專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有對基板進行規(guī)定處理的處理室的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
一直以來，都在使用具有對基板進行規(guī)定處理的處理室的基板處理裝置。在該基板處理裝置中，為了減少占用面積，將多個處理室在垂直方向上層疊。例如，在專利文獻1中公開了一種多級式的基板處理裝置，其在垂直方向上層疊多個處理室的同時，為了便于維護，可將處理室拉出到框架體外部的維護時位置。在專利文獻1的基板處理裝置中，被拉出到維護時位置的處理室由從框架體沿大致水平方向延伸的構(gòu)件單臂支撐。
在這樣的基板處理裝置中，為了在對基板進行處理時密封處理室的同時，可以在進行維護時到達處理室的內(nèi)部，也使用著在處理室的上面設(shè)置了以鉸鏈為軸而可開閉的蓋。在設(shè)置了這種蓋的基板處理室中，將整個處理室拉出至框架體的外部后，將該蓋抬起到上方，從而處于使內(nèi)部開放的狀態(tài)，然后進行處理室內(nèi)部的維護。
專利文獻1JP特開2000-12448號公報。
另一方面，成為基板處理裝置的處理對象的基板有大型化的傾向，近年來，出現(xiàn)了處理室的重量超過1000kg的情況，也有蓋的重量超過100kg的情況。因此，在專利文獻1的基板處理裝置中，用于單臂支撐被拉出到維護時位置的處理室的構(gòu)件和用于蓋的開閉的構(gòu)件也迫切需要提高強度，該構(gòu)件的大型化和重量增加以及起因于此的整個基板處理裝置的大型化和重量增加成為問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為解決這些問題而提出的，其目的在于提供一種基板處理裝置，能夠用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐構(gòu)成處理室的構(gòu)件。
為了解決上述課題，本發(fā)明是具有對基板進行規(guī)定的處理的處理室的基板處理裝置，具有第一支撐結(jié)構(gòu)，其在作為在上述處理室對基板進行處理時的位置的處理時位置，支撐構(gòu)成上述處理室的規(guī)定構(gòu)件；第二支撐結(jié)構(gòu)，其在和上述處理位置不同的避讓位置，獨立于上述第一支撐結(jié)構(gòu)，而在上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部支撐上述規(guī)定構(gòu)件；移動機構(gòu)，其在上述處理時位置和上述避讓時位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件移動。
在上述本發(fā)明的基板處理裝置中，上述處理室可以分離成多個構(gòu)件，上述移動機構(gòu)使該多個構(gòu)件中的至少一個構(gòu)件作為上述規(guī)定構(gòu)件，而在上述處理時位置和上述避讓時位置之間移動。
在上述本發(fā)明的基板處理裝置中，上述基板處理裝置具有多個上述處理室，上述第一支撐結(jié)構(gòu)以及上述第二支撐結(jié)構(gòu)，在按每個上述規(guī)定構(gòu)件確定的上述處理時位置以及上述避讓時位置，分別支撐構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)使上述規(guī)定構(gòu)件在按每個上述規(guī)定構(gòu)件確定的上述處理時位置和上述避讓時位置之間移動。
在上述本發(fā)明的基板處理裝置中，上述移動機構(gòu)在上述處理時位置和上述避讓時位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件水平移動。
本發(fā)明是具有對基板進行規(guī)定的處理的處理室的基板處理裝置，具有第一支撐結(jié)構(gòu)，其支撐構(gòu)成上述處理室的可分離的多個構(gòu)件；移動機構(gòu)，其將該多個構(gòu)件中的至少一個規(guī)定構(gòu)件向上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部移動。
上述本發(fā)明的基板處理裝置中，還具有第二支撐結(jié)構(gòu)，該第二支撐結(jié)構(gòu)獨立于上述第一支撐結(jié)構(gòu)，而在上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部支撐上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)在由上述第一支撐結(jié)構(gòu)進行支撐的第一支撐位置和由上述第二支撐結(jié)構(gòu)進行支撐的第二支撐位置之間，移動上述規(guī)定構(gòu)件。
