專利名稱：絕緣線生產線的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及絕緣線生產線。特別地，本發(fā)明涉及用于在冷卻水槽內冷卻移動的高溫涂敷的線的冷卻裝置和提供在冷卻槽和卷繞機之間的冷卻機構。
背景技術：
絕緣線生產線設計為，在使芯線移動的同時，在芯線上施加樹脂涂層，冷卻涂敷樹脂并且移動的高溫涂敷的線，并且卷取冷卻的涂敷的線。這樣的絕緣線生產線擁有冷卻裝置，用于在樹脂施加以后，冷卻移動的高溫涂敷的線，以便通過冷卻(凝結固定，冷卻固化)凝固已經通過擠出機施加的樹脂涂層。
傳統地，用于涂敷的線的冷卻裝置通常構造為使得，通過允許通過擠出機施加了樹脂以后的高溫涂敷的線在水平延伸的冷卻水槽(容器槽)內的冷卻水內浸泡并且移動來冷卻。注意，通過擠出機施加了樹脂以后的樹脂涂層的溫度通常為150到300攝氏度，并且，當樹脂涂層例如為PVC(聚氯乙烯)時，為大約180攝氏度。
然而，因為由冷卻水槽(容器槽)組成的用于涂敷的線的傳統的冷卻裝置，只是允許高溫涂敷的線在冷卻水槽的冷卻水內移動，其具有以下缺點對涂敷的線的冷卻速度慢，需要保證涂敷的線的移動距離的長的冷卻槽，和需要大的安裝空間。
此外，絕緣線生產線的另一個組成單元為涂敷的線脫離機。涂敷的線脫離機提供在冷卻水槽和卷繞機之間的絕緣線生產線內，脫離發(fā)自冷卻水槽的涂敷的線以允許其移動，并且還在冷卻水內冷卻涂敷的線。圖17為示出了傳統的涂敷的線脫離機的示例的示意性的結構圖。如圖17所示，傳統的涂敷的線脫離機58包括前和后絞盤60、61和多個簇射噴嘴62，絞盤60、61在機殼59內通過允許涂敷的線56前后往復數次來纏繞涂敷的線56，簇射噴嘴62在機殼59內將冷卻水噴射到在前和后絞盤60、61之間移動的涂敷的線56，涂敷的線56的移動生產線設置為通過機殼59內部。注意，在本說明書中，在涂敷的線制造生產線中，涂敷的線的相同移動方向的下游(圖17中的右側)定義為前，并且該方向的上游(圖17中的左側)定義為后。
另一方面，日本專利公開No.Hei6-338231公布物披露了線冷卻設備，該設備以線纏繞在收集器上的狀態(tài)冷卻已經在冷卻水槽內冷卻的涂敷的線的樹脂涂敷層。圖18為示出了根據現有技術的線冷卻設備的組成的示意性的結構圖。
如圖18所示，該線冷卻設備設置在冷卻水槽和卷繞機之間(更特定地，在冷卻水槽下游的脫離機和卷繞機之間)，并且包括收集器72、冷卻盤73和張力附加機構(沒有示出)，收集器72包括前和后旋轉滑輪72A、72B，用于吸收涂敷的線71的脫離速度和卷繞機的卷取速度之間的速度差異，冷卻盤73設置在收集器72下面，同時儲存冷卻水并且通過允許該線在冷卻水中移動來冷卻圍繞收集器72積累的涂敷的線71，張力附加機構(沒有示出)在箭頭74的方向移動前旋轉滑輪72A來吸收涂敷的線71的速度波動。
如所述，冷卻盤73設置在收集器72下面，前和后旋轉滑輪72A、72B的一部分沉浸在上部打開的盒形冷卻盤73的冷卻水內，在前和后旋轉滑輪72A、72B之間的下部涂敷的線移動路徑上移動的涂敷的線71深深地沉浸，并且因此圍繞收集器72積累的涂敷的線71被冷卻。
然而，因為上述涂敷的線脫離機58包括簇射噴嘴62，噴嘴62設計為以簇射的狀態(tài)向在前和后紋盤60、61之間移動的涂敷的線56噴射冷卻水，與允許線在冷卻水中移動相比，其冷卻能力較低，因此在線的速度增加時，存在涂敷的線56沒有充分地冷卻到預定的溫度的情況，當線在下游被卷繞機卷取時，它的一部分樹脂涂層破碎以導致形狀變形。
