專利名稱:光記錄介質(zhì)、光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置及光記錄介質(zhì)驅(qū)動方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種利用光的照射來執(zhí)行信號記錄和再現(xiàn)的光記錄介質(zhì)、及用于其記 錄和再現(xiàn)的驅(qū)動裝置和驅(qū)動方法。
背景技術(shù):
作為利用光的照射執(zhí)行信號記錄和再現(xiàn)的光記錄介質(zhì),例如,廣泛使用所謂的光 盤(如⑶(壓縮盤)、DVD(數(shù)字通用盤)、以及BD(藍(lán)光光盤商標(biāo)))。關(guān)于與在廣泛使用的光記錄介質(zhì)(如CD、DVD、BD等)的下一代中扮演主要角色的 光記錄介質(zhì)有關(guān)的現(xiàn)狀,首先,申請人提出了所謂的大容量記錄型光記錄介質(zhì),如在日本未 審查專利申請公開第2008-135144和2008-176902號中所記載的。這里,大容量記錄是通過相對于至少具有覆蓋層101和大容量層(bulk layer) 102的光記錄介質(zhì)依次改變聚焦位置并執(zhí)行激光照射從而在大容量層102內(nèi)執(zhí)行多 層記錄,來實現(xiàn)大記錄容量的技術(shù),如圖12所示。關(guān)于大容量記錄,在日本未審查專利申請公開第2008-135144號中公開了被稱作 所謂的微全息照相模式的記錄技術(shù)。如圖13A和1 所示,微全息照相模式大致分為正片型微全息照相模式和負(fù)片型 微全息照相模式。在微全息照相模式中,所謂的全息照相記錄材料用作大容量層102的記錄材料。 作為全息照相記錄材料,例如,廣泛使用光聚合型光敏聚合物等。如圖13A所示,正片型微全息照相模式是將兩束相對的光束(光束A和光束B)會 聚在同一位置上來形成微小的干涉圖案(全息圖)從而將光束設(shè)定為記錄痕跡的方法。此外,圖1 所示的負(fù)片型微全息照相模式是將通過激光照射預(yù)先形成的干涉圖 案擦除(這是與正片型微全息照相模式相逆的思想)從而將擦除部分設(shè)定為記錄痕跡的方法。圖14A和14B是用于示出負(fù)片型微全息照相模式的示圖。在負(fù)片型微全息照相模式中,在執(zhí)行記錄操作前,如圖14A所示,預(yù)先對大容量層 102執(zhí)行用于形成干涉圖案的初始化處理。具體地,如圖所示,光束C和D是相對的并且由 平行光照射,從而在整個大容量層102中形成干涉圖案。以這種方式,在通過預(yù)先進行的初始化處理形成干涉圖案之后,如圖14B所示,通 過形成擦除痕跡來執(zhí)行信息記錄。具體地,通過在集中在任意層位置上的狀態(tài)下對應(yīng)于記 錄信息執(zhí)行激光照射,來利用擦除痕跡執(zhí)行信息記錄。此外,作為另一種大容量記錄方法,申請人提出了利用空隙記錄(void recording)(空孔記錄)模式的記錄方法作為另一種大容量記錄方法,如在日本未審查專 利申請公開第2008-176902號中所記載的??障队涗浤J绞且环N以相對高的能量對例如由諸如光聚合型光敏聚合物的記錄 材料形成的大容量層102執(zhí)行激光照射從而在大容量層102中記錄空孔(空隙)的方法。如在日本未審查專利申請公開第2008-176902號中所記載的,以這種方式形成的空孔部分 變?yōu)榫哂信c大容量層102中其它部分不同的折射率的部分,這可以提高邊界部分中光的反 射率。因此,空孔部分用作記錄痕跡,從而通過形成空孔痕跡來實現(xiàn)信息記錄。由于空隙記錄模式不形成全息圖,所以僅通過從一側(cè)執(zhí)行光照射就可以實現(xiàn)記 錄。即,沒有必要以與正片型微全息照相模式的情況相同的方式來將兩束光束會聚在同一 位置上來形成記錄痕跡,并且不要求用于將兩束光束會聚在同一位置上的高的位置控制精 確度。
發(fā)明內(nèi)容
這里,將考慮以與負(fù)型微全息照相模式或空隙記錄模式相同的方式,從記錄介質(zhì) 的一側(cè)執(zhí)行激光照射來執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的情況。原理與這些模式不同,但是僅從具有大容量層的體積型記錄介質(zhì)的一側(cè)入射光以 及僅在大容量層102中改變聚焦位置來執(zhí)行多層記錄的概念是相同的。在記錄模式中,要形成在大容量層102中的各個記錄層自身不具有地址信息。更 準(zhǔn)確地,記錄層通過記錄痕跡的記錄來形成,并且在記錄之前是不存在的。通常,在現(xiàn)有技術(shù)的光盤中,形成被稱作擺動槽(wobbling groove)的之字形引導(dǎo) 槽(guidance groove),并且通過檢測頻率來獲得位置信息。然而,在負(fù)片型微全息照相模 式或空隙記錄模式中,由于不預(yù)先在大容量層102中形成包括擺動槽的記錄層,所以在這 些模式中不能給出每個記錄層的地址信息。因此,考慮給予基準(zhǔn)面地址信息,并且使各個記錄層被記錄為對應(yīng)于基準(zhǔn)面。