在上述本發(fā)明的基板處理裝置中，上述基板處理裝置具有多個上述處理室，上述第一支撐結(jié)構(gòu)支撐構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)將構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件向上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部移動。
在上述本發(fā)明的基板處理裝置中，上述移動機構(gòu)在上述第一支撐位置和上述第二支撐位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件水平移動。
根據(jù)本發(fā)明，由于在避讓時位置，由獨立于第一支撐結(jié)構(gòu)的第二支撐結(jié)構(gòu)來保持規(guī)定構(gòu)件，所以能用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐該規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，由于可以僅將需要使其避讓的構(gòu)件避讓到避讓時位置，所以處理室的維護變得容易。
根據(jù)本發(fā)明，即使在基板處理裝置具有多個處理室的情況下，也能夠用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐構(gòu)成多個處理室的每一個的規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，用較小的力就可以移動規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，因為能夠?qū)?gòu)成處理室的多個構(gòu)件中的規(guī)定構(gòu)件向第一支撐構(gòu)件的外部移動，所以能夠用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐該規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，由于在第二支撐位置，由獨立于第一支撐結(jié)構(gòu)的第二支撐結(jié)構(gòu)支撐規(guī)定構(gòu)件，所以能夠用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐該規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，即使在基板處理裝置具有多個處理室的情況下，也能夠用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐該規(guī)定構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明，用較小的力就可以移動規(guī)定構(gòu)件。


圖1是表示本發(fā)明實施方式涉及的基板處理裝置1的大致整體結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的主視圖。
圖3是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的主視圖。
圖4是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的主視圖。
圖5是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的主視圖。
圖6是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖7是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖8是從-Y方向看到的基板處理裝置1的大致主視圖。
圖9是從-Y方向看到的基板處理裝置1的大致主視圖。
圖10是從-Y方向看到的基板處理裝置1的大致主視圖。
圖11是從-Y方向看到的基板處理裝置1的大致主視圖。
圖12是表示變形例涉及的基板處理裝置3的大致整體結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖13是表示變形例涉及的基板處理裝置5的大致整體結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
