專利名稱：形成和控制共軛材料薄膜的結(jié)構(gòu)、電學(xué)、光學(xué)和光電子學(xué)性能各向異性的、微米和納米級(jí) ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明報(bào)道一種適合于形成和控制共軛材料薄膜相關(guān)性能，即結(jié)構(gòu)、機(jī)械、電學(xué)、光學(xué)和光電子學(xué)性能各向異性的微米和納米級(jí)的制造方法。
背景技術(shù)：
共軛材料由有機(jī)分子，配位化合物，聚合物，共聚物和聚合混合物構(gòu)成，在各種組成原子(C，N，O，S)上含有具有空間離域π電子的官能團(tuán)。這些材料具有類似于無機(jī)半導(dǎo)體的光學(xué)和電子學(xué)性能(因此常被稱為有機(jī)半導(dǎo)體)。而且，已證實(shí)它們?cè)诤线m的實(shí)驗(yàn)條件下，具有類似金屬或超導(dǎo)體的行為。分子中π電子的空間分布通常是各向異性的。這意味著，分子聚集體在電磁場，流體流，機(jī)械力中的響應(yīng)，在原則上可以是各向異性的，并取決于序參量。
共軛材料對(duì)有機(jī)(或塑料)光電子學(xué)，電子學(xué)和光子學(xué)等創(chuàng)新技術(shù)的開發(fā)是很重要的。這些術(shù)語是指各種含有厚度介于10和1000納米之間的共軛材料薄膜的系統(tǒng)，器件，電路和集成元件(光學(xué)的和電子學(xué)的)，其中的共軛材料薄膜在輻照時(shí)，起到電荷或能量傳輸層的作用。
有機(jī)光電子學(xué)和電子學(xué)是各種日常生活消費(fèi)應(yīng)用傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)的替代技術(shù)，因?yàn)槠渚哂械椭圃斐杀?，而且其中的元件是可處理的和能循環(huán)使用的，對(duì)環(huán)境影響小。產(chǎn)品實(shí)例包括智能卡(信息被編碼在塑料介質(zhì)上的基于一種共軛薄膜的微處理器中，并且信息是可以更改的)；通過分子和/或聚合物電致發(fā)光薄膜工作的發(fā)光二極管，用于制造超平，高效和起亮的柔性屏；具有高生物相容性和低重量的環(huán)境和健康傳感器；通過用隨時(shí)，直接和非侵入性獲得的信息來識(shí)別廣泛使用商品(食品，衣服，信件，包裹)的標(biāo)簽；安全(信用卡，包裹，信件)和密碼。據(jù)估計(jì)，到2002年底，僅有機(jī)集成電路市場就將超過7億歐元。
本技術(shù)的成功不僅取決于共軛材料的獨(dú)特性質(zhì)，還取決于器件制造的有效性，簡便性和成本。
在非傳統(tǒng)制造方法(即，基于照相平版印刷方法的替代方法)中，接觸曬印和壓印(壓凸印)是用于制造有機(jī)集成電路最有發(fā)展前途的方法。這是因?yàn)槠浞椒ê唵?，適應(yīng)于平面技術(shù)，涉及方法有限，對(duì)能量，環(huán)境清潔度和化學(xué)有害物要求低，而且最后可將其升級(jí)為在大面積上能夠多次循環(huán)的自動(dòng)循環(huán)形式。這些方法已經(jīng)被國際專利所保護(hù)，都是涉及在電阻材料薄膜上壓印結(jié)構(gòu)的，對(duì)其進(jìn)行顯影步驟和各種其他步驟(比如各向異性蝕刻，剝離(lift-off)，薄膜淀積)，最終獲得要求的圖案或圖形。制成品通常不同于壓印材料。與本專利有關(guān)的國際專利保護(hù)i)在光敏樹脂上通過壓力壓凸印方法制造反射屏的方法(Kano等，Alps Electric Co.Ltd.(JP)申請(qǐng)?zhí)?70715，1998年10月13日)；ii)通過組合應(yīng)用電子束平版印刷和壓印，剝離(lift-off)和/或輥壓法獲得的納米結(jié)構(gòu)表面，目的在于提高基本粒子通過勢壘的透射率(Cox等，BorealisTechnical Limited(London，UK)，申請(qǐng)?zhí)?45299，1998年3月20日)；iii)通過將浸漬有試劑的模具壓在表面上，獲得亞微米級(jí)平版印刷結(jié)構(gòu)的系統(tǒng)(Biebuyck和Michel，International Business Machine Corporation(Armonk，NY)，申請(qǐng)?zhí)?90956，1996年8月1日)；iv)在金屬薄膜上形成相反的外形的方法，然后對(duì)其進(jìn)行腐蝕溶解(蝕刻)制造金屬薄膜的方法(Calveley(Private Bag，MBE N180 Auckland，NZ)，申請(qǐng)?zhí)?74420，1999年12月29日)；v)Chou S.和Zhuang L.(Princeton University NJ，申請(qǐng)?zhí)朥S23717，1999年10月8日)。