在那 種情況下,為了使基準(zhǔn)面的地址信息對應(yīng)于各個記錄層的記錄信息,需要校正記錄期間由 于光盤歪斜而產(chǎn)生的光斑偏差。將基于圖15A 15C進行描述。圖15A示意性地示出了用作在負(fù)片型微全息照相 模式或空隙記錄模式中使用的光記錄介質(zhì)的光盤100的截面結(jié)構(gòu)。在這種情況下,在覆蓋 層101和大容量層102之間形成基準(zhǔn)面103。例如,在基準(zhǔn)面103上形成擺動槽以給出地址信息。如圖所示,關(guān)于光盤100的記錄再現(xiàn)裝置從一個物鏡200照射兩個系統(tǒng)的激光LZl 和LZ2。激光LZl變?yōu)橛涗浖す猓约凹す釲Z2變?yōu)樗欧す?。此外,激光LZ2在基準(zhǔn)面103上執(zhí)行聚焦控制,從而根據(jù)關(guān)于激光LZ2的基準(zhǔn)面 103的返回光的信息執(zhí)行跟蹤控制或地址解碼。另一方面,激光LZl用于利用在光盤100的深度方向上距離在基準(zhǔn)面103上經(jīng)受 聚焦控制的激光LZ2的偏移(offset)來執(zhí)行聚焦控制。此外,通過激光LZl在大容量層 102中形成記錄痕跡,從而形成記錄層。這里,為了使基準(zhǔn)面103的地址信息對應(yīng)于通過激光LZl形成的記錄層的記錄信 息,如圖15A所示,要求激光LZl和LZ2的光斑的徑向偏差幾乎為0。如果存在光盤100與光學(xué)系統(tǒng)(物鏡200)之間相對狀態(tài)的傾斜,由此,如圖15B 所示,由于光盤100相對于激光入射光軸的歪斜,所以對于兩個光斑存在在光盤100的徑向 上的聚焦位置偏差Δχ,利用擺動槽的記錄數(shù)據(jù)和地址的對應(yīng)變得不準(zhǔn)確。此外,圖15C示出了入射光軸J、傾斜量θ、激光LZl和LZ2的光斑的聚焦位置偏差Δ χ、在光盤厚度方向上激光LZl和LZ2間的距離At、光盤100的折射率N、以及光盤厚 度t。光斑的聚焦位置偏差Δχ為Δχ = (Θ/Ν) · At。為了解決光斑偏差,需要在記錄等期間適當(dāng)?shù)貓?zhí)行光學(xué)系統(tǒng)與光盤100之間的相 對位置的傾斜校正。因此,在本發(fā)明中,期望解決在以與負(fù)片型微全息照相模式或大容量記錄模式相 同的方式執(zhí)行從記錄介質(zhì)的一側(cè)向大容量層的激光照射來執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的情況下所產(chǎn) 生的間題。即,期望使兩個系統(tǒng)的激光中的光斑的聚焦位置的偏差能夠被適當(dāng)?shù)匦U詧?zhí) 行記錄等。根據(jù)本發(fā)明實施方式的光記錄介質(zhì)具有大容量層,在該大容量層上通過激光照射 記錄光記錄信息,并且在該大容量層上形成其上記錄有光記錄信息的多個記錄層;以及傾 斜檢測面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時,該傾斜檢測面形成在大容量層的內(nèi)側(cè)。此外,光記錄介質(zhì)還包括基準(zhǔn)面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時,具有包括地址信息的 溝槽的該基準(zhǔn)面形成在大容量層的正面?zhèn)?。可選地,傾斜檢測面形成為具有地址信息的溝槽或凹槽(pit)行。根據(jù)本發(fā)明實施方式的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置包括光學(xué)拾取器,對光記錄介質(zhì)從 一個物鏡照射第一和第二激光,其中光記錄介質(zhì)具有大容量層在該大容量層上通過激光照 射記錄光記錄信息,并且在該大容量層上形成其上記錄有光記錄信息的多個記錄層,光記 錄介質(zhì)還具有傾斜檢測面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時,該傾斜檢測面形成在大容量層的內(nèi) 側(cè);聚焦控制部,對第一和第二激光中每一個執(zhí)行相對于光記錄介質(zhì)的預(yù)定位置的聚焦控 制;跟蹤控制部,控制物鏡的位置以執(zhí)行第一和第二激光對光記錄介質(zhì)的跟蹤控制;傾斜 控制部,基于來自傾斜檢測面的第一或第二激光的激光的返回光的信息,改變向光記錄介 質(zhì)入射的第一和第二激光的入射光軸相對于光記錄介質(zhì)的傾斜狀態(tài),從而執(zhí)行傾斜校正。這里,在光記錄介質(zhì)中,在設(shè)置形成有包括地址信息的溝槽的基準(zhǔn)面(當(dāng)從激光 入射面?zhèn)扔^看時,該基準(zhǔn)面形成在大容量層的正面?zhèn)?的情況下,第一和第二激光是具有 彼此不同波長的激光,其中第一激光具有短波長。當(dāng)執(zhí)行傾斜校正時,在已經(jīng)對第二激光執(zhí) 行相對于基準(zhǔn)面的聚焦控制的狀態(tài)下,聚焦控制部對第一激光執(zhí)行相對于傾斜檢測面的聚 焦控制,并且傾斜控制部基于來自傾斜檢測面的第一激光的返回光的信息執(zhí)行傾斜校正。