專利名稱：耐弧件結(jié)構(gòu)及真空開關(guān)觸頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及耐弧件結(jié)構(gòu)及真空開關(guān)觸頭，尤其是用于高壓真空開關(guān)的耐弧件結(jié)構(gòu)及真空開關(guān)觸頭。
背景技術(shù)：
開關(guān)設(shè)備是電路中必然應(yīng)用的一種設(shè)備，它起著關(guān)合、開斷電路的作用。開關(guān)觸頭的開斷過程中，會(huì)產(chǎn)生電弧，從陰極斑點(diǎn)燃燒產(chǎn)生弧柱為錐面的等離子弧。尤其在高壓電路中，開關(guān)產(chǎn)生的電弧尤其強(qiáng)烈。
電弧會(huì)使開關(guān)的溫度升高而損耗開關(guān)，而且電弧的存在會(huì)減小觸頭的電流分?jǐn)嗄芰?。因此開關(guān)觸頭的開關(guān)過程中必須進(jìn)行滅弧?，F(xiàn)在的開關(guān)設(shè)備中大多使用諸如油、六氟化硫、空氣、半導(dǎo)體或真空等進(jìn)行滅弧，不同的滅弧介質(zhì)其相應(yīng)的特點(diǎn)不同，由于真空開關(guān)具有較小的間隙、較高的耐電壓能力、較低的電弧電壓、較高的分?jǐn)嚯娏髂芰?、較低的電磨損以及較高的電壽命，因此被廣泛地應(yīng)用于電力電路中。
開關(guān)在斷開時(shí)，開關(guān)兩端觸頭的接觸區(qū)域逐漸減小，直到觸頭間只有一個(gè)接觸點(diǎn)，同時(shí)接觸電阻逐漸增加，因此接觸點(diǎn)所在區(qū)域的溫度逐漸升高，直到溫度高于接觸點(diǎn)的熔點(diǎn)，接觸點(diǎn)熔化并蒸發(fā)電離，金屬蒸氣使得真空中的放電得以維持，產(chǎn)生真空電弧，在觸頭斷開的瞬間，觸頭表面形成燃燒狀的陰極斑點(diǎn)，最后完成觸頭電氣斷開。
但是，電弧是不可能被完全消滅地，因此現(xiàn)有的高壓開關(guān)均在開關(guān)觸頭上具有耐弧件?，F(xiàn)有技術(shù)的真空開關(guān)觸頭的耐弧件使用銅或鉻等金屬，或者使用銅鉻合金，由于銅的電阻小耐壓能力強(qiáng)但是抗熔焊能力差，而鉻的抗熔焊能力強(qiáng)但是電阻大耐壓能力差，因此雖然希望能同時(shí)達(dá)到抗熔焊能力強(qiáng)，分?jǐn)嗄芰?qiáng)和截流值小，但是這卻成為一種矛盾，無法同時(shí)實(shí)現(xiàn)。只能通過選擇不同的銅和鉻的比例來實(shí)現(xiàn)分?jǐn)嗄芰?、耐壓能力和截流值的要求的其中之一，但必然?huì)犧牲其他能力，無法同時(shí)實(shí)現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)真空開關(guān)觸頭的耐弧件的高的抗熔焊能力，強(qiáng)的分?jǐn)嗄芰托〉慕亓髦怠?br> 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，包括一個(gè)具有強(qiáng)分?jǐn)嗄芰Φ哪突〖?，所述耐弧件上表面嵌有至少一個(gè)用來切斷真空開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧小截流值部件。
所述小截流值部件具有至少一個(gè)貫穿的孔，所述耐弧部件的對應(yīng)位置也具有貫穿的孔。其特征在于所述耐弧部件的材質(zhì)為CuCr，其中的Cr含量為10％至30％。所述CuCr為粉狀，Cu為-80目至-400目，Cr為-80目至-400目。所述小截流值部件的材質(zhì)為AgWC，其中Ag的含量為10％至90％。所述耐弧部件表面嵌有至少一個(gè)防止觸頭開斷時(shí)熔化粘合在一起的抗熔焊部件。所述抗熔焊部件的材質(zhì)為CuCr，其中的Cr的含量為30％至90％。所述CuCr為粉狀，Cu為-80目至-400目，Cr為-80目至-400目。所述抗熔焊部件的材質(zhì)可以為CuW，其中W的含量為0.5％至2％。所述CuW為粉狀，Cu為-80目至-400目。所述抗熔焊部件材質(zhì)還可以為CuWWC，其中WWC的含量為0.5％至2％。所述小截流值部件為一個(gè)以上。所述小截流值部件設(shè)置在耐弧部件與抗熔焊部件之間。根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件位于所述耐弧部件中部，所述小截流值部件環(huán)設(shè)于所述抗熔焊部件周圍。根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件為環(huán)狀，且為至少一個(gè)設(shè)于所述耐弧部件上，所述小截流值部件位于所述耐弧部件中部和環(huán)設(shè)于所述抗熔焊部件周圍。所述小截流值部件嵌入耐弧部件內(nèi)。所述小截流值部件嵌入的深度為耐弧部件厚度的0％至100％。所述抗熔焊部件嵌入耐弧部件，整體表面為平面。所述抗熔焊部件嵌入的深度為耐弧部件厚度的0％至100％。所述抗熔焊部件凸起設(shè)置在耐弧部件上。