具體實施例方式
本發(fā)明實施方式涉及的基板處理裝置1對基板進行加熱處理(或者冷卻處理)。但是，這僅是例示而已，基板處理裝置1在對基板進行這些熱處理以外的處理時，本發(fā)明也能適用。另外，作為基板處理裝置1的處理對象的基板沒有特別的限制，例如是半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP(等離子顯示面板)用玻璃基板、光盤用玻璃基板、磁盤用玻璃基板以及磁盤用陶瓷基板等。以下，針對該基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)，參照圖1～圖11進行說明。
1、整體結(jié)構(gòu)圖1是表示本發(fā)明實施方式涉及的基板處理裝置1的大致整體結(jié)構(gòu)的立體圖。在圖1中，定義了XYZ正交坐標系，該XYZ正交坐標系將設(shè)置有基板處理裝置1的地面FL設(shè)為XY平面，將地面FL上的搬送路徑901的延伸方向設(shè)為X軸方向。搬送路徑901為搬送作為基板處理裝置1的處理對象的基板W的搬送機械手的移動路徑，基板處理裝置1對由搬送機械手從上游側(cè)的工序搬送來的基板W進行規(guī)定的處理。
如圖1所示，基板處理裝置1是在處理裝置框架11的內(nèi)部沿垂直方向?qū)盈B容置了多個處理室13的多級式的裝置。此外，雖然在圖1中圖示為具有3個處理室13的基板處理裝置1，但是處理室13的數(shù)量也可以是小于等于2個或者大于等于4個。處理裝置框架11是結(jié)合成為骨架的管材和角鋼等棒狀構(gòu)件而形成的大致長方體形狀的框架體，起到在內(nèi)部支撐處理室13的支撐結(jié)構(gòu)的作用。在處理裝置框架11的骨架上，根據(jù)需要安裝有成為外部包裝或擱板的板狀構(gòu)件。各個處理室13是有蓋的大致長方體形狀，可分離成作為下側(cè)構(gòu)件的箱形形狀的主體131和作為上側(cè)構(gòu)件的上蓋132。
在基板處理裝置1，與處理裝置框架11相鄰而同時設(shè)置有維護用框架21。維護用框架21也和處理裝置框架11一樣，是結(jié)合成為骨架的管材或角鋼等棒狀構(gòu)件而形成的，具有大致長方體形狀。維護用框架21既可以僅在維護時設(shè)置，也可以一直設(shè)置。在一直設(shè)置維護用框架21的情況下，也允許將處理裝置框架11和維護用框架21結(jié)合起來而成為一個框架，作為一個整體來構(gòu)成。
構(gòu)成各個處理室13的各個主體131以及上蓋132，雖然在對基板W進行處理時，在按每個構(gòu)件確定的處理裝置框架11的內(nèi)部的處理時位置，由處理裝置框架11支撐著，但是，在進行維護(保養(yǎng))時，在按每個構(gòu)件確定的維護用框架21的內(nèi)部的維護時位置，由維護用框架21支撐著。各個主體131以及上蓋132可以在處理時位置和維護時位置之間獨立移動。
處理裝置框架11以及維護用框架21被設(shè)置在設(shè)有基板處理裝置1的地面FL的不同區(qū)域上，維護用框架21為獨立于處理裝置框架11而在處理裝置框架11的外部支撐主體131和上蓋132的支撐結(jié)構(gòu)。由此，處理裝置框架11以及維護用框架21不相互依存于對方就可以支撐主體131以及上蓋132，主體131以及上蓋132在維護時位置由維護用框架21支撐的情況下，不從維護用框架21向處理裝置框架11施加較大的作用(負載)。因此，在基板處理裝置1中，即使在使主體131和上蓋132移動到了處理裝置框架11的外部的維護時位置的情況下，也由獨立于處理裝置框架11的維護用框架21支撐著主體131和上蓋132，所以和以往的單臂支撐的情況不同，不對處理裝置框架11施加較大的負載。因此，在基板處理裝置1中，在維護時位置，可靠的支撐主體131和上蓋132的同時，不需要用于單臂支撐的構(gòu)件這樣的復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，用簡單的結(jié)構(gòu)就可以支撐主體131或上蓋132。還有，如后面所述，在基板處理裝置1中，在處理裝置框架11的內(nèi)部將主體131和上蓋132分離開，之后可以從處理裝置框架11僅拉出需要的構(gòu)件，所以不需要在處理室13設(shè)置用于打開上蓋132的復(fù)雜的構(gòu)件，憑這一點，就可以用簡單的結(jié)構(gòu)可靠的支撐主體131或上蓋132。