納米技術(shù)對(duì)先進(jìn)經(jīng)濟(jì)可持續(xù)發(fā)展的影響已經(jīng)被美國，日本和歐共體的政府提供的資金所證明。歐洲委員會(huì)已經(jīng)在從2003年開始的第六號(hào)構(gòu)架了計(jì)劃中，對(duì)納米技術(shù)課題優(yōu)先劃撥了13億歐元的資金。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能夠改進(jìn)，提高，控制和制造薄膜中共軛分子和/或高分子的結(jié)構(gòu)組織，序態(tài)和各向異性的方法。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種適用于制造由各向同性區(qū)和具有更高或不同分子序態(tài)的各向異性區(qū)構(gòu)成的薄膜的方法，并因此對(duì)取決于分子序態(tài)的張量性質(zhì)，比如極化率，超極化率，介電常數(shù)，線性和非線性折射率，電荷遷移率，電導(dǎo)率，熱導(dǎo)率，磁化和磁化率，彈性，塑性和應(yīng)力，以預(yù)定的周期性進(jìn)行空間調(diào)制。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種能大規(guī)模進(jìn)行，而且能重復(fù)多個(gè)循環(huán)，并能用一種現(xiàn)有工業(yè)化技術(shù)設(shè)計(jì)的方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種能改進(jìn)，加強(qiáng)，控制和制造薄膜中共軛分子從微米到納米范圍長度級(jí)的結(jié)構(gòu)組織，序態(tài)和各向異性的方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種用于制造具有受控形狀，空間分布和在線性和非線性光學(xué)和電學(xué)響應(yīng)上具有各向異性的微區(qū)的方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種用于制造具有獨(dú)特性能的共軛材料薄膜的方法，這些性能是結(jié)構(gòu)，電學(xué)，光學(xué)和光電子學(xué)性能的各向異性，該方法是有效的，簡便的和低成本的。
通過以下說明，這些和其他發(fā)明目的是顯而易見的，可以通過所附權(quán)利要求書所述的方法和薄膜而達(dá)到這些目的。
本發(fā)明提供一種用于改進(jìn)由共軛材料構(gòu)成的薄膜的張量特性的方法，包括將所述薄膜與模具接觸和對(duì)所述模具施加模塑成型壓力的步驟。
該共軛材料選自具有剛性棒狀共軛單元的共軛分子和聚合物，基于棒狀或雙軸結(jié)構(gòu)的結(jié)晶液體聚合物和分子。
具有棒狀共軛單元的共軛分子和聚合物例如選自噻吩低聚物，優(yōu)選四、五、六、七、八噻吩，其在α和/或ω位或在β或β′位，或在α，ω，β或β′任何位上有取代基的衍生物，和其相應(yīng)的區(qū)域規(guī)整(regioregular)和非區(qū)域規(guī)整聚合物；低聚苯基，優(yōu)選四、五、六、七、八亞苯基，其在鄰位和/或間位具有取代基的衍生物，其相應(yīng)的區(qū)域規(guī)整和非區(qū)域規(guī)整聚合物；萘，蒽，菲，并四苯，并五苯和并苯衍生物；雙-二噻吩并-噻吩；雙-二噻吩并-富瓦烯；芴，雙-二噻吩并-芴及其衍生物；低聚亞苯基亞乙烯基，優(yōu)選四，五，六，七，八亞苯基亞乙烯基，其在鄰位，間位和/或烯丙基位置具有取代基的衍生物，其相應(yīng)的區(qū)域規(guī)整和非區(qū)域規(guī)整聚合物；和雙-二苯乙烯基-芪。