本發(fā)明還提供了一種真空開關(guān)觸頭，包括殼體、導(dǎo)電部件、導(dǎo)電底層、磁產(chǎn)生部件以及上述耐弧件結(jié)構(gòu)，其中，所述殼體內(nèi)部布設(shè)導(dǎo)電底層，該導(dǎo)電底層上布設(shè)磁產(chǎn)生部件，該磁產(chǎn)生部件上布設(shè)耐弧件結(jié)構(gòu)；該磁產(chǎn)生部件自一側(cè)邊向內(nèi)部、自上到下開設(shè)貫通凹缺，凹缺內(nèi)插設(shè)導(dǎo)電部件，該導(dǎo)電部件一端抵觸導(dǎo)電底層，另一端抵觸耐弧件結(jié)構(gòu)，所述磁產(chǎn)生部件比導(dǎo)電底層、耐弧件結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電部件的導(dǎo)電率低，所述殼體的材質(zhì)為熔點(diǎn)高于其內(nèi)設(shè)置的各個(gè)部件熔點(diǎn)的剛性材質(zhì)。
所述真空開關(guān)的觸頭位于耐弧件結(jié)構(gòu)的小截流值部件處具有貫穿真空開關(guān)觸頭的孔。
由于本發(fā)明在真空開關(guān)觸頭的強(qiáng)分?jǐn)嗄芰Φ哪突〖显O(shè)置了，當(dāng)開關(guān)開斷時(shí)防止觸頭熔化粘合在一起的抗熔焊部件，和用來切斷真空開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧的小截流值部件，因此本發(fā)明抗熔焊能力強(qiáng)、分?jǐn)嗄芰?qiáng)并且截流值低。
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。


圖1為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例1的俯視圖。
圖2為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例1的剖視圖。
圖3為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例2的俯視圖。
圖4為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例2的剖視圖。
圖5為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)小截流值部件與耐弧部件相平時(shí)的剖視圖。
圖6為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)小截流值部件貫穿耐弧部件時(shí)的剖視圖。
圖7為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的剖面示意圖。
圖8為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的截面示意圖。
具體實(shí)施例方式
真空開關(guān)觸頭的材料銅鉻合金中，銅和鉻的含量不同所產(chǎn)生的效果也不同。由于銅的電阻小，所以分?jǐn)嗄芰玫强谷酆改芰Σ?；而鉻的電阻大，耐電壓能力強(qiáng)，所以抗熔焊能力好，但是分?jǐn)嗄芰Σ睢６覂烧叩慕亓髦刀疾皇呛苄?。如CuCr20的截流值為8A，CuCr25的截流值為5A。而銀炭化鎢(AgWC)的截流值很小，一般為0.5-1A。如果銅鉻合金中鉻的含量大，如30％至90％，則抗熔焊能力強(qiáng)而分?jǐn)嗄芰Σ?；如過鉻的含量小，如10％至30％則分?jǐn)嗄芰?qiáng)而抗熔焊能力差。因此本發(fā)明的思想就是利用這些材料的各自優(yōu)點(diǎn)而整合為一個(gè)真空開關(guān)的觸頭。
實(shí)施例1如圖1和圖2所示，為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例1的俯視圖和剖視圖。耐弧部件1為圓形，厚度為20mm，材質(zhì)為銅鉻合金，鉻含量為25％(CuCr25)；Cu為-400目，Cr為-400目，耐弧部件1上表面嵌有兩個(gè)圓形小截流值部件3，材質(zhì)為AgWC合金，Ag的含量為70％，厚度為5mm，耐弧部件1的表面高于小截流值部件3的表面。