此外,當(dāng)在光記錄介質(zhì)上執(zhí)行記錄時,在已經(jīng)執(zhí)行傾斜校正的狀態(tài)下,聚焦控制部 對第二激光執(zhí)行相對于基準(zhǔn)面的聚焦控制,跟蹤控制部基于來自基準(zhǔn)面的第二激光的返回 光的信息執(zhí)行跟蹤控制,并且在已經(jīng)對第一激光執(zhí)行相對于記錄層形成位置的聚焦控制的 狀態(tài)下,聚焦控制部利用第一激光執(zhí)行光記錄信息的記錄。此外,當(dāng)在光記錄介質(zhì)上執(zhí)行記錄時,從來自基準(zhǔn)面的第二激光的返回光的信息 獲得地址信息。此外,在將光記錄介質(zhì)中的傾斜檢測面形成為具有地址信息的溝槽或凹槽行的情 況下,第一和第二激光是具有相同波長的激光,并且當(dāng)執(zhí)行傾斜校正時,聚焦控制部對第二 激光執(zhí)行相對于傾斜檢測面的聚焦控制,并且傾斜控制部基于來自傾斜檢測面的第二激光 的返回光的信息執(zhí)行傾斜校正。此外,當(dāng)在光記錄介質(zhì)上執(zhí)行記錄時,在已經(jīng)執(zhí)行傾斜校正的狀態(tài)下,聚焦控制部 對第二激光執(zhí)行相對于傾斜檢測面的聚焦控制,跟蹤控制部基于來自傾斜檢測面的第二激光的返回光的信息執(zhí)行跟蹤控制,并且在已經(jīng)對第一激光執(zhí)行相對于記錄層形成位置的聚 焦控制的狀態(tài)下,聚焦控制部通過第一激光執(zhí)行光記錄信息的記錄。此外,當(dāng)在光記錄介質(zhì)上執(zhí)行記錄時,從來自傾斜檢測面的第二激光的返回光的 信息獲得地址信息。根據(jù)本發(fā)明另一實施方式的光記錄介質(zhì)驅(qū)動方法基于來自傾斜檢測面的第一或 第二激光的激光的返回光的信息,改變?nèi)肷涞焦庥涗浗橘|(zhì)的第一和第二激光的入射光軸相 對于光記錄介質(zhì)的傾斜狀態(tài)以執(zhí)行傾斜校正。在本發(fā)明實施方式中,當(dāng)從光記錄介質(zhì)的激光入射面?zhèn)扔^看時,傾斜檢測面設(shè)置 在大容量層的內(nèi)側(cè)。例如,傾斜檢測面是具有溝槽或凹槽行的反射面。兩個系統(tǒng)的激光中 的一個經(jīng)受相對于傾斜檢測面的聚焦控制,從而根據(jù)返回光的信息執(zhí)行傾斜校正。根據(jù)本發(fā)明的實施方式,通過在利用傾斜檢測面而不產(chǎn)生兩個系統(tǒng)的激光的光斑 位置偏差的狀態(tài)下執(zhí)行傾斜校正,可以在恰好對應(yīng)于記錄在基準(zhǔn)面或傾斜檢測面上的地址 信息的狀態(tài)下進行對大容量層記錄信息。此外,特別地,通過在光盤厚度方向上距離激光入射面的距離延長的位置上設(shè)定 傾斜檢測面,容易從推挽信號等獲得用于傾斜校正的傾斜量的檢測信息。
圖1是本發(fā)明第一實施方式的記錄介質(zhì)的示意圖。圖2是在第一實施方式的記錄期間的伺服控制的示意圖。圖3是在第一實施方式的傾斜校正期間的伺服控制的示意圖。圖4是實施方式的厚度方向距離與推挽信號之間的關(guān)系的示意圖。圖5是第一實施方式的記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。圖6是第一實施方式的傾斜校正處理的流程圖。圖7是第二實施方式的記錄介質(zhì)的示意圖。圖8是在第二實施方式的記錄期間的伺服控制的示意圖。圖9是在第二實施方式的傾斜校正期間的伺服控制的示意圖。圖10是第二實施方式的記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。圖11是第二實施方式的傾斜校正處理的流程圖。圖12是微全息照相記錄的示意圖。圖13A和圖1 是正片型和負(fù)片型微全息照相記錄的示意圖。圖14A和圖14B是負(fù)片型微全息照相記錄的示意圖。圖15A 圖15C是由于光盤歪斜而導(dǎo)致的光斑偏差的示意圖。
具體實施例方式下文,將以下列順序描述本發(fā)明的實施方式。<1.第一實施方式〉[1-1光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)][1-2伺服控制][1-3記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)]
[1-4傾斜校正處理]<2.第二實施方式>[2-1光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)][2-2伺服控制][3-3記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)][3-4傾斜校正處理]<1.第一實施方式〉[1-1光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)]圖1示出了第一實施方式的光記錄介質(zhì)(記錄介質(zhì)1)的截面結(jié)構(gòu)圖。圖1所示的記錄介質(zhì)1是圓盤狀光記錄介質(zhì),并且對要被旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì) 1執(zhí)行激光照射,從而執(zhí)行痕跡記錄(信息記錄)。