該材料還可以選自具有盤狀共軛單元的共軛分子和聚合物，比如苝及其衍生物，優(yōu)選3，4，9，10-苝-四羧酸二酐(PTCDA)，萘四羧酸二酐(NTDA)；terrylene，蒄，六苯并蒄，帶或不帶取代基；優(yōu)選具有Cu或Zn金屬中心的酞菁和卟啉；基于盤狀結(jié)構(gòu)的結(jié)晶液體分子。
而且，該材料可以選自由于電偶極子而具有強(qiáng)電子各向異性的配位化合物和分子，比如三-(羥基喹啉)Al(III)，即Alq3，及其與不同金屬中心，比如氧釩基，Pd，Pt，Zn，Ga，In，Tl，Sn，稀土元素，或與不同配位體，比如在2或4或5位取代的羥基喹啉和更常見的基于氧和氮的芳族螯合劑的衍生物。
可以被本發(fā)明方法改進(jìn)的張量特性例如是極化率，介電常數(shù)，折射率，光吸收，能量傳輸，電荷遷移率，電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率，磁化和磁化率，彈性，塑性和應(yīng)力。
用于本發(fā)明方法的模具可以是一種單突起模具，優(yōu)選具有微米到納米范圍的特征尺寸，或者是多突起模具。
所用的模具可以是硬模具，優(yōu)選由鉻，鋼，氮化硅或氧化硅制成，或由一種彈性材料優(yōu)選聚-(二甲基硅氧烷)制成的模具。
本發(fā)明方法中所用印刷壓力在1和1000巴范圍之間。
本發(fā)明方法的模塑成型步驟優(yōu)選在0和300℃溫度范圍之間進(jìn)行。
在模塑成型步驟中，模具向所述薄膜施加垂直和/或橫向的靜態(tài)或動(dòng)態(tài)壓力。
印刷方法可以在比模具突起特征尺寸大的面積上進(jìn)行。
可以與表面垂直或傾斜的相對(duì)位置施加模具，從而在薄膜中產(chǎn)生取向的連續(xù)空間變化。
當(dāng)模具由多個(gè)突起構(gòu)成時(shí)，各突起向薄膜施加的壓力也可以被分別控制，比如通過各可尋址的壓電元件進(jìn)行控制。
所述壓力可以被局部調(diào)制，從而引起連續(xù)或不連續(xù)的各種分子再取向。
在本發(fā)明的方法中，可以根據(jù)施加的壓力對(duì)再取向進(jìn)行調(diào)制，從而在薄膜上用相同的調(diào)制寫入信息，獲得等于或大于二進(jìn)制所能提供密度的信息存儲(chǔ)密度。
附圖簡要說明參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說明，其中附

圖1是本發(fā)明方法的印刷步驟示意圖。
附圖1a是靜態(tài)模塑成型方法的示意圖。
附圖1b是用一個(gè)球體進(jìn)行動(dòng)態(tài)模塑成型方法的示意圖。
附圖2是模塑成型獲得線條的拉曼顯微圖像(a)寬度5微米，周期10微米(b)寬度200納米，周期1微米(c)在(a)中印刷線條延伸方向的橫向的強(qiáng)度分布。拉曼強(qiáng)度在模塑線條處為較高。
圖3是通過拉曼顯微鏡在非模塑成型區(qū)域(a)和模塑成型線條(b)上取得的拉曼二向色性。平行于和垂直于模塑成型線條的極化強(qiáng)度的二色性比分別是1.6和2.2。因此，這種情況下，模塑成型造成對(duì)各向異性的增強(qiáng)超過35％。
圖4是各種放大倍數(shù)的AFM圖像，顯示了該方法在大區(qū)域(a)和非模塑成型區(qū)域(b)的顆粒形態(tài)上的特性。垂直尺度(從0(黑色)到z(白色)納米)分別是(a)z＝60納米，和(b)z＝50納米。模具的突起高度大約是100納米，模塑成型只有20微米線條外形降低意味著模具并沒有與整個(gè)薄膜表面接觸。(c)是垂直于(b)中模塑成型線條的外形輪廓，表示模塑成型線條對(duì)于峰頂?shù)慕档图s是30％。
圖5是用來進(jìn)行動(dòng)態(tài)模塑成型(納米摩擦)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。通過搖桿上的砝碼施加負(fù)載力，并可將其設(shè)定在一定范圍內(nèi)，對(duì)薄膜施加合適的壓力，比如在10+4和10+5帕之間。試樣的移動(dòng)由測微xy平臺(tái)完成。
圖6是各向異性共軛分子薄膜用滾球法納米摩擦后的偏光顯微鏡的光學(xué)圖像(放大100倍)。在受這方法影響的區(qū)域中對(duì)白光吸收的強(qiáng)各向異性是顯而易見的。