當(dāng)真空開關(guān)的觸頭斷開時(shí)，觸頭的接觸區(qū)域逐漸減小，直到觸頭間只有一個(gè)接觸點(diǎn)，同時(shí)接觸電阻逐漸增加，因?yàn)槟突?為CuCr25，其電阻小，因此觸頭的分?jǐn)嗄芰?qiáng)。直到溫度高于接觸點(diǎn)的熔點(diǎn)，接觸點(diǎn)熔化并蒸發(fā)電離，金屬蒸氣使得真空中的放電得以維持，產(chǎn)生真空電弧，在觸頭斷開的瞬間，觸頭表面形成燃燒狀的陰極斑點(diǎn)，又因?yàn)樾〗亓髦挡考?的截流電流很小，所以可以馬上切斷電弧。因此既實(shí)現(xiàn)了強(qiáng)的分?jǐn)嗄芰?，又具有小的截流值?br> 實(shí)施例2如圖3和圖4所示，為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)實(shí)施例2的俯視圖和剖視圖。耐弧部件1為圓形，厚度為15mm，材質(zhì)為銅鉻合金，鉻含量為20％(CuCr20)；Cu為-325目，Cr為-325目，耐弧部件1上表面嵌有環(huán)形抗熔焊部件2，厚度為17mm，材質(zhì)為銅鉻合金，鉻含量為50％(CuCr50)，Cu為-325目，Cr為-325目，抗熔焊部件2的表面高于耐弧部件1的表面。耐弧部件1上表面抗熔焊部件2的周圍嵌有三個(gè)圓形小截流值部件3，材質(zhì)為AgWC合金，Ag的含量為2％，厚度為7mm，與耐弧部件1的表面相平。
當(dāng)真空開關(guān)的觸頭斷開時(shí)，觸頭的接觸區(qū)域逐漸減小，直到觸頭間只有一個(gè)接觸點(diǎn)，同時(shí)接觸電阻逐漸增加，因?yàn)槟突?為CuCr20，其電阻小，因此觸頭的分?jǐn)嗄芰?qiáng)。直到溫度高于接觸點(diǎn)的熔點(diǎn)，接觸點(diǎn)熔化并蒸發(fā)電離，金屬蒸氣使得真空中的放電得以維持，產(chǎn)生真空電弧，在觸頭斷開的瞬間，觸頭表面形成燃燒狀的陰極斑點(diǎn)，又因?yàn)榭谷酆覆考?為CuCr50，其抗熔焊能力強(qiáng)，溫度升高時(shí)熔化很少，而不會(huì)使兩觸頭粘合在一起，再有因?yàn)樾〗亓髦挡考?的截流電流很小，所以可以馬上切斷電弧。因此既實(shí)現(xiàn)了強(qiáng)的分?jǐn)嗄芰?，又具備了好的抗熔焊能力，而且截流值很小?br> 本實(shí)施例中，耐弧部件1可以是任何具有強(qiáng)分?jǐn)嗄芰Φ慕饘倩蚝辖穑玢t含量從10％至30％的銅鉻合金，其分?jǐn)嗄芰Χ己軓?qiáng)。而抗熔焊部件2可以為任何具有強(qiáng)抗熔焊能力的金屬或合金，都是用來防止觸頭開合時(shí)熔化粘合在一起，如W含量為0.5至2％的鎢化銅(CuW)，或鎢炭化鎢(WWC)含量為0.5至2％的銅鎢炭化鎢(CuWWC)，或者為鉻含量從30％至90％的銅鉻合金，其抗熔焊能力都不差。上述銅鉻合金中的Cu可以為-80目至-400目，而Cr可以從-80目至-400目。耐弧部件1一般為10至20mm，抗熔焊部件2為5至20mm，嵌入耐弧部件1的深度為耐弧部件1的厚度的0％至100％，即既可以突出于耐弧部件1或者為很薄的一層也可以在嵌入后與耐弧部件1的上表面相平或貫穿耐弧部件1?？谷酆覆考?可以為一個(gè)以上并且形狀沒有限制，如圓形、矩形或者環(huán)形等等。小截流值部件可以為任何截流值很小的金屬或合金，如Ag含量為10至90％的AgWc，一般為5至10mm厚，可以嵌入耐弧部件1內(nèi)部或與耐弧部件1相平(如圖5所示)，嵌入的深度為耐弧部件1厚度的0％至100％，即可以為很薄的一層也可以貫穿(如圖6所示)。并且本觸頭可以在小截流值部件3處具有一個(gè)貫穿的孔，用來引導(dǎo)出開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧，更加有利于減小電弧和切斷電弧。
如圖7和圖8所示，為本發(fā)明真空開關(guān)觸頭的剖面示意圖和截面示意圖。該真空開關(guān)觸頭包括一個(gè)殼體4，該殼體為熔點(diǎn)為1100℃的不銹鋼，該殼體4底部設(shè)有導(dǎo)電底層5，該導(dǎo)電底層5為銅，50mm厚；該導(dǎo)電底層5上布設(shè)有磁產(chǎn)生部件8，該磁產(chǎn)生部件8包覆有絕緣層80，該磁產(chǎn)生部件8為銅材質(zhì)；該磁產(chǎn)生部件8上布設(shè)耐弧件結(jié)構(gòu)9，該磁產(chǎn)生部件8自一側(cè)邊向內(nèi)部、自上到下開設(shè)貫通凹缺6，凹缺6的寬度可以為殼體寬度的10％至90％之間，此處為40％，凹缺6內(nèi)插設(shè)導(dǎo)電部件7，該導(dǎo)電部件8一端抵觸導(dǎo)電底層5，另一端抵觸耐弧件結(jié)構(gòu)9。因此，磁產(chǎn)生部件8與導(dǎo)電底層5、耐弧件結(jié)構(gòu)9和導(dǎo)電部件7均絕緣，而且磁產(chǎn)生部件8的導(dǎo)電率比導(dǎo)電底層5、耐弧件結(jié)構(gòu)9和導(dǎo)電部件7均低。導(dǎo)電底層還可以為銀，厚度為1mm-100mm之間。耐弧件結(jié)構(gòu)9與實(shí)施例2相同，此處不再贅述。本觸頭在位于耐弧件結(jié)構(gòu)的小截流值部件處可以具有貫穿真空開關(guān)觸頭的孔，用來引導(dǎo)出開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧，更加有利于減小電弧和切斷電弧。