因而，為了在涂敷的線脫離機內冷卻涂敷的線，考慮將線冷卻裝置的上述冷卻盤73替代簇射噴嘴62應用于涂敷的線脫離機。
然而，在涂敷的線脫離機包括冷卻盤的情況下，前和后旋轉滑輪72A、72B(在下文中稱作絞盤)中的每個的一部分沉浸在上部打開的盒形冷卻盤內的冷卻水內，并且在前和后絞盤之間的下部涂敷的線移動路徑上移動的涂敷的線在某個深度在冷卻水內移動。為此，當拉線以逆著由于與冷卻水接觸而施加到涂敷的線的阻力移動時，應力(張應力)施加到涂敷的線，即，與冷卻水接觸導致的施加到涂敷的線的應力(張應力)變大。此外，因為前和后絞盤中的每個的一部分沉浸在冷卻水內，冷卻水阻礙絞盤旋轉，并且拉涂敷的線逆著水移動，使得施加到涂敷的線的應力進一步增加。
因此，在冷卻盤替代簇射噴嘴提供在涂敷的線脫離機中的情況下，雖然與裝備簇射噴嘴相比，這樣的機器具有更高的冷卻能力，它使得更大的應力施加到涂敷的線，這是由于與冷卻水的接觸導致的，并且由于應力導致的涂敷的線伸展，在樹脂涂層和芯線之間的附著力將減小。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的第一目的為提供一種絕緣線生產線，該絕緣線生產線具有冷卻裝置，其中，在涂敷樹脂以后，在冷卻水中冷卻移動的高溫涂敷的線期間，對涂敷的線的冷卻速度可以增加，從而與傳統的距離相比，縮短了需要用于冷卻的涂敷的線移動距離，以使得該裝置更加緊湊并且使得安裝區(qū)域的空間最小。
此外，本發(fā)明的第二目的為提供一種絕緣線生產線，該絕緣線生產線具有涂敷的線脫離機，其在通過與冷卻水接觸導致的施加到涂敷的線的應力最小的狀態(tài)下對涂敷的線具有高冷卻性能，并且能夠在不由于應力導致涂敷的線伸展，進而導致在樹脂涂層和芯線之間的附著力減小的情況下，將涂敷的線冷卻到預定的溫度。
為了解決第一目的，在本發(fā)明中采用接下來的技術手段。特定地，本發(fā)明的絕緣線生產線包括用于將樹脂涂敷到芯線的擠出機；用于冷卻涂敷的線的冷卻裝置，該涂敷的線從擠出機擠出并且被允許在冷卻水內移動；涂敷的線脫離機，其從冷卻裝置拖涂敷的線，以允許其移動并且通過冷卻水冷卻涂敷的線；及用于從涂敷的線脫離機卷取涂敷的線的卷繞機，其中冷卻裝置包括存儲冷卻水并且允許涂敷的線通過其中的容器槽；及沿涂敷的線的移動方向以一定間隙提供在容器槽內，并且向在冷卻水內的涂敷的線噴射水的多個水噴嘴。
在這里，水噴嘴優(yōu)選地以面向彼此的方式設置，以便將線狀材料移動路徑夾在中間。
本發(fā)明的線狀材料冷卻裝置包括水噴嘴，多個該水噴嘴從上游到下游以一定間隙沿移動路徑提供在容器槽內，并且向在冷卻水內的線狀材料噴射水，涂敷樹脂以后的高溫涂敷的線在該容器槽內的冷卻水內被引導移動。因此，通過利用從水噴嘴噴射水產生的水流來攪動容器槽內的冷卻水，不斷致使新的冷卻水流接觸在冷卻水中移動的涂敷的線的表面，從而，與沒有水噴嘴的傳統的裝置相比，在涂敷的線和冷卻水之間執(zhí)行熱交換的效率更高，由此增加了對涂敷的線的冷卻速度。使用此裝置，與傳統的裝置相比，需要用于冷卻到預定的溫度的涂敷的線移動距離減小，并且該裝置可以更加緊湊以使得安裝區(qū)域的空間最小。