進而，在以往的技術(shù)中，為了防止起因于單臂支撐的彎曲或下垂，在主體131以及上蓋132要求相當?shù)膭傂?，但是在基板處理裝置1中，通過使用支撐各個主體131以及上蓋132整體的維護用框架21，可以使主體131以及上蓋132所要求的剛性降低。因此，在基板處理裝置1中，可以使主體131以及上蓋132輕量化，在向維護時位置拉出時需要的力也變小。這如果反過來說，則在基板處理裝置1中，避免主體131以及上蓋132的增重，即避免主體131以及上蓋132的整體增重，同時可以使作為對象的基板W的尺寸大型化。
另外，即使基板處理裝置1使主體131以及上蓋132中的多個從處理裝置框架11的內(nèi)部向維護用框架21的內(nèi)部移動也不會翻倒，所以不需要設(shè)置用于防止拉出多個構(gòu)件的機構(gòu)，可以簡化結(jié)構(gòu)。
下面，針對從處理時位置向維護時位置拉出主體131以及上蓋132的情況進行說明。
2、處理室及其周邊的結(jié)構(gòu)圖2～圖7是放大表示基板處理裝置1的處理室13及其周邊的結(jié)構(gòu)的圖。在此，圖2～5相當于從-Y方向看到的主視圖，圖2表示主體131以及上蓋132分別處于處理時位置PT以及PT’的狀態(tài)，圖3表示主體131處于維護時位置PM、上蓋132處于處理時位置PT’的上方位置(以下也稱為“開放時位置”)PO’的狀態(tài)，圖4表示主體131處于處理時位置PT、上蓋132處于維護時位置PM’的狀態(tài)，圖5表示主體131處于處理位置PT、上蓋132處于開放時位置PO’的狀態(tài)。另外，圖6及圖7相當于從+X方向看到的側(cè)視圖，圖6表示主體131以及上蓋132分別處于處理時位置PT、PT’的狀態(tài)，圖7表示主體131處于處理時位置PT、上蓋132處于開放時位置PO’的狀態(tài)。
如圖2～圖7所示，在主體131的底面131L，除了設(shè)置有對基板W進行加熱處理的加熱板(或者對基板進行冷卻處理的冷卻板)15之外，還設(shè)置有被利用于處理室13內(nèi)部的基板W的升降的未圖示的升降銷和該升降銷的驅(qū)動部等(以下將這些總稱為“附隨物”)。在本實施方式中，該附隨物與主體131一起移動。
另外，在基板處理裝置1設(shè)置有使主體131在處理時位置PT和維護時位置PM之間移動的主體移動機構(gòu)16；以及使上蓋132在處理時位置PT’和維護時位置PM’之間移動的上蓋移動機構(gòu)17。在基板處理裝置1中，通過主體移動機構(gòu)16以及上蓋移動機構(gòu)17，可以使主體131以及上蓋132中至少一個構(gòu)件(單個或兩個)在處理時位置PT(PT’)和維護時位置PM(PM’)之間移動，可以只將需要使其避讓的構(gòu)件避讓到維護時位置PM(PM’)。
下面，針對主體移動機構(gòu)16以及上蓋移動機構(gòu)17，依次進行說明。
主體搬送機構(gòu)如圖2～圖7所示，主體移動機構(gòu)16具有導(dǎo)軌162a，其敷設(shè)于向處理裝置框架11的內(nèi)面突出的架臺161a上；導(dǎo)軌162b，其敷設(shè)于向維護用框架21的內(nèi)面突出的架臺161b上；可動塊163，其固定在主體131的底面131L的一側(cè)的端部；車輪164，其安裝在主體131的底面131L的另一側(cè)的端部。導(dǎo)軌162a、162b以及可動塊163構(gòu)成線性引導(dǎo)件(直線運動引導(dǎo)機構(gòu))，通過在導(dǎo)軌162a、162b上使可動塊163滑動，就可以將主體131的移動方向限制在導(dǎo)軌162a、162b的縱向上。車輪164可以以Y軸方向為旋轉(zhuǎn)軸進行旋轉(zhuǎn)，通過在架臺161a、161b上旋轉(zhuǎn)并移動，從而可以減少主體131的移動所需的力。
在基板處理裝置1中，以主體131的處理時位置PT和維護時位置PM的高度一致的方式構(gòu)成處理裝置框架11以及維護用框架21。因此，可動塊163滑動的導(dǎo)軌162a、162b以縱向為±X方向而水平敷設(shè)的同時，作為車輪164的通行場所的架臺161a、161b的上面也成為水平面(XY平面)。另外，充分縮小處理裝置框架11和維護用框架21的邊界附近的架臺161a、161b以及導(dǎo)軌162a、162b的間隙以不妨礙主體131的滑動，架臺161a、161b以及導(dǎo)軌162a、162b提供了連續(xù)(途中不中斷)連接處理時位置PT和維護時位置PM的移動路徑。因此，在基板處理裝置1中，使用了主體移動機構(gòu)16的主體131的移動成為水平移動，用較小的力就可以使主體131在處理時位置PT和維護時位置PM之間滑動。