本發(fā)明的真空開關(guān)觸頭整體為集成化直接組裝結(jié)構(gòu)，不需要進(jìn)行釬焊連接，改變現(xiàn)有技術(shù)中各部件分離設(shè)置的結(jié)構(gòu)。觸頭的磁場強(qiáng)度大，導(dǎo)熱性能好，具有高分?jǐn)嚯娏髂芰洼^長的電壽命。觸頭的縱向磁場在觸頭表面的分布均勻，更適合于大容量開關(guān)，具有更大的分?jǐn)嗄芰?。在制造時(shí)，磁產(chǎn)生材料如粉狀的軟磁物質(zhì)和層狀片置入殼體中，經(jīng)過高溫爐熔融燒結(jié)即可。從而大大簡化了工藝，降低了生產(chǎn)成本，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
最后所應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求
1.一種真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，包括一個(gè)具有強(qiáng)分?jǐn)嗄芰Φ哪突〖?，其特征在于所述耐弧件上表面嵌有至少一個(gè)用來切斷真空開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧小截流值部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件具有至少一個(gè)貫穿的孔，所述耐弧部件的對應(yīng)位置也具有貫穿的孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述耐弧部件的材質(zhì)為CuCr，其中的Cr含量為10％至30％。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述CuCr為粉狀，Cu為-80目至-400目，Cr為-80目至-400目。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件的材質(zhì)為AgWC，其中Ag的含量為10％至90％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述耐弧部件表面嵌有至少一個(gè)防止觸頭開斷時(shí)熔化粘合在一起的抗熔焊部件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件的材質(zhì)為CuCr，其中的Cr的含量為30％至90％。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述CuCr為粉狀，Cu為-80目至-400目，Cr為-80目至-400目。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件的材質(zhì)為CuW，其中W的含量為0.5％至2％。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述CuW為粉狀，Cu為-80目至-400目。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件材質(zhì)為CuWWC，其中WWC的含量為0.5％至2％。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件為一個(gè)以上。
13.根據(jù)權(quán)利要求6或12所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件設(shè)置在耐弧部件與抗熔焊部件之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件，其特征在于所述抗熔焊部件位于所述耐弧部件中部。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件位于所述耐弧部件中部，所述小截流值部件環(huán)設(shè)于所述抗熔焊部件周圍。