為了解決第二目的，在本發(fā)明中采用接下來的技術手段。特定地，本發(fā)明的絕緣線生產線的涂敷的線脫離機包括前和后絞盤，用于在為線涂敷樹脂并且引導其進入容器槽以后，在涂敷的線從容器槽出來并且去往卷繞機的途中，通過允許涂敷的線前后往復數次來纏繞該涂敷的線；及水膜流形成凹槽體，用于形成用于冷卻的水膜流，其設置在前和后絞盤之間并且沿前和后絞盤之間的下部涂敷的線移動路徑延伸，其中涂敷的線脫離機構造為使得允許涂敷的線在前和后絞盤之間的水膜流內移動。
根據上述構造，通過允許涂敷的線在低水位的冷卻水的水膜流內移動，可以在通過與冷卻水接觸導致的施加到涂敷的線上的應力最小的狀態(tài)下保持對涂敷的線的高冷卻性能。從而，能夠在不由于應力導致涂敷的線伸展進而導致在樹脂涂層和芯線之間的附著力減小的情況下，將涂敷的線冷卻到預定的溫度。
優(yōu)選地，在涂敷的線脫離機中包括供水管，用于允許冷卻水從水膜流形成凹槽體的涂敷的線輸入側流入水膜流形成凹槽體。
通過此構造，冷卻水通過移動的涂敷的線傳送，使得冷卻水容易到達在下部涂敷的線移動路徑上的整個涂敷的線，并且該機器能夠對涂敷的線發(fā)揮高冷卻性能。此外，施加到涂敷的線的應力最小，因為水膜流流動的方向與涂敷的線移動方向相同。
此外，涂敷的線脫離機還可以包括凹槽體升起和降下裝置，用于當開始制造涂敷的線時，臨時將水膜流形成凹槽體從平常的位置降下以冷卻涂敷的線。通過此構造，即使由于在前和后絞盤之間同時存在僅具有芯線的區(qū)域和涂敷樹脂的線的區(qū)域，導致線直徑存在差異，進而導致移動速度存在差異，并且在開始制造涂敷的線時，在前和后絞盤之間發(fā)生線松弛，通過在冷卻涂敷的線期間通過該凹槽體升起和降下裝置來將水膜流形成凹槽體降到平常的位置以下，可以避免在前和后絞盤之間移動的線與水膜流形成凹槽體的表面之間的干涉。結果，可以防止線從前和后絞盤脫落。
此外，在涂敷的線脫離機中，水膜流形成凹槽體包括沿涂敷的線移動路徑延伸的底板，和沿移動路徑分別提供在底板兩側的左板和右板(與移動方向正交的方向的壁板)，并且可以構造為使得涂敷的線的輸入端和輸出端是完全打開的。通過此構造，可以容易地實現必要的水膜流。


圖1為絕緣線生產線的構造的示意圖。
圖2為示意性地示出了根據本發(fā)明的一個實施例的冷卻裝置的構造的平面圖。
圖3為圖2中的預冷卻部分的A-A截面視圖。
圖4為圖2中的主冷卻部分的B-B截面視圖。
圖5為根據本發(fā)明的視圖，為用于解釋纏繞的涂敷的線的截面形狀的視圖。
圖6為示意性地示出了作為比較示例的冷卻裝置的構造的平面圖。
圖7為圖6中的主冷卻部分的C-C截面視圖。
圖8為根據比較示例的視圖，為用于解釋纏繞的涂敷的線的截面形狀。
圖9為根據本發(fā)明的一個實施例的涂敷的線脫離機的示意圖，其中9A為平面圖，9B為側視截面圖。
圖10為圖9所示涂敷的線脫離機的主要的部分的透視圖。
圖11為示出了圖9中的水膜流形成凹槽體的透視圖。
圖12為用于解釋圖9中的水膜流形成凹槽體的截面視圖。
圖13為用于解釋根據本發(fā)明的凹槽體升起和降下裝置的視圖。
圖14為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的另一個示例的透視圖。
圖15為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的另一個示例的截面視圖。
圖16為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的再一個示例的截面視圖。