圖7是經(jīng)過平行和垂直于摩擦方向的分量之間大極化比的納米摩擦后，溝槽中的光致發(fā)光譜。
發(fā)明的實(shí)施方式不希望受特定的機(jī)理的限制，要注意本方法物理原理的基礎(chǔ)是，各向異性共軛分子薄膜具有的粘性應(yīng)力(剪切)張量使x-y平面上的分子沿Z軸在法向負(fù)載作用下取向。分子再取向在空間上局限于薄膜與模具接觸的區(qū)域。發(fā)現(xiàn)表明，局部再取向效應(yīng)的開始要求薄膜--由各向異性，或具有各向異性的形狀和極化率，或具有永久偶極的分子或高分子構(gòu)成；--在施加的壓力下屈服，而不是完全塑性的；--具有大于取向粘度的平移粘度；--不是流變性流體，至少不是經(jīng)典的各向同性液體；--對(duì)模具表面具有低粘合性，對(duì)基片表面具有高粘合性。
本方法的直接例證是通過改變薄膜結(jié)構(gòu)和分子取向，薄膜形態(tài)和光學(xué)性質(zhì)而給出的。改變這些性質(zhì)導(dǎo)致改變電荷載帶特性(比如在場效應(yīng)晶體管(FET)中電荷遷移率，開/關(guān)信號(hào)比，頻率相關(guān)響應(yīng)率)，分光特性，比如光吸收和光致發(fā)光及電致發(fā)光。實(shí)例是沿各種空間方向發(fā)射或吸收光的強(qiáng)度，量子產(chǎn)額，光譜性質(zhì)和形狀。
在適當(dāng)設(shè)計(jì)的金屬或其他材料制成的模具的幫助下進(jìn)行模塑成型。在動(dòng)態(tài)情況下，可以使用球形端部(固定的或滾動(dòng)的)，以受控的負(fù)載力使其在薄膜上滑動(dòng)。該方法中的薄膜溫度，由每單位接觸表面施加的力(即，有效壓力)，接觸界面的尺寸，和動(dòng)態(tài)方法中模具相對(duì)薄膜的前進(jìn)速度，都是控制分子薄膜發(fā)生變化程度的因素。
在靜態(tài)方法中(圖1a)，方法的有效性取決于模塑成型時(shí)壓力P和溫度T的共同影響，模塑成型持續(xù)時(shí)間，和嚙合及接觸方式。移動(dòng)表面使其互相靠近，不施加力使其接觸，然后迅速增大壓力至選定值。
進(jìn)行這些變化需要的標(biāo)稱壓力值對(duì)每納米厚度是0.1-10巴。有效壓力取決于由模具表面形狀決定的接觸面積，共軛材料對(duì)模具的適應(yīng)性和貼合性，以及界面的相對(duì)平整性。薄膜與模具突起的接觸區(qū)域受到分子重組過程的影響，因此其性質(zhì)是局部的。模具的形狀(比如平行線和溝槽)能產(chǎn)生方位取向并從而使模塑成型區(qū)域具有單軸性。這里所述方法的結(jié)果是，一種模塑成型區(qū)域是由平面取向分子的微區(qū)構(gòu)成的薄膜。模塑成型區(qū)域比未模塑成型區(qū)域更薄，因?yàn)椴煌肿尤∠驅(qū)е潞穸葴p小。
溫度必須略高于閾值(比如聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)，使之發(fā)生取向擴(kuò)散，但是必須不到熔融溫度。共軛分子薄膜的最佳結(jié)果是在池壓力下在接近于，但低于材料退火溫度的溫度下獲得的。這個(gè)溫度對(duì)塑料電子學(xué)中所用的共軛分子而言，通常低于200℃。
模塑成型操作的持續(xù)時(shí)間通常比分子再取向時(shí)間短，其范圍較寬1-10分鐘足以便50-100納米的薄膜到達(dá)平衡狀態(tài)。P和T的值根據(jù)薄膜的材料和厚度而變化。
在微米摩擦或納米摩擦的動(dòng)態(tài)方法中(附圖1b)，通過滑動(dòng)彼此接觸的兩個(gè)表面進(jìn)行模塑成型。實(shí)驗(yàn)設(shè)備如圖5所示，球體半徑是100微米，并對(duì)玻璃上100納米的六噻吩基(T6)薄膜施加預(yù)定的負(fù)載力。球體相對(duì)試樣滑動(dòng)，留下均勻?qū)挾鹊木€條，寬度在20和2微米之間變化，取決于逐漸減小的負(fù)載力。偏光顯微鏡下的偏振光圖像(偏振器-分析器結(jié)構(gòu))(圖6)表明了與球體接觸的區(qū)域中明顯的光學(xué)各向異性(二向色性)，而薄膜其他部分保持各向同性。偏振光下的光致發(fā)光顯微分析(PL)(附圖7)證實(shí)，在模塑區(qū)域中，分子沿前進(jìn)方向具有平面取向。