此外，在上述例子中，針對經(jīng)由線性引導(dǎo)件支撐主體131的一側(cè)端部、經(jīng)由車輪支撐主體131的另一側(cè)端部的主體移動機構(gòu)16進行了說明，但是，經(jīng)由車輪支撐兩側(cè)的端部或者經(jīng)由線性引導(dǎo)件支撐兩側(cè)的端部也是可以的。但是，在上述這種線性引導(dǎo)件和車輪的組合中，與只使用車輪的情況比較，具有容易恒定地維持主體在Y軸方向的位置，將基板W正確地導(dǎo)入處理室13的內(nèi)部這樣的優(yōu)點。另外，在只使用線性引導(dǎo)件時，需要精度較高地平行敷設(shè)的一對導(dǎo)軌，但是通過上述這種線性引導(dǎo)件和車輪的組合，具有在導(dǎo)軌162a、162b的敷設(shè)時無需過分嚴格要求尺寸精度這一優(yōu)點。
另外，在圖2～圖7中，表示了在主體131的底面131L設(shè)置有2個可動塊163以及2個車輪164的例子，但應(yīng)考慮主體131的尺寸和重量等而對可動塊163和車輪164的數(shù)量做適當?shù)淖兏?。并且，取代車?64，通過將旋轉(zhuǎn)自由的滾輪設(shè)置在主體131的底面131L上，可以減少移動主體131所需要的力。
上蓋搬送機構(gòu)
上蓋移動機構(gòu)17含有在開放時位置PO’和維護時位置PM’之間使上蓋132移動的上蓋滑動機構(gòu)。如圖2～圖7所示，上蓋滑動機構(gòu)具有一對導(dǎo)軌171a，其被支撐在處理裝置框架11的內(nèi)部；一對導(dǎo)軌171b，其被支撐在維護用框架21的內(nèi)部；車輪173，其設(shè)置在上蓋132的端部。
導(dǎo)軌171a是具有槽型(コ字型)的剖面形狀的棒狀構(gòu)件，以縱向為±X方向的方式被水平支撐著。另外，導(dǎo)軌171a，以開口部相對置的方式被平行支撐在相同的高度，該開口部的寬度(槽的寬度)比車輪173的直徑大。這些點，導(dǎo)軌171b也是同樣。導(dǎo)軌171a、171b中，處理裝置框架11內(nèi)部的一對導(dǎo)軌171a維持平行以及相同的高度并可升降，維護用框架21內(nèi)部的一對導(dǎo)軌171b相對于維護用框架21被固定著。并且，在基板處理裝置1中，在導(dǎo)軌171a和導(dǎo)軌171b的高度一致的狀態(tài)下，上蓋132在開放時位置PO’和維護時位置PM’之間進行滑動。上蓋132的滑動，是通過使以Y軸方向為旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)的車輪173在導(dǎo)軌171a、171b的槽的內(nèi)部，在和導(dǎo)軌171a、171b的下面接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)而實現(xiàn)的。并且，在車輪173的側(cè)面突出設(shè)置有具有球弧狀的外形形狀的導(dǎo)向滾珠174，導(dǎo)向滾珠174與導(dǎo)軌171a、171b的側(cè)面接觸，將上蓋132的±Y方向的位置限制在規(guī)定的位置。通過導(dǎo)向滾珠174，可以防止在沿±X方向移動時上蓋132在±Y方向的行進路線偏差。
此外，在圖2～圖7表示了在上蓋132的端部設(shè)置有4個車輪173的例子，但應(yīng)考慮上蓋132的尺寸和重量等而對車輪173的數(shù)量做適當變更。另外，不是車輪173，而使用線性引導(dǎo)件或滑軌等進行上蓋132的滑動也可以。
導(dǎo)軌171的升降，是通過主體部175a被固定在處理裝置框架11上的氣缸175來實現(xiàn)的。更具體地說，在基板處理裝置1中，主體部175a被固定在處理裝置框架11上的氣缸175的活塞175b與導(dǎo)軌171a連接，根據(jù)所提供的氣動信號，活塞175b沿垂直方向做往復(fù)運動，從而進行導(dǎo)軌171a的升降。氣缸175，在上蓋132處在處理裝置框架11的內(nèi)部時，具有使上蓋132和導(dǎo)軌171a一起升降的上蓋升降機構(gòu)的功能。當然，可以使用油壓缸或電動缸體來取代氣缸175，也可以使用聯(lián)桿機構(gòu)等輔助機構(gòu)，通過操作者的手工作業(yè)升降上蓋132。