此外,記錄信息的再現(xiàn)也通過用激光照 射要被旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì)1來執(zhí)行。此外,光記錄介質(zhì)涉及通過光的照射來執(zhí)行記錄信息的再現(xiàn)的記錄介質(zhì)。在本實例的情況下,假設(shè)光記錄介質(zhì)用在例如負(fù)片型微全息照相模式或空隙記錄 模式下。首先,如圖14A和14B所示,在負(fù)片型全息照相模式下,在執(zhí)行記錄動作之前,對大 容量層預(yù)先執(zhí)行用于形成干涉圖案的初始化處理。以這種方式,在通過預(yù)先進行的初始化 處理形成干涉圖案之后,通過形成擦除痕跡來執(zhí)行信息記錄。具體地,通過在集中在任意的記錄層位置的狀態(tài)下對應(yīng)于記錄信息執(zhí)行激光照 射,信息記錄通過擦除的痕跡被執(zhí)行。此外,形成所謂的空孔(空隙)作為記錄痕跡的空隙記錄模式以相當(dāng)高的能量對 由例如以光聚合型光敏聚合物為例的記錄材料形成的大容量層執(zhí)行激光照射,從而在大容 量層中記錄空孔(空隙)。以這種方式形成的空孔部分變?yōu)榫哂信c大容量層中其它部分不 同的折射率的部分,這可以提高邊界部分中的光的反射率。因此,空孔部分用作記錄痕跡, 從而實現(xiàn)利用孔痕跡的形成的信息記錄。然而,稍后描述的實施方式不僅可應(yīng)用于負(fù)片型微全息照相模式或空隙記錄模 式,還可應(yīng)用于用于伺服和用于記錄的兩個系統(tǒng)的激光從記錄介質(zhì)1的一面?zhèn)日丈鋪碓诖?容量層上執(zhí)行信息記錄的應(yīng)用。在圖1中,記錄介質(zhì)1是所謂的大容量型光記錄介質(zhì),如圖所示,在起始于其上層 側(cè)(激光入射面?zhèn)?的厚度方向上,依次形成覆蓋層2、基準(zhǔn)面3、大容量層5、以及傾斜檢測 層4。此外,在本說明書中,使用諸如“厚度方向”或“深度方向”的術(shù)語,但是“厚度方向” 或“深度方向”指的是作為與激光的入射方向平行的方向的記錄介質(zhì)的厚度方向。在記錄介質(zhì)1中,覆蓋層2由例如以聚碳酸酯或丙烯為例的樹脂形成,并且如圖所 示,基準(zhǔn)面3形成在覆蓋層的下表面?zhèn)?。在基?zhǔn)面3上,設(shè)置有凸凹截面形狀,其對應(yīng)于用于引導(dǎo)記錄和再現(xiàn)位置的引導(dǎo) 槽的形成。當(dāng)從盤平面的方向觀看時,引導(dǎo)槽形成為螺旋狀。弓丨導(dǎo)槽被形成為連續(xù)槽或凹槽行。例如,在引導(dǎo)槽是溝槽的情況下,通過以之字形 (擺動)方式周期性地形成溝槽,可以通過之字形的周期信息執(zhí)行地址信息的記錄。下文,將描述基準(zhǔn)面3被形成為其上記錄有地址信息的連續(xù)槽(擺動槽)。通過使用形成有凹凸形狀的壓模作為之字形引導(dǎo)槽(擺動槽)來將凹凸形狀轉(zhuǎn)印 至覆蓋層的下表面?zhèn)鹊淖⒛5葋硇纬筛采w層2。在覆蓋層2的凹凸形狀表面上形成選擇反 射膜,從而形成基準(zhǔn)面3。本文中,在與記錄介質(zhì)1有關(guān)的記錄模式中,獨立于用于對作為記錄層的大容量 層5執(zhí)行痕跡記錄的記錄光(下文,第一激光),另外照射伺服光(下文,第二激光),以獲 得基于基準(zhǔn)面3的跟蹤或聚焦的誤差信號。這時,如果第二激光到達(dá)大容量層5,那么存在第二激光不利地影響大容量層5中 的痕跡記錄的憂慮。為此,需要具有反射第二激光而允許第一激光穿過的選擇性的反射膜。在本實例的情況下,由于例如第一激光具有405nm的波長,第二激光具有660nm的 波長,所以它們是具有彼此不同的波長的激光。為了與此對應(yīng),作為選擇反射膜,使用具有反射具有與第二激光相同的波長帶的 光而允許其它波長的光穿過的波長選擇性的選擇反射膜。在基準(zhǔn)面3的下層側(cè)(當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時為內(nèi)側(cè)),形成大容量層5。作為形成大容量層5的材料(記錄材料),可以根據(jù)諸如負(fù)片型微全息照相模式 或空隙記錄模式的記錄方法采用合適的材料。例如,在空隙記錄模式的情況下,采用塑料材 料。關(guān)于大容量層5,對大容量層5的深度方向上預(yù)定的各位置,依次聚焦激光以通過 形成痕跡來執(zhí)行信息記錄。因此,在已經(jīng)完成記錄的記錄介質(zhì)1中,在大容量層5中形成多個記錄層L。在圖 中,如記錄層LO L(n)所示,形成多(n+1)個記錄層。盡管大容量層5的厚度尺寸等是不確定的,但是例如在考慮通過具有NA為0. 85 的光學(xué)系統(tǒng)照射藍(lán)激光(波長405nm)的情況下,適于在深度方向上距離盤表面(覆蓋層2 的表面)50 μ m 300 μ m的位置處形成記錄層。這是在考慮球面象差校正而確定的范圍。在圖1中,示出了在距離盤表面50μπι 300μπι的位置處形成記錄層的實例。當(dāng)然,當(dāng)層間隙變窄時,可以形成多(n+1)個記錄層L。