圖17為示出了傳統的涂敷的線脫離機的示例的示意性的構造圖。
圖18為示出了根據現有技術的線冷卻裝置的構造的示意性的構造圖。
具體實施例方式
圖1示意性地示出了絕緣線生產線的通常的構造。在此制造設備中，送料單元2具有芯線(導體)1的供線盤、提供在上游側的拉線機3和連續(xù)退火機4，和向提供在連續(xù)退火機4的下游側上的芯線上施加樹脂涂層(絕緣體)的擠出機5。然后，在擠出機5的再下游，提供了冷卻水槽7和涂敷的線脫離機8，其中冷卻水槽7用于冷卻以硬化涂敷樹脂并且被允許移動的高溫涂敷的線6，涂敷的線脫離機8拖來自冷卻水槽7的涂敷的線6以允許其移動。來自涂敷的線脫離機8的涂敷的線6在卷繞機63中通過跳動輥(沒有示出)纏繞在線軸64上。
在這里，涂敷的線脫離機8構造為，涂敷的線脫離機8拖來自冷卻水槽7的涂敷的線6以允許涂敷的線6移動并且冷卻涂敷的線6，以便補償當涂敷的線6速度增加以改進生產率時冷卻水槽7的冷卻性能，將涂敷的線6冷卻到預定的溫度。
此外，在接下來的描述中，用于冷卻以硬化通過擠出機5涂敷樹脂并且被允許移動的高溫涂敷的線6的裝置被簡單地稱作“冷卻裝置”。該冷卻裝置包括冷卻水槽7及其相關部件。
接下來將參考附圖描述本發(fā)明的冷卻裝置的實施例。圖2為示例性地示出了根據本發(fā)明的一個實施例的冷卻裝置的構造的平面圖，圖3為圖2中的預冷卻部分的A-A截面視圖，及圖4為圖2中的主冷卻部分的B-B截面視圖。
如圖2到圖4所示，本發(fā)明的冷卻裝置提供在絕緣線生產線中，并且冷卻通過擠出機41涂敷樹脂的移動的高溫涂敷的線42。該裝置安裝在擠出機41和脫離機(沒有示出)之間的位置上，并且包括來自擠出機41的高溫涂敷的線42通過的預冷卻部分10和已經通過預冷卻部分10的涂敷的線42通過的主冷卻部分20。主冷卻部分20的容器槽21與預冷卻部分10的承接槽11連接地提供。
預冷卻部分10包括承接槽11、多個噴霧嘴12和冷卻水供水管13。承接槽11為盒形，具有上部可以打開的蓋。多個噴霧嘴12沿涂敷的線42的移動方向從上游到下游以預定的間隙提供在承接槽11內，并且以面向布置的狀態(tài)設置，以便將涂敷的線42的移動路徑夾在中間。冷卻水供水管13向每個噴霧嘴12供應冷卻水，以便允許噴霧嘴12以霧的狀態(tài)噴射圓錐形的冷卻水。
此外，主冷卻部分20包括容器槽21、多個水噴嘴22和加壓的供水管23。容器槽21為盒形，具有上部可以打開的蓋，存儲冷卻水，并且允許涂敷的線42在冷卻水中移動。多個用于在冷卻水內噴射水的水噴嘴22沿涂敷的線42從上游到下游的移動方向以預定的間隙提供在容器槽內，并且以面向布置的狀態(tài)設置，以便將涂敷的線42的移動路徑夾在中間。加壓的供水管23向水噴嘴22供應加壓的水。
承接槽11的承接槽端板11a具有U形切開開口(沒有示出)，以允許涂敷的線42通過該開口。此外，承接槽11和容器槽21之間的共有間壁30和容器槽端板21a也具有U形切開開口(沒有示出)，以允許涂敷的線42通過該開口。雖然在容器槽21內的冷卻水從共有間壁30的U形切開開口和容器槽端板21a的U形切開開口溢出，冷卻水通過加壓的供水管23通過水噴嘴22供應到容器槽21，以維持固定的水位。然后，用于從容器槽21送回并且循環(huán)冷卻水的排水容器和排水管(二者都沒有示出)提供在容器槽21的容器槽端板21a下面。另外，排水容器和排水管(二者都沒有示出)提供在承接槽11下面，以送回從噴霧嘴12以霧態(tài)噴射的冷卻水和來自共有間壁30的U形切開開口的冷卻水。