在基板處理裝置1中，在對基板W進行熱處理時，為了使處理室13內(nèi)部的溫度分布一定，最好隔斷處理室13的內(nèi)部和外部空氣。因此，在基板處理裝置1中，在對基板W進行熱處理時，使上蓋132與導(dǎo)軌171a一起從開放時位置PO’下降到處理時位置PT’，處于設(shè)置在主體131的側(cè)面上端的密封墊131a和上蓋132接觸的狀態(tài)，再接著，使導(dǎo)軌171a的上面和車輪173接觸，對上蓋132施加向下方的負載，從而實現(xiàn)上蓋132按壓到密封墊131a上的狀態(tài)、即實現(xiàn)維持處理室13內(nèi)部的密封狀態(tài)。通過實現(xiàn)這種密封狀態(tài)，在基板處理裝置1中，不需要用于使主體131和上蓋132貼緊的鎖定機構(gòu)等，使主體131和上蓋132分離的作業(yè)或者貼緊的作業(yè)變得容易，同時即使有起因于熱處理的主體131或上蓋132的膨脹等，也可以容易實現(xiàn)處理室13的內(nèi)部的密封狀態(tài)。另外，在基板處理裝置1中，因為在基板處理時上蓋132被按壓到主體131上，所以也有效防止由加熱引起的上蓋132的浮起。當然，將用于確保密封的密封墊131a不設(shè)置在主體131側(cè)而設(shè)置在上蓋132也可以獲得同樣的效果。
此外，在基板處理裝置1中，在使上蓋132從處理時位置PT’向維護時位置PM’移動時，將導(dǎo)軌171a拉到和導(dǎo)軌171b相同的高度，分離主體131和上蓋132，一旦使上蓋132上升到開放時位置PO’，之后就使上蓋132向維護時位置PM’滑動。此時，處理裝置框架11和維護用框架21的邊界附近的導(dǎo)軌171a、172b的間隙以不妨礙上蓋132滑動的方式充分變小，導(dǎo)軌171a、172b提供了連續(xù)連接開放時位置PO’和維護時位置PM’的移動路徑。因此，在基板處理裝置1中，使用了上蓋移動機構(gòu)17的上蓋132的移動的主要部分為水平移動，用較小的力就可以使上蓋132在處理時位置PT’和維護時位置PM’之間滑動。
3、維護下面，針對進行處理室13的主體131或者上蓋132的維護時的主體131或者上蓋132的避讓，列舉具體的事例進行說明。此外，在下面參照的圖8～圖11是從-Y方向看到的基板處理裝置1的主視圖，但是為用于說明主體131或者上蓋132的位置的大致主視圖，省略上面所述的主體移動機構(gòu)16以及上蓋移動機構(gòu)17。
主體的維護在進行主體的維護時，如圖8所示，操作者使用主體移動機構(gòu)16，將作為維護對象的主體131M從處理時位置PT(虛線)拉出到維護時位置PM(實線)之后，開始維護。更詳細地說，操作者使對應(yīng)于主體131M的上蓋132從處理時位置PT’(虛線)上升到開放時位置PO’(實線)，分離主體131M和上蓋132M，之后，使主體131M從處理時位置PT向維護時位置PM滑動，在維護用框架21的內(nèi)部開始維護。主體131M的滑動可以通過手工作業(yè)進行，也可以使用以馬達等為動力源的驅(qū)動機構(gòu)進行。在維護用框架21中構(gòu)筑作業(yè)用的腳手架之后再進行維護也可以。
被拉出到維護時位置PM的主體131M，上面完全開放，處在能夠容易執(zhí)行清掃等維護的狀態(tài)。在此，只要以在將主體131M的附隨物抬起到上方時不存在與抬起的附隨物相干涉的部位的方式構(gòu)成維護用框架21，也可以容易地執(zhí)行該附隨物的更換等的大規(guī)模的維護等。并且，如果在維護用框架21設(shè)置主體131的升降機構(gòu)，因為可以在將主體131M下降到適當?shù)母叨群筮M行維護，所以能夠提高維護的操作性。
另外，在基板處理裝置1中，在完全開放主體131M的上面的情況下，也不需要將上蓋132抬起到上方的作業(yè)，所以不需要在上方確保用于抬起上蓋132的空間，也不需要用于抬起上蓋132的機構(gòu)。因此，基板處理裝置1能夠有效地利用被設(shè)置的地方的空間。進而，在基板處理裝置1中，即使在開放了主體131M的上面的狀態(tài)下，因為在上面的上方不存在上蓋132這樣的重物，所以能夠容易地確保維護時操作者的安全。
維護結(jié)束了的主體131M返回到處理時位置PT，之后，使上蓋132下降，處于又和上蓋132貼緊的狀態(tài)。
此外，在上述的說明中，表示了將整個主體131M拉出到維護用框架21的例子，但是在進行只是主體131+X方向的端部附近的維護時，不拉出整體而以僅開放進行維護的端部附近的上面的方式，將主體131的一部分拉出到維護用框架21也可以。另外，在上述的說明中，表示了將維護的對象的主體131M拉出到維護用框架21的例子，但是，如圖9所示，即使將維護的對象的主體131M留在處理裝置框架11的內(nèi)部，而將剩余的主體131以及上蓋132拉出到維護用框架21，在處理裝置框架11的內(nèi)部也可以同樣的容易執(zhí)行維護。