此外,在各記錄層L中,在利用形成在基準(zhǔn)面3中的溝槽執(zhí)行跟蹤伺服的狀態(tài)下執(zhí) 行痕跡記錄。因此,當(dāng)從盤平面方向觀看時形成在記錄層L上的痕跡行被形成為螺旋狀。在大容量層5的下層側(cè)(當(dāng)從激光入射面觀看時為內(nèi)側(cè))上,形成傾斜檢測面4。傾斜檢測面4具有由溝槽或凹槽行形成的凹凸截面形狀。當(dāng)在盤面方向觀看時, 例如,溝槽或凹槽行形成為螺旋狀。通過凹凸形狀的反射膜的膜的形成來形成傾斜檢測面4。此外,不在傾斜檢測面4上記錄地址信息。傾斜檢測面可以具有單個的溝槽或凹 槽行。如稍后所描述的,用第一激光照射傾斜檢測面4,從而通過返回光來檢測傾斜量。傾斜檢測面4形成在例如距覆蓋層2的表面300 μ m的深度位置上。[1-2伺服控制]接下來,將基于圖2和3描述在記錄/再現(xiàn)以及稍后描述的傾斜校正期間施加給 作為大容量型光記錄介質(zhì)的記錄介質(zhì)1的伺服控制。如上所述,對于記錄介質(zhì)1,形成記錄痕跡,并且照射用于根據(jù)記錄痕跡執(zhí)行信息再現(xiàn)的第一激光和作為具有與第一激光不同的波長的伺服光的第二激光。盡管在下面圖5中進行描述,但是經(jīng)由共用物鏡(圖5中的物鏡21)將第一激光 和第二激光照射到記錄介質(zhì)1。這里,如圖1所示,在記錄介質(zhì)1的大容量層5上,不在作為記錄對象的各層位置 上形成具有由凹槽、溝槽等形成的引導(dǎo)槽的反射面,這與關(guān)于諸如以DVD(數(shù)字通用盤)或 藍(lán)光盤(商標(biāo))為例的光盤的現(xiàn)狀的多層光盤是不同的。為此,在尚未形成痕跡的記錄期 間,利用第一激光自身的反射光不可以執(zhí)行對第一激光的聚焦伺服或跟蹤伺服。從這點上,在對記錄介質(zhì)1進行記錄期間,利用作為伺服光的第二激光的反射光 來執(zhí)行對第一激光的跟蹤伺服和聚焦伺服。具體地,關(guān)于記錄期間的第一激光的聚焦伺服,首先,設(shè)置用于第一激光的聚焦機 構(gòu)(圖5中由透鏡17和18以及透鏡驅(qū)動部19組成的擴束器(expander)),該聚焦機構(gòu)能 夠獨立僅改變第一激光的聚焦位置。此外,基于以基準(zhǔn)面3為基準(zhǔn)的圖2中的偏移,通過控 制用于第一激光的聚焦機構(gòu)(擴束器)來執(zhí)行聚焦伺服。本文中,如上所述,經(jīng)由共用物鏡用第一激光和第二激光照射記錄介質(zhì)1。此外, 通過利用來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光(返回光)控制物鏡來執(zhí)行第二激光的聚焦伺 服。以此方式,經(jīng)由共用物鏡照射第一激光和第二激光,并且通過基于來自基準(zhǔn)面3 的第二激光的反射光控制物鏡來執(zhí)行第二激光的聚焦伺服,從而第一激光的聚焦位置基本 上追隨在基準(zhǔn)面3上。即,換句話說,通過基于來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光的物鏡的 聚焦伺服,對于與第一激光的聚焦位置有關(guān)的記錄介質(zhì)1的表面變動提供追隨功能。此外,通過上述的用于第一激光的聚焦機構(gòu),使第一激光的聚焦位置偏移了 (offset)偏移值of。結(jié)果,可以使第一激光的聚焦位置追隨大容量層5中所需的深度位 置。圖2示出與大容量層5中設(shè)定的信息記錄層LO L(n)的情形對應(yīng)的各偏移的實 例。即,示出了對應(yīng)于記錄層LO的層位置設(shè)定偏移of-LO、對應(yīng)于記錄層Ll的層位置設(shè)定 偏移of-Ll、...以及對應(yīng)于記錄層L(n)的層位置設(shè)定偏移of-L (η)的情況。通過利用偏移值of驅(qū)動用于第一激光的聚焦機構(gòu),可以在從作為記錄層LO的層 位置到作為記錄層L(n)的層位置之中適當(dāng)?shù)剡x擇在深度方向上形成痕跡的位置(記錄位 置)。此外,通過利用如上所述的經(jīng)由共用物鏡照射第一激光和第二激光的事實執(zhí)行使 用來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光的物鏡的跟蹤伺服,來執(zhí)行記錄期間對第一激光的跟 蹤伺服。此外,利用在基準(zhǔn)面3上形成其上記錄有地址信息的擺動槽的事實,從來自基準(zhǔn) 面3的第二激光的反射光信息取得記錄期間的地址信息的獲取。另一方面,在再現(xiàn)期間,如圖1所示,由于在大容量層5上形成記錄層L,所以可以 獲得來自記錄層L的第一激光的反射光。結(jié)果,在再現(xiàn)期間,可利用第一激光自身的反射光 來執(zhí)行對第一激光的聚焦伺服。具體地,通過基于第一激光的反射光控制上述用于第一激光的聚焦機構(gòu)來執(zhí)行再 現(xiàn)期間對第一激光的聚焦伺服。
