞構(gòu)件20的下游判斷為異常。在上述實(shí)施例中，雖然說(shuō)明投影光學(xué)系60為固定而被曝光體臺(tái)座 90為移動(dòng)的樣態(tài)，但投影光學(xué)系60側(cè)為移動(dòng)而被曝光體臺(tái)座90為固定 亦可。又，在實(shí)施例中，雖然高壓水銀燈10為二個(gè)，但三個(gè)以上亦可。而 且，孔洞構(gòu)件20雖然將一道光束分離成四道光束，只要是分離成二個(gè)以 上的孔洞構(gòu)件即可，分離數(shù)并未限制。
權(quán)利要求
1.一種曝光描圖裝置，以來(lái)自光源照射的紫外線對(duì)載置于被曝光體臺(tái)座上的被曝光體做描圖，包括一孔洞構(gòu)件，設(shè)有用于將上述光源分離成第一光束及第二光束的第一開(kāi)口窗及第二開(kāi)口窗；第一及第二空間光調(diào)變裝置，調(diào)變上述第一光束及第二光束；投影光學(xué)系，將上述第一空間光調(diào)變裝置及第二空間光調(diào)變裝置所調(diào)變的第一光束及第二光束投影至上述被曝光體；第一光量傳感器，在上述孔洞構(gòu)件的附近，檢測(cè)出上述光源的光量；第二光量傳感器，檢測(cè)出穿透上述投影光學(xué)系的第一光束及第二光束的光量；以及判斷裝置，根據(jù)上述第一光量傳感器的第一輸出信息以及上述第二光量傳感器的第二輸出信息而判斷從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的狀況。
2. 如權(quán)利要求1所述的曝光描圖裝置，其中上述第二光量傳感器被 搭載于上述被曝光體臺(tái)座上，在穿透上述投影光學(xué)系的第一光束及第二 光束的正下方進(jìn)入及退避。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括 第一縮聚部，設(shè)于第一光束從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的光路中；第二縮聚部，設(shè)于第二光束從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的光路中；其中，上述判斷裝置系根據(jù)上述第二光量傳感器所檢測(cè)出的第一光 束的第一輸出信息與上述第二光束的第二輸出信息而調(diào)整上述第一縮聚 部及第二縮聚部。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括 記憶裝置，記憶著伴隨上述被曝光面隨著時(shí)間的變化的理想光量數(shù)據(jù)；警告部，當(dāng)上述第二光量傳感器的輸出信息超過(guò)上述記憶裝置所記 憶的光量信息的既定范圍以上時(shí)，輸出關(guān)于運(yùn)轉(zhuǎn)情況的警告。
5. 如權(quán)利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括警告部，當(dāng)上述第一光量傳感器與上述第二光量傳感器的輸出信息 超過(guò)既定關(guān)系以外時(shí)，輸出關(guān)于從上述孔洞構(gòu)件至上述被曝光體的運(yùn)轉(zhuǎn) 情況的警告。
6. 如權(quán)利要求5所述的曝光描圖裝置，其中上述判斷裝置系根據(jù)上述第二光量傳感器所檢測(cè)出的上述第一光束的光量與上述第二光束的光 量，將關(guān)于上述第一或第二空間光調(diào)變裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的警告輸出至上 述警告部。
7. 如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的曝光描圖裝置，其還包括 第三光量傳感器，檢測(cè)出上述第一及第二空間光調(diào)變裝置在不穿透上述投影光學(xué)系的方向上所調(diào)變的上述第一光束及第二光束的光量，其 中上述判斷裝置系根據(jù)上述第二光量傳感器的輸出信息與上述第三光量 傳感器的輸出信息而判斷從上述第一及第二空間光調(diào)變裝置至上述被曝 光體的狀況。
8. 如權(quán)利要求7所述的曝光描圖裝置，其中上述第三光量傳感器系兼用上述第二光量傳感器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種曝光描圖裝置、確認(rèn)光源的光量、空間光調(diào)變組件的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況而調(diào)整。曝光描圖裝置(100)包括一孔洞構(gòu)件(20)，設(shè)有用于將光源(10)分離成第一光束及第二光束的第一開(kāi)口窗(21)及第二開(kāi)口窗(21)；第一及第二空間光調(diào)變裝置(41)，調(diào)變第一光束及第二光束；投影光學(xué)系(60)，將第一空間光調(diào)變裝置及第二空間光調(diào)變裝置所調(diào)變的第一光束及第二光束投影至上述被曝光體；第一光量傳感器(SS11)，在孔洞構(gòu)件的附近，檢測(cè)出光源的光量；第二光量傳感器(SS12)，檢測(cè)出穿透投影光學(xué)系的第一光束及第二光束的光量；及判斷裝置(88)，根據(jù)第一光量傳感器的第一輸出信息及第二光量傳感器的第二輸出信息而判斷從孔洞構(gòu)件至被曝光體的狀況。
文檔編號(hào)H01L21/30GK101276153SQ20081008239
公開(kāi)日2008年10月1日 申請(qǐng)日期2008年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月28日
發(fā)明者德 李, 高津嘉郎 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Orc制作所