上蓋的維護在進行上蓋的維護時，如圖10所示，操作者使用上蓋移動機構(gòu)17，將作為維護對象的上蓋132M從處理時位置PT’拉出到維護時位置PM’之后，開始作業(yè)。更詳細地說，操作者使上蓋132M從處理時位置PT’上升到開放時位置PO’，分離主體131和上蓋132，之后，使上蓋132M從開放時位置PO’向維護時位置PM’滑動，在維護用框架21的內(nèi)部開始維護。上蓋132M的滑動也可以通過手工作業(yè)進行，也可以使用以馬達等為動力源的驅(qū)動機構(gòu)進行。同樣，在維護用框架21構(gòu)筑作業(yè)用的腳手架之后，再進行作業(yè)也可以。
被拉出到維護時位置PM’的上蓋132M處在容易污染的下面完全被開放，可以容易執(zhí)行清掃等的維護的狀態(tài)。另外，如果預(yù)先在維護用框架21上設(shè)置上蓋132的升降機構(gòu)，因為可以將上蓋132M下降到適當?shù)母叨戎筮M行作業(yè)，所以可以提高維護的操作性。維護結(jié)束了的上蓋132M返回到了處理時位置PT’之后，使其下降，處于又和主體131貼緊的狀態(tài)。
此外，在上述的說明中，表示了將整個上蓋132M拉出到維護用框架21的例子，但是在進行只是上蓋132的+X方向的端部附近的維護時，不拉出整體而以僅開放進行維護的端部附近的上面的方式，將上蓋132M的一部分拉出到維護用框架21也可以。另外，在上述的說明中，表示了將維護的對象的上蓋132M拉出到維護用框架21的例子，但是，如圖11所示，即使將維護的對象的上蓋132M留在處理裝置框架11的內(nèi)部，而將剩余的主體131以及上蓋132拉出到維護用框架21，在處理裝置框架11的內(nèi)部也可以同樣的容易執(zhí)行維護。
4、變形例關(guān)于構(gòu)件的避讓在上述的實施方式中，表示了主體131以及上蓋132雙方可以避讓到維護時位置PM(PM’)的例子，但是本發(fā)明也包含僅主體131或者上蓋132的任意一個可以避讓到維護時位置PM(PM′)這樣的形式?；蛘卟捎萌缦碌姆绞揭部梢裕?，保持主體131以及上蓋132結(jié)合在一起的狀態(tài)進行向維護時位置的避讓這樣的形式、處理室13分離成3個或其以上的構(gòu)件，其全部或者一部分獨立而可以向維護時位置避讓這樣的形式。
另外，采用如下的方式也可以，即，不是整個主體131而僅是主體131的底面或附隨物避讓到維護時位置，主體131的剩余部分留在處理裝置框架11的內(nèi)部這樣的形式、或主體131的底面或附隨物留在處理裝置框架11的內(nèi)部，而主體的剩余部分避讓到維護時位置這樣的形式。
此外，在上述實施方式中，表示了主體131以及上蓋132雙方在維護時位置被維護用框架21支撐的例子，但是，主體131或者上蓋132的任意一個像以往技術(shù)那樣在處理裝置框架11被單臂支撐也可以。
關(guān)于升降機構(gòu)在上述實施方式中，通過使上蓋132上升來分離主體131和上蓋132，但是，也可以利用升降機構(gòu)可升降地構(gòu)成主體131或者密封墊131a，通過使主體131或者密封墊131a下降，來分離主體131和上蓋132。
進一步，升降機構(gòu)并不是必須的，可以僅將上蓋132從維護用框架21向處理裝置框架11水平移動，使主體131和上蓋132貼緊。
處理室的支撐在取代上述的維護用框架21，通過單臂支撐可將主體或者上蓋拉出到維護時位置的處理裝置中，從下方由結(jié)構(gòu)物支撐被拉出的主體或者上蓋也可以。例如，如圖12的側(cè)視圖所示，在主體331經(jīng)由單臂滑動梁381被支撐在處理裝置框架31上的基板處理裝置3中，從處理裝置框架31拉出主體331的一部分，將其底面載置于在地面上可水平移動的結(jié)構(gòu)物401上之后，將整個主體331從處理裝置框架31拉出也可以。另外，如圖13的側(cè)視圖所示，在主體531經(jīng)由單臂滑動梁581被支撐在處理裝置框架51上的基板處理裝置5中，從處理裝置框架51拉出從上蓋532分離的主體531的一部分，將其底面載置于在地面上可水平移動的結(jié)構(gòu)物601上之后，將整個主體531從處理裝置框架51拉出也可以。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，具有對基板進行規(guī)定的處理的處理室，其特征在于，具有第一支撐結(jié)構(gòu)；其在作為在上述處理室對基板進行處理時的位置的處理時位置，支撐構(gòu)成上述處理室的規(guī)定構(gòu)件；第二支撐結(jié)構(gòu)，其在和上述處理位置不同的避讓位置，獨立于上述第一支撐結(jié)構(gòu)，而在上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部支撐上述規(guī)定構(gòu)件；移動機構(gòu)，其在上述處理時位置和上述避讓時位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件移動。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述處理室可以分離成多個構(gòu)件，上述移動機構(gòu)使該多個構(gòu)件中的至少一個構(gòu)件作為上述規(guī)定構(gòu)件，而在上述處理時位置和上述避讓時位置之間移動。