此外,同樣在再現(xiàn)期間,通過基于第二激光的反射光執(zhí)行物鏡的跟蹤伺服來實現(xiàn) 第一激光的跟蹤伺服。本文中,同樣在再現(xiàn)期間,為了讀取記錄在基準(zhǔn)面3上的地址信息,執(zhí)行施加至基 準(zhǔn)面3的第二激光的聚焦伺服和跟蹤伺服。S卩,同樣在再現(xiàn)期間,以與記錄期間相同的方式,執(zhí)行物鏡的位置控制,以基于第 二激光的反射光來實現(xiàn)施加至基準(zhǔn)面3的第二激光的聚焦伺服和服蹤伺服??傊?,如下執(zhí)行第一實施方式的情形的伺服控制。第一激光側(cè)在記錄期間,通過利用第二激光的反射光驅(qū)動共用物鏡以及利用使用用于第一激 光的聚焦機構(gòu)(擴束器)提供的偏移來執(zhí)行聚焦伺服。通過利用第二激光的反射光驅(qū)動物鏡來自動地執(zhí)行跟蹤伺服。在再現(xiàn)期間,通過利用第一激光的反射光驅(qū)動用于第一激光的聚焦機構(gòu)(擴束 器)來執(zhí)行聚焦伺服。同樣在再現(xiàn)期間,通過利用第二激光的反射光驅(qū)動物鏡來自動地執(zhí)行第一激光的 跟蹤伺服。第二激光側(cè)在記錄期間和再現(xiàn)期間,通過利用第二激光的反射光驅(qū)動物鏡來執(zhí)行聚焦伺服和 跟蹤伺服。此外,在再現(xiàn)期間,在完成對預(yù)定地址的訪問并且實際開始記錄層L的再現(xiàn)之后, 可以不使用第二激光。即,由于其在已經(jīng)形成記錄痕跡行之后,所以可以基于來自記錄層L 的第一激光的反射光來執(zhí)行物鏡的聚焦伺服和跟蹤伺服,并且可以讀取記錄在記錄痕跡行 中的數(shù)據(jù)中的地址。接下來,將基于圖3來描述傾斜校正期間的伺服。在本實施方式中,如稍后描述的,在記錄和再現(xiàn)操作之前,改變記錄介質(zhì)1上的第 一激光和第二激光的入射光軸相對于記錄介質(zhì)1的傾斜狀態(tài),以執(zhí)行傾斜校正。具體地,可 以通過對傾斜方向上面向記錄介質(zhì)1的物鏡的驅(qū)動、對包括物鏡的光學(xué)拾取器的全體的驅(qū) 動、以及對裝載有記錄介質(zhì)1的軸機構(gòu)的驅(qū)動等來實現(xiàn)傾斜校正。即,可以采用能夠相對于 記錄介質(zhì)1的平面調(diào)整激光軸入射角度的方法。在本實施方式中,描述了驅(qū)動物鏡來執(zhí)行 傾斜校正的實例。如圖3所示,當(dāng)執(zhí)行傾斜校正時,對第二激光進行相對于基準(zhǔn)面3的聚焦控制。即, 通過利用來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光(返回光)控制物鏡來執(zhí)行第二激光的聚焦伺 服。此外,從來自傾斜檢測面4的第一激光的反射光(返回光)獲得用于傾斜校正的信息。同樣在這種情況下,通過基于來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光對物鏡進行聚焦 伺服,對于與第一激光的聚焦位置有關(guān)的記錄介質(zhì)1的表面變動可提供追隨功能。因此,通 過用于第一激光的聚焦機構(gòu)(擴束器),將第一激光的聚焦位置偏移了圖3所示的偏移值 of-TM。偏移of-TM是根據(jù)深度方向上基準(zhǔn)面3和傾斜檢測面4間的距離所設(shè)定的值。結(jié)果,可以使第一激光的聚焦位置能夠追隨大容量層5的內(nèi)側(cè)上的傾斜檢測面4。
此外,在想要在記錄介質(zhì)1上的特定位置上執(zhí)行傾斜校正的情況下(這是想要獲 取地址信息的情況),由于在基準(zhǔn)面3上形成其上記錄有地址信息的擺動槽,所以可以從 來自基準(zhǔn)面3的第二激光的反射光信息來獲得。本實施方式的記錄介質(zhì)1在大容量層5的內(nèi)側(cè)上設(shè)置傾斜檢測面4,從而基于第一 激光的反射光信息相對于傾斜檢測面4執(zhí)行傾斜校正。盡管稍后將描述,從來自傾斜檢測面4的反射光信息可獲得的推挽信號或RF信號 被設(shè)定為用于傾斜量檢測的信號。將描述在大容量層5的內(nèi)側(cè)上設(shè)置傾斜檢測面4的意圖。為了良好地執(zhí)行傾斜檢測,推挽信號或RF信號的電平波動相對于傾斜量很大是 適合的。即,如果在合適的傾斜狀態(tài)下,最大的推挽信號電平(振幅),推挽信號電平隨著傾 斜量增加而下降,那么推挽信號可以用作傾斜量檢測的信號。本文中,將考慮平行平板傾斜情況下的彗形象差。彗形象差由以下公式表示。(1/6) · {(Ν2-1)/(Ν3λ )} · NA3tan θ .t本文中,N是介質(zhì)折射率,θ是相對于記錄介質(zhì)平面的激光入射角,t是厚度,λ 是激光波長,以及NA是開口數(shù)。于是,光斑位置距離激光入射面的厚度t越大,以及NA越大,彗形象差就越大,從 而推挽信號的電平相應(yīng)地下降。為此,為了根據(jù)入射角θ來獲得振幅水平差,優(yōu)選高NA和的大的厚度t。在大容量層5的內(nèi)側(cè)設(shè)置傾斜檢測面4的原因是為了使厚度t變大。在這種情況 下,在圖ι所示的實例中,t = 300 μ m。圖4示出了徑向傾斜量與推挽信號電平之間的關(guān)系。t = 300 μ m,NA = 0. 85,以及 λ = 405nm 的情況是粗實線。t = 100 μ m,NA = 0. 85,以及 λ = 405nm 的情況是點劃線。