16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件為環(huán)狀，且為至少一個(gè)設(shè)于所述耐弧部件上。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件為環(huán)狀，且為至少一個(gè)設(shè)于所述耐弧部件上，所述小截流值部件位于所述耐弧部件中部和環(huán)設(shè)于所述抗熔焊部件周圍。
18.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件嵌入耐弧部件內(nèi)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述小截流值部件嵌入的深度為耐弧部件厚度的0％至100％。
20.根據(jù)權(quán)利要求6、14或16所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件嵌入耐弧部件，整體表面為平面。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件嵌入的深度為耐弧部件厚度的0％至100％。
22.根據(jù)權(quán)利要求6、14或16所述的真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，其特征在于所述抗熔焊部件凸起設(shè)置在耐弧部件上。
23.一種包含上述任一權(quán)利要求所述的耐弧件結(jié)構(gòu)的真空開關(guān)觸頭，其特征在于包括殼體、導(dǎo)電部件、導(dǎo)電底層及磁產(chǎn)生部件，其中，所述殼體內(nèi)部布設(shè)所述導(dǎo)電底層，該導(dǎo)電底層上布設(shè)所述磁產(chǎn)生部件，該磁產(chǎn)生部件上布設(shè)所述耐弧件結(jié)構(gòu)；該磁產(chǎn)生部件自一側(cè)邊向內(nèi)部、自上到下開設(shè)貫通凹缺，凹缺內(nèi)插設(shè)導(dǎo)電部件，該導(dǎo)電部件一端抵觸導(dǎo)電底層，另一端抵觸耐弧件結(jié)構(gòu)，所述磁產(chǎn)生部件比導(dǎo)電底層、耐弧件結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電部件的導(dǎo)電率低，所述殼體的材質(zhì)為熔點(diǎn)高于其內(nèi)設(shè)置的各個(gè)部件熔點(diǎn)的剛性材質(zhì)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的真空開關(guān)觸頭，其特征在于所述真空開關(guān)的觸頭位于耐弧件結(jié)構(gòu)的小截流值部件處具有貫穿真空開關(guān)觸頭的孔。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種真空開關(guān)觸頭的耐弧件結(jié)構(gòu)，包括一個(gè)具有強(qiáng)分?jǐn)嗄芰Φ哪突〖?，所述耐弧件上表面嵌有至少一個(gè)用來切斷真空開關(guān)開斷時(shí)產(chǎn)生的電弧小截流值部件。本發(fā)明還涉及一種真空開關(guān)觸頭，包括殼體、導(dǎo)電部件、導(dǎo)電底層、磁產(chǎn)生部件以及上述耐弧件結(jié)構(gòu)，殼體內(nèi)部布設(shè)導(dǎo)電底層，該導(dǎo)電底層上布設(shè)磁產(chǎn)生部件，該磁產(chǎn)生部件上布設(shè)耐弧件結(jié)構(gòu)；該磁產(chǎn)生部件自一側(cè)邊向內(nèi)部、自上到下開設(shè)貫通凹缺，凹缺內(nèi)插設(shè)導(dǎo)電部件，該導(dǎo)電部件一端抵觸導(dǎo)電底層，另一端抵觸耐弧件結(jié)構(gòu)，磁產(chǎn)生部件比導(dǎo)電底層、耐弧件結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電部件的導(dǎo)電率低，殼體的材質(zhì)為熔點(diǎn)高于其內(nèi)設(shè)置的各個(gè)部件熔點(diǎn)的剛性材質(zhì)。因此本發(fā)明抗熔焊能力強(qiáng)、分?jǐn)嗄芰?qiáng)并且截流值低。
文檔編號H01H1/02GK1815655SQ20051000507
公開日2006年8月9日 申請日期2005年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月31日
發(fā)明者任建昌 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司