在未經(jīng)模塑成型影響的部分中，分子取向在平面上是各向同性的。文獻(xiàn)中的X射線衍射測定[B.Servet，G.Horowitz，S.Ries，O.Lagorese，P. Alnot，A.Yassar，F(xiàn). Deloffre，P. Srivastara，R.Hajlaoui，P.Lang和F. Garnier，Chem.Master.6，1809(1994)]表明，長軸平均與基片表面垂直方向大致成20°角。因此，從實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可以推論出，在球體施加力的作用下使分子再取向與其長軸成一平面。
最好的結(jié)果是在老化薄膜上獲得的，在剛制備的薄膜上能觀察到，取下材料方法中會(huì)發(fā)生變差現(xiàn)象。除了P和T參數(shù)之外，模具相對(duì)試樣的速度V也是重要的。V的典型值在1和10毫米/秒之間。分子再取向是部分由垂直力決定的，部分是由兩個(gè)表面之間的橫向摩擦力決定的，橫向摩擦力作用于粘性應(yīng)力張量的x-y分量上。
本發(fā)明所述方法是用單突起模具說明的，比如球體或掃描探針顯微分析中的觸針，曲率半徑在幾百微米和幾納米之間。本發(fā)明最普通實(shí)例中的模具具有多個(gè)突起或具有各種復(fù)雜制造結(jié)構(gòu)，在靜態(tài)或動(dòng)態(tài)條件下引起分子再取向。雖然用靜態(tài)模塑成型改變厚度是已知的，并被國際專利所覆蓋(即，壓凸印，納米壓印)，本發(fā)明的中心內(nèi)容，即由模塑成型引起的局部再取向效應(yīng)，是絕對(duì)新穎和創(chuàng)新的。
用于引起分子再取向的模具可以是硬模具，比如由鉻，鋼，氧化硅，氮化硅制成。也可以使用由彈性材料，比如聚-(二甲基硅氧烷)制成的模具。
本發(fā)明方法能控制上述模塑條件，在大面積上用模具對(duì)薄膜的分子取向進(jìn)行局部改變。
本申請(qǐng)要求其優(yōu)選的意大利專利申請(qǐng)?zhí)朚I2001A002075的內(nèi)容在此參考引入。
權(quán)利要求
1.一種用于改進(jìn)由共軛材料構(gòu)成的薄膜張量特性的方法，包括將所述薄膜與模具接觸和對(duì)所述模具施加模塑成型壓力的步驟。
2.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述共軛材料選自具有剛性棒狀共軛單元的共軛分子和聚合物，基于棒狀或雙軸結(jié)構(gòu)的結(jié)晶液體聚合物和分子。
3.如權(quán)利要求2所述方法，其特征在于所述具有棒狀共軛單元的共軛分子和聚合物選自噻吩低聚物，優(yōu)選四、五、六、七、八噻吩，其在α和/或ω位或在β或β′位上，或在α，ω，β或β′任何位上具有取代基的衍生物，和其相應(yīng)的區(qū)域規(guī)整和非區(qū)域規(guī)整聚合物；低聚苯基，優(yōu)選四、五、六、七、八亞苯基，其在鄰位和/或間位具有取代基的衍生物，其相應(yīng)區(qū)域規(guī)整和非區(qū)域規(guī)整聚合物；萘，蒽，菲，并四苯，并五苯，和并苯衍生物；雙-二噻吩并-噻吩；雙-二噻吩并-富瓦烯；芴，雙-二噻吩并-芴及其衍生物；低聚亞苯基亞乙烯基，優(yōu)選四、五、六、七、八亞苯基亞乙烯基，其在鄰位，間位和/或烯丙基位上具有取代基的衍生物，其相應(yīng)的區(qū)域規(guī)整和非區(qū)域規(guī)整聚合物；和雙-二苯乙烯基-芪。
4.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述材料選自具有盤狀共軛單元的共軛分子和聚合物。
5.如權(quán)利要求4所述方法，其特征在于所述材料選自苝及其衍生物，優(yōu)選3，4，9，10-苝-四羧酸二酐，萘四羧酸二酐；terrylene，蒄，六苯并蒄，帶或不帶取代基；優(yōu)選具有Cu或Zn金屬中心的酞菁和卟啉；基于盤狀結(jié)構(gòu)的結(jié)晶液體分子。
6.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述材料選自配位化合物和分子，其中通過電偶極子具有強(qiáng)電子各向異性。