t = 300 μ m, NA = 0. 65,以及 λ = 657nm 的情況是虛線。t = 50 μ m,NA = 0. 65,以及 λ = 657nm 的情況是細(xì)實線。從圖4可見,在低NA的情況(虛線和細(xì)實線)下或在薄的厚度t的情況(點劃線 和細(xì)實線)下,根據(jù)傾斜量的推挽信號電平的波動是微小的。在這種情況下,難以將推挽信 號電平的波動用作傾斜量的估計值。另一方面,在粗實線的情況下,當(dāng)在大的厚度t和大的NA狀態(tài)下使用λ = 405nm 的第一激光時,可以看出,根據(jù)傾斜量的振幅變化明顯地呈現(xiàn)在推挽信號電平上。本文中,雖然已經(jīng)描述了推挽信號電平,但是對于RF信號的電平波動同樣是成立 的。即,在本實例中,在大容量層5的內(nèi)側(cè)設(shè)置傾斜檢測面4增加了厚度t,從而利用推 挽信號電平等提高了傾斜檢測靈敏度。[1-3記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)]圖5示出了用于對圖1的記錄介質(zhì)1執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)裝置10 (記錄介 質(zhì)驅(qū)動裝置)的構(gòu)造。通過圖中的主軸電動機39旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動對記錄再現(xiàn)裝置10裝載的記錄介質(zhì)1。此外,在記錄再現(xiàn)裝置10中,設(shè)置用于使用第一激光和第二激光來照射以這種方式被旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì)1的光學(xué)拾取器0P。在光學(xué)拾取器OP中,設(shè)置第一激光二極管11,其是用于執(zhí)行通過形成記錄痕跡進 行的信息記錄以及執(zhí)行由記錄痕跡所記錄的信息的再現(xiàn)的第一激光的光源;以及第二激光 二極管12,其是伺服光的第二激光的光源。本文中,上述的第一激光和第二激光具有彼此不同的波長。在本實例的情況下,第 一激光的波長約為405nm(所謂的藍(lán)紫色激光),第二激光的波長約為660nm(紅色激光)。此外,在光學(xué)拾取器OP中,設(shè)置有物鏡21,其是用于記錄的記錄介質(zhì)1的第一激光 和第二激光的輸出端。物鏡21的NA為0. 85。此外,設(shè)置用于感測來自記錄介質(zhì)1的第一激光的反射光的第一光電檢測器25和 用于感測來自記錄介質(zhì)1的第二激光的反射光的第二光電檢測器34。在光學(xué)拾取器OP中,形成有光學(xué)系統(tǒng),該光學(xué)系統(tǒng)用于將從第一激光二極管11發(fā) 射的第一激光引導(dǎo)至物鏡21,以及將從記錄介質(zhì)1入射到物鏡21上的第一激光的反射光引 導(dǎo)至第一光電檢測器25。第一激光的路徑由實線來表示。首先,從第一激光二極管11發(fā)射的第一激光經(jīng)由準(zhǔn)直儀13變?yōu)槠叫泄猓⑶胰缓?入射至偏光分束器14。將偏光分束器14配置為允許經(jīng)由準(zhǔn)直儀13入射的第一激光穿過。已經(jīng)透過偏光分束器14的第一激光穿過液晶元件15和1/4波長板16。本文中,設(shè)置液晶元件15以執(zhí)行例如以彗形象差或象散象差為例的所謂的軸外 象差的校正。已穿過1/4波長板16的第一激光入射到包括透鏡17和18、以及透鏡驅(qū)動部19的 擴束器上。透鏡17是固定透鏡而透鏡18是可移動透鏡,以通過透鏡驅(qū)動部19在平行于第 一激光的光軸的方向上驅(qū)動透鏡18,從而對第一激光執(zhí)行獨立的聚焦控制。擴束器(透鏡驅(qū)動部19)在記錄期間基于控制器50的指令使第一激光的聚焦位 置移動,并且在再現(xiàn)期間基于來自第一激光聚焦伺服電路36的輸出信號執(zhí)行第一激光的 聚焦控制。已穿過擴束器的第一激光入射到分色鏡20上。將分色鏡20配置為使具有與第一 激光相同的波長段的光透過而反射其它波長的光。因此,入射到擴束器的第一激光透過分 色鏡20。因此,經(jīng)由物鏡21對記錄介質(zhì)1照射已透過分色鏡20的第一激光。對于物鏡21,設(shè)置調(diào)節(jié)器22,其將物鏡21保持為在聚焦方向(靠近以及遠(yuǎn)離記錄 介質(zhì)1)上和跟蹤方向(與聚焦方向垂直的方向記錄介質(zhì)1的徑向方向)上是可移動的。 此外,調(diào)節(jié)器22將物鏡21保持為在傾斜方向(相對于記錄介質(zhì)1的激光軸的傾斜方向) 上是可移動的。分別從第二激光聚焦伺服電路42和跟蹤伺服電路43向聚焦線圈和跟蹤線圈提供 驅(qū)動電流,從而調(diào)節(jié)器22使物鏡21分別在聚焦方向和跟蹤方向上位移。此外,從傾斜伺服電路37提供驅(qū)動電流,從而調(diào)節(jié)器22使物鏡21在傾斜方向上 位移。在再現(xiàn)期間,根據(jù)如上所述的第一激光對記錄介質(zhì)1的照射,可獲得來自記錄介質(zhì)1(具體地,在大容量層5中要進行再現(xiàn)的記錄層L)的第一激光的反射光。