在以此方式構造的冷卻裝置中，來自擠出機41的移動的高溫涂敷的線42首先進入承接槽11，冷卻水以霧的狀態(tài)圓錐形地散布并且在線在承載槽11中通過時均勻地噴射在線上，并且線被冷卻到預定的溫度以促進其硬化。
涂敷的線42從承接槽11出來并且隨即進入容器槽21。當線通過容器槽21時，通過利用從噴嘴22噴射水導致的朝向涂敷的線42產生的水流確實地攪動在容器槽21內的冷卻水，并且從而不斷致使新的冷卻水流接觸在冷卻水中移動的涂敷的線42的表面。從而，與沒有水噴嘴22的情況相比，在涂敷的線42和冷卻水之間執(zhí)行熱交換的效率更高，并且可以增加對涂敷的線42的冷卻速度。即使當在涂敷的線移動方向的容器槽21的長度小于傳統的長度時，可以在涂敷的線42在容器槽21內通過時將涂敷的線42冷卻到預定的溫度，并且線可以硬化以防止在卷取該線時截面形狀變形。
接下來的描述針對與以下裝置的比較，該裝置在容器槽21內沒有提供水噴嘴22。圖6為示意性地示出了作為比較示例的冷卻裝置的構造的平面圖，并且圖7為圖6中的主冷卻部分的C-C截面視圖。在這里，在比較示例中，與圖2中相同的參考數字應用于與圖2所示裝置相同的部分。特定地，如圖6和圖7所示，比較示例與實施例的差異為在主冷卻部分20’的容器槽21內沒有提供水噴嘴。水通過供水管(沒有示出)充滿容器槽21。
在實施例和比較示例中，在涂敷的線移動方向的承接槽11的長度和在涂敷的線移動方向的容器槽21的長度都分別設定為1.5米和3米，并且涂敷的線(直徑1.6毫米)為擠出機已經將樹脂涂敷到銅線(直徑1.0毫米)形成的線，允許該涂敷的線以600米/分鐘的速度通過槽內以進行冷卻。在實施例的裝置中，在涂敷的線移動方向上在噴霧嘴12之間的間隙設定為70毫米(與應用于比較示例的相同)，并且在涂敷的線移動方向上在水噴嘴22之間的間隙設定為70毫米。結果，因為在比較示例中在脫離機內通過的線沒有冷卻到預定的溫度并且被卷取，獲得的涂敷的線的樹脂涂層的一部分破碎，導致如圖8所示的變形。
另一方面，根據該實施例的裝置，因為線冷卻到用于充分地冷卻和硬化樹脂涂層的預定的溫度，獲得沒有變形的具有圓形截面的涂敷的線，如圖5所示。
接下來基于如下附圖描述本發(fā)明的涂敷的線脫離機的實施例。圖9為根據本發(fā)明的一個實施例的涂敷的線脫離機的示意圖，其中9A為平面圖，9B為側視截面圖。圖10為圖9所示涂敷的線脫離機的主要的部分的透視圖。
如圖9和圖10所示，本實施例的涂敷的線脫離機包括外殼83，外殼83設置為使得在涂敷的線81從冷卻水槽出來并且去往卷繞機的途中的移動路徑通過外殼83內部。在外殼83內提供了一對前和后絞盤84、85，用于通過允許涂敷的線81在水膜流內移動來冷卻涂敷的線81的水膜流形成凹槽體86，用于在水膜流形成凹槽體86內流動冷卻水的供水管90，和用于升起和降下水膜流形成凹槽體86的凹槽體升起和降下裝置91。圖9中，左側為涂敷的線移動方向的上游并且右側為涂敷的線移動方向的下游。