7.如權(quán)利要求6所述方法，其特征在于所述材料選自稱為Alq3的三-(羥基喹啉)Al(III)，及其與除Al之外金屬中心，優(yōu)選氧釩基，Pd，Pt，Zn，Ga，In，Tl，Sn，稀土元素，或與不同鍵合劑，比如在2或4或5位取代的羥基喹啉和基于氧-氮的芳香螯合劑的衍生物。
8.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述張量特性是極化率，介電常數(shù)，折射率，光吸收，能量傳輸，電荷遷移率，電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率，磁化和磁化率，彈性，塑性和應(yīng)力。
9.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述模具具有單個(gè)突起，優(yōu)選具有微米到納米范圍的尺寸。
10.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述模具具有多個(gè)突起。
11.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述模具是硬模具，優(yōu)選由鉻，鋼或氧化硅制成。
12.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述模具是由彈性材料，優(yōu)選聚二甲基硅氧烷制成的模具。
13.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述壓力在1和1000巴范圍之間。
14.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述步驟在0和300℃范圍之間進(jìn)行。
15.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于所述模具向所述薄膜施加靜態(tài)或動(dòng)態(tài)的垂直和/或橫向的力。
16.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于該模塑成型方法是在比模具突起尺寸大的面積上進(jìn)行的。
17.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于以與表面相對(duì)傾斜的位置施加所述模具，從而產(chǎn)生取向的連續(xù)空間變化。
18.如權(quán)利要求10所述方法，其特征在于該模具由多個(gè)突起構(gòu)成，這些突起對(duì)薄膜施加的壓力可以被分別控制。
19.如權(quán)利要求1，9，10和18所述方法，其特征在于所述壓力被調(diào)制，從而引起連續(xù)或非連續(xù)的各種局部分子再取向。
20.如權(quán)利要求19所述方法，其特征在于所述再取向效應(yīng)可以被調(diào)制用于局部寫入信息，并具有等于或大于二進(jìn)制可獲得密度的存儲(chǔ)密度。
全文摘要
一種用于在具有共軛雙鍵的有機(jī)材料構(gòu)成的薄膜中改善，提高和形成結(jié)構(gòu)各向異性，組織和序態(tài)，以及機(jī)械，電學(xué)，光學(xué)，光電子學(xué)，電荷載帶和能量負(fù)載性能各向異性的非傳統(tǒng)平版印刷方法。該方法包括模塑成型，通過與模具表面緊密接觸而直接在共軛薄膜上進(jìn)行。薄膜直接與模具接觸的部分經(jīng)過性質(zhì)的局部變化，其尺寸取決于模具上提供的結(jié)構(gòu)尺寸。模塑成型可以在靜態(tài)條件和動(dòng)態(tài)條件下進(jìn)行。方法的有效性取決于模具的性質(zhì)(材料，形狀，粘合性和表面張力)和發(fā)生嚙合和接觸時(shí)的模塑成型方法的性質(zhì)(壓力P和溫度T的共同影響，模塑成型的持續(xù)時(shí)間)，以及動(dòng)態(tài)方法時(shí)模具相對(duì)試樣的速度。所述方法被證明在幾十微米(10
文檔編號(hào)H01L29/786GK1564737SQ02819781
公開日2005年1月12日 申請(qǐng)日期2002年10月7日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月8日
發(fā)明者M·莫基亞, P·梅, F·比斯卡里尼, C·塔里阿尼 申請(qǐng)人:國家研究院