3.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板處理裝置具有多個上述處理室，上述第一支撐結(jié)構(gòu)以及上述第二支撐結(jié)構(gòu)，在按每個上述規(guī)定構(gòu)件確定的上述處理時位置以及上述避讓時位置，分別支撐構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)使上述規(guī)定構(gòu)件在按每個上述規(guī)定構(gòu)件確定的上述處理時位置和上述避讓時位置之間移動。
4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述移動機構(gòu)在上述處理時位置和上述避讓時位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件水平移動。
5.一種基板處理裝置，具有對基板進行規(guī)定的處理的處理室，其特征在于，具有第一支撐結(jié)構(gòu)，其支撐構(gòu)成上述處理室的可分離的多個構(gòu)件；移動機構(gòu)，其將該多個構(gòu)件中的至少一個規(guī)定構(gòu)件向上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部移動。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有第二支撐結(jié)構(gòu)，該第二支撐結(jié)構(gòu)獨立于上述第一支撐結(jié)構(gòu)，而在上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部支撐上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)在由上述第一支撐結(jié)構(gòu)進行支撐的第一支撐位置和由上述第二支撐結(jié)構(gòu)進行支撐的第二支撐位置之間，移動上述規(guī)定構(gòu)件。
7.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板處理裝置具有多個上述處理室，上述第一支撐結(jié)構(gòu)支撐構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件，上述移動機構(gòu)將構(gòu)成多個上述處理室的每一個的上述規(guī)定構(gòu)件向上述第一支撐結(jié)構(gòu)的外部移動。
8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述移動機構(gòu)在上述第一支撐位置和上述第二支撐位置之間使上述規(guī)定構(gòu)件水平移動。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，在維護時位置，能用簡單的結(jié)構(gòu)可靠支撐構(gòu)成處理室的構(gòu)件。構(gòu)成基板處理裝置(1)的各個處理室(13)的各個主體(131)及上蓋(132)，在對基板(W)進行處理時，在按每個構(gòu)件確定的處理裝置框架(11)的內(nèi)部的處理時位置，由處理裝置框架(11)支撐著，但是在進行維護時，在按每個構(gòu)件確定的維護用框架(21)的內(nèi)部的維護時位置，由維護用框架(21)支撐著。構(gòu)成各處理室(13)的各個主體(131)及上蓋(132)可在處理時位置和維護時位置之間獨立移動。維護用框架(21)獨立于處理裝置框架(11)，成為在處理裝置框架(11)的外部支撐主體(131)及上蓋(132)的支撐結(jié)構(gòu)。
文檔編號H01L21/67GK1815684SQ20051012506
公開日2006年8月9日 申請日期2005年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月31日
發(fā)明者中根慎悟, 半田正幸 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社