外殼83在涂敷的線81的移動方向(圖9中的左和右方向)較長，形成為上部打開的盒形。蓋構件可以以可打開和可關閉的方式接附到外殼83。前和后絞盤84、85被自由地可旋轉地支撐并且以懸臂狀態(tài)圍繞與涂敷的線81的移動方向正交的水平軸。兩個絞盤84、85中的前絞盤84(圖9中右面的那個)作為被外殼83的外部馬達(沒有示出)驅動旋轉的驅動軸，并且后絞盤85(圖9中左面的那個)作為沒有被驅動旋轉的從動軸。因此，從冷卻水槽進入外殼83的涂敷的線81首先從上面并且向后返回地圍繞前絞盤84纏繞，并且然后，從下面并且再次向前圍繞后絞盤85圍繞，以在前和后絞盤84、85之間往復。在往復數次以后，線被送出到外殼83的涂敷的線移動方向的下游。
水膜流形成凹槽體86設置在前和后絞盤84、85之間，并且沿前和后絞盤84、85之間的下部涂敷的線移動路徑延伸。與圖18所示的現有技術不同，前和后絞盤84、85構造為不沉浸在水膜流形成凹槽體86內的水膜流內。在此實施例中，水膜流形成凹槽體86具有截面為矩形的凹槽86a。更特定地，水膜流形成凹槽體86包括沿下部涂敷的線移動路徑延伸的底板和沿底板的下部涂敷的線移動路徑分別提供在兩側的左板和右板(參考圖11)。凹槽體86具有用于防止水膜流在寬度方向(在與涂敷的線81的移動方向正交的方向)流出的壁板，并且涂敷的線的輸入端和輸出端是完全打開的。
供水管90直接地提供在水膜流形成凹槽體86的涂敷的線輸入側的位置上方，供水管90具有以一定間隙提供并且在水膜流形成凹槽體86的寬度方向延伸的多個噴嘴90a。供水管90的噴嘴90a以簇射的狀態(tài)噴射冷卻水，以從水膜流形成凹槽體86的涂敷的線輸入位置到涂敷的線輸出位置形成低水位的水膜流。用于送回和循環(huán)從水膜流形成凹槽體86滴下的冷卻水的排水容器、排水管和類似裝置(沒有示出)提供在外殼83的底部區(qū)域以外。
如上所述，因為本實施例的涂敷的線脫離機包括的水膜流形成凹槽體86與傳統的在以下方面不同，即，允許在前和后絞盤84、85之間的下部涂敷的線移動路徑上移動的涂敷的線81在水膜流82內移動，其中水膜流82為圖12所示低水位的冷卻水，與使用簇射冷卻水的傳統的相比，使得通過與冷卻水接觸導致并且施加到涂敷的線81的應力最小并且在涂敷的線81和冷卻水之間的接觸面積和接觸時間增加。因此，可以維持對涂敷的線81的高冷卻性能。因此，能夠在不由于應力導致涂敷的線伸展進而導致在樹脂涂層和芯線之間的附著力減小的情況下，將涂敷的線81冷卻到預定的溫度。
這里描述的水膜流是在允許水在水膜流形成凹槽體上流動時形成的水流，并且其意味著具有從水流膜形成凹槽體的底板的預定的水位的水流。
為了通過水膜流冷卻涂敷的線，至少與涂敷的線的外直徑相同的水膜流水位完全地沉浸涂敷的線。另一方面，因為水膜流形成凹槽體構造為允許水從其端部流出并且新的水不斷地供應到凹槽體，實際上很難進一步改進冷卻效果，即使當水膜流的深度設定為涂敷的線的外直徑的兩倍甚至更多。因此，等于或達到作為冷卻對象的涂敷的線的外直徑的兩倍的水深度的水流是足夠的。
此外，本實施例的涂敷的線脫離機具有供水管90，用于允許冷卻水在水膜流形成凹槽體86的涂敷的線輸入側上流入水膜流形成凹槽體86。從而，冷卻水通過移動的涂敷的線81運送，冷卻水容易地到達在下部涂敷的線移動路徑上的整個涂敷的線81，并且該機器能夠對涂敷的線81發(fā)揮高冷卻性能。此外，施加到涂敷的線81的應力最小，因為水膜流82流動的方向與涂敷的線移動方向相同。
接下來將描述凹槽體升起和降下裝置91，其升起和降下水膜流形成凹槽體86。圖13為用于解釋根據本發(fā)明的凹槽體升起和降下裝置的視圖。
在涂敷的線脫離機中，在制造該涂敷的線時，首先將芯線(銅線)圍繞前和后絞盤84、85纏繞。然后，當通過擠出機開始涂敷樹脂時，在前和后絞盤84、85之間同時存在僅具有芯線的區(qū)域和已經涂敷樹脂的涂敷的線的區(qū)域。在這一點上，由于在芯線和涂敷的線之間線直徑不同，導致移動速度存在差異，并且在開始制造涂敷的線時，在前和后絞盤84、85之間可能發(fā)生線松弛，如圖13中通過實線示出的。
在根據此實施例的涂敷的線脫離機中，在開始制造涂敷的線時，通過凹槽體升起和降下裝置91將水膜流形成凹槽體86降到平常的冷卻位置(在圖13中通過虛線示出)以下。通過此構造，即使當開始制造涂敷的線時，在前和后絞盤84、85之間發(fā)生線松弛，避免了在前和后絞盤84、85之間移動的線與水膜流形成凹槽體86的表面干涉，并且可以防止線松弛通過該干涉?zhèn)鬟f到前和后絞盤84、85。結果，可以防止線從前和后絞盤84、85脫落。當通過預定的一段時間以消除上述同時存在的狀態(tài)以后，該凹槽體升起和降下裝置91設計為將水膜流形成凹槽體86返回到平常的冷卻位置。凹槽體升起和降下裝置91可以由氣缸或類似物構造。
圖14為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的另一個示例的透視圖，圖15為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的另一個示例的截面視圖，并且圖16為示出了根據本發(fā)明的水膜流形成凹槽體的再一個實施例的截面視圖。
圖14所示水膜流形成凹槽體87構造為使得涂敷的線輸入端和輸出端的壁板向下彎曲，與圖11所示的水膜流形成凹槽體86不同，并且這樣的構造設計為改進強度。圖15所示水膜流形成凹槽體88在此示例的截面處具有三個半圓形凹槽88a，它們沿如圖所示下部涂敷的線移動凹槽的每個涂敷的線移動路徑延伸。此外，圖16所示水膜流形成凹槽體89在此示例中具有三個截面為矩形的凹槽89a，它們沿如圖所示下部涂敷的線移動凹槽的每個涂敷的線移動路徑延伸。從而，由于水膜流形成凹槽體形成水膜流，如圖15和16所示，具有沿下部涂敷的線移動凹槽的每個涂敷的線移動路徑延伸的凹槽88a、89a的構造的水膜流形成凹槽體可以形成。
此外，在圖11所示水膜流形成凹槽體86中，涂敷的線移動方向上的輸入端和輸出端是完全打開的。然而，本發(fā)明的水膜流形成凹槽體不限于這樣的構造，而是可以使用能夠實現需要的水位的水膜流并且涂敷的線可以在水膜流中移動的任何構造。
權利要求
1.一種絕緣線生產線，其包括擠出機，其用于向芯線涂敷樹脂；冷卻裝置，其用于在冷卻水內冷卻從所述擠出機中擠出并且被允許移動的涂敷的線；涂敷的線脫離機，其拖來自所述冷卻裝置的涂敷的線，以允許其移動，并且通過冷卻水冷卻該涂敷的線；及卷繞機，其用于從所述涂敷的線脫離機卷取涂敷的線，其中所述冷卻裝置包括容器槽，其存儲所述冷卻水并且允許涂敷的線通過其中；及水噴嘴，多個該水噴嘴沿涂敷的線移動方向以一定間隙提供在所述容器槽內，并且向在所述冷卻水內的所述涂敷的線噴射水。
2.根據權利要求1所述的絕緣線生產線，其中，所述水噴嘴以彼此面向的方式設置，以便將涂敷的線移動路徑夾在中間。
3.根據權利要求1所述的絕緣線生產線，其中，所述冷卻裝置包括預冷卻部分，用于通過噴霧來冷卻涂敷的線，其通常提供在所述容器槽的預先階段。
4.根據權利要求1所述的絕緣線生產線，其中，所述涂敷的線脫離機包括前和后絞盤，其用于在為線涂敷樹脂并且導致其進入所述容器槽以后，在涂敷的線從所述容器槽出來并且去往所述卷繞機的途中，通過允許該線前后往復數次來纏繞該涂敷的線；及水膜流形成凹槽體，其用于形成用于冷卻的水膜流，其設置在所述前和后絞盤之間并且沿所述前和后絞盤之間的下部涂敷的線移動路徑延伸，其中，所述涂敷的線脫離機構造為使得允許所述涂敷的線在所述前和后絞盤之間的所述水膜流內移動。
5.根據權利要求4所述的絕緣線生產線，其中，所述涂敷的線脫離機包括供水管，用于允許冷卻水從所述水膜流形成凹槽體的涂敷的線輸入側流入所述水膜流形成凹槽體。
6.根據權利要求4所述的絕緣線生產線，其中，所述涂敷的線脫離機還包括凹槽體升起和降下裝置，用于臨時將所述水膜流形成凹槽體從平常的位置降下以冷卻涂敷的線。
7.根據權利要求4所述的絕緣線生產線，其中，所述水膜流形成凹槽體包括沿所述涂敷的線的移動路徑延伸的底板，和沿移動路徑分別提供在底板兩側的左板和右板，所述涂敷的線輸入端和輸出端是完全打開的。
8.一種絕緣線生產線，其包括擠出機，其用于向芯線涂敷樹脂；冷卻裝置，其用于在容器槽內的冷卻水內冷卻從所述擠出機中擠出并且被允許移動的涂敷的線；涂敷的線脫離機，其拖來自所述冷卻裝置的涂敷的線，以允許其移動，并且通過冷卻水冷卻該涂敷的線；及卷繞機，其用于從所述涂敷的線脫離機卷取涂敷的線，其中所述涂敷的線脫離機包括前和后絞盤，其用于在為線涂敷樹脂并且導致其進入所述容器槽以后，在涂敷的線從所述容器槽出來并且去往所述卷繞機的途中，通過允許該線前后往復數次來纏繞該涂敷的線；及水膜流形成凹槽體，其用于形成用于冷卻的水膜流，其設置在所述前和后絞盤之間并且沿所述前和后絞盤之間的下部涂敷的線移動路徑延伸，其中，所述涂敷的線脫離機構造為使得允許所述涂敷的線在所述前和后絞盤之間的所述水膜流內移動。
9.根據權利要求8所述的絕緣線生產線，其中，所述涂敷的線脫離機包括供水管，用于允許冷卻水從所述水膜流形成凹槽體的涂敷的線輸入側流入所述水膜流形成凹槽體。
10.根據權利要求8所述的絕緣線生產線，其中，所述涂敷的線脫離機還包括凹槽體升起和降下裝置，用于臨時將所述水膜流形成凹槽體從平常的位置降下以冷卻涂敷的線。
11.根據權利要求8所述的絕緣線生產線，其中，所述水膜流形成凹槽體包括沿所述涂敷的線移動路徑延伸的底板，和沿移動路徑分別提供在底板兩側的左板和右板，并且具有在與所述移動方向正交的方向上的壁板，并且所述涂敷的線的輸入端和輸出端是完全打開的。
全文摘要
在絕緣線生產線中，用于在冷卻水內冷卻通過擠出機涂敷樹脂的移動的高溫涂敷的線狀材料的冷卻裝置包括儲存冷卻水并且允許線狀材料通過其中的容器槽，和沿線狀材料的移動方向以一定間隙提供在容器槽內并且向在冷卻水內的線狀材料噴射水的多個水噴嘴。此外，在絕緣線生產線中，涂敷的線脫離機包括前和后絞盤，用于在涂敷的線從容器槽出來并且去往卷繞機的途中，通過允許涂敷的線前后往復數次來纏繞該涂敷的線，和水膜流形成凹槽體，用于形成用于冷卻的水膜流，其設置在前和后絞盤之間并且沿前和后絞盤之間的下部涂敷的線移動路徑延伸，其中，脫離機構造為使得允許涂敷的線在所述前和后絞盤之間的水膜流內移動。
文檔編號H01B13/00GK1763868SQ200510108698
公開日2006年4月26日 申請日期2005年10月20日 優(yōu)先權日2004年10月20日
發(fā)明者若園武彥, 福谷和久, 多代直行 申請人:株式會社神戶制鋼所