以這種方式 獲得的第一激光的反射光經(jīng)由物鏡21被引導(dǎo)至分色鏡20,并且透過分色鏡20。已透過分色鏡20的第一激光的反射光穿過構(gòu)成擴束器的透鏡17和透鏡18,然后 經(jīng)由1/4波長板16和液晶元件15入射至偏光分束器14。本文中,入射到偏光分束器14上的第一激光的反射光(回路光)被配置為,通過 1/4波長板16的作用和記錄介質(zhì)1的反射作用使其偏振方向與從第一激光二極管11側(cè)入 射至偏光分束器14的第一激光(去路光)的偏振方向相差90°。結(jié)果,如上所述入射的第 一激光的反射光被偏光分束器14反射。被偏光分束器14反射的第一激光的反射光被引導(dǎo)至圖中的聚光透鏡23側(cè)。此外, 反射光經(jīng)由聚光透鏡23和柱面透鏡M而會聚在第一光電檢測器25的檢測面上。此外,在光學(xué)拾取器OP中,還形成用于將從第二激光二極管12發(fā)射的第二激光引 導(dǎo)至物鏡21以及用于將從記錄介質(zhì)1入射到物鏡21上的第二激光的反射光引導(dǎo)至第二光 電檢測器34的光學(xué)系統(tǒng)。第二激光的路徑由虛線表示。如圖所示,從第二激光二極管12發(fā)射的第二激光通過準(zhǔn)直儀沈變成平行光,并且 入射至偏光分束器27。將偏光分束器27配置為使經(jīng)由準(zhǔn)直儀沈入射的第二激光(去路 光)透過。已透過偏光分束器27的第二激光經(jīng)由1/4波長板28以及透鏡四和30入射到分 色鏡20上。如上所述,分色鏡20被配置為使具有與第一激光相同的波長段的光透過而反射 其它波長的光。因此,如圖所示,第二激光被分色鏡20反射,并且經(jīng)由物鏡21照射到記錄 介質(zhì)1。此外,對應(yīng)于以這種方式第二激光對記錄介質(zhì)1的照射所獲得的第二激光的反射 光(來自基準(zhǔn)面3的反射光)經(jīng)由物鏡21被分色鏡20反射,并且穿過透鏡30和四以及 1/4波長板觀,然后入射到偏光分束器27。以與上述第一激光相同的方式,從記錄介質(zhì)1側(cè)入射的第二激光的反射光(回路 光)被配置為,通過1/4波長板觀的作用和記錄介質(zhì)1的反射作用使其偏振方向與去路光 的偏振方向相差90°。因此,作為回路光的第二激光的反射光被偏光分束器27反射。此外,被反射的第二激光的反射光被平面鏡31反射,并且經(jīng)由聚光透鏡四和柱面 透鏡33會聚在第二光電檢測器34的檢測面上。本文中,盡管省略了圖示描述,但是在記錄再現(xiàn)裝置10中,設(shè)置有用于在跟蹤方 向上滑動整個光學(xué)拾取器OP的滑動驅(qū)動部,從而通過滑動驅(qū)動部對光學(xué)拾取器OP的驅(qū)動 可以使激光的照射位置在大范圍內(nèi)位移。此外,在記錄再現(xiàn)裝置10中,設(shè)置有記錄處理部40、第一激光矩陣電路35、第一激 光聚焦伺服電路36、傾斜伺服電路37、再現(xiàn)處理部38、第二激光矩陣電路41、第二激光聚 焦伺服電路42、跟蹤伺服電路43、地址解碼器44、以及控制器50。首先,將要對記錄介質(zhì)1記錄的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))輸入到記錄處理部40。記錄處 理部40對所輸入的記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行誤差校正碼的添加或預(yù)定的記錄調(diào)制編碼,從而獲得記 錄調(diào)制數(shù)據(jù)行,其為要實際記錄在記錄介質(zhì)1上的二進制數(shù)據(jù)行“0”和“1”。
此外,基于記錄調(diào)制數(shù)據(jù)行執(zhí)行光策略(light strategy),從而產(chǎn)生激光驅(qū)動信 號。此外,將激光驅(qū)動信號提供給第一激光二極管11,從而執(zhí)行第一激光二極管11的發(fā)光 驅(qū)動。記錄處理部40對應(yīng)于來自控制器50的指令(控制信號CNT)執(zhí)行這種處理。第一激光矩陣電路35包括與來自作為第一光電檢測器25的多個感光元件的輸出 電流對應(yīng)的電流電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計算/放大電路等,從而通過矩陣計算處理產(chǎn)生所需 要的信號。具體地,產(chǎn)生對應(yīng)于再現(xiàn)信號的高頻信號(再現(xiàn)信號RF)、用于聚焦伺服控制的聚 焦誤差信號FE、用于傾斜伺服的推挽信號P/P等。本文中,在本實例的聚焦誤差信號FE中,存在兩種信號,即基于第一激光的反射 光的信號和基于第二激光的反射光的信號。下文中,為了將這兩種信號相互區(qū)分開,在第一 激光矩陣電路35中產(chǎn)生的聚焦誤差信號FE被稱作聚焦誤差信號FE-I。在第一激光矩陣電路35中產(chǎn)生的再現(xiàn)信號RF被提供給再現(xiàn)處理部38。此外,聚 焦誤差信號FE-I被提供給第一激光聚焦伺服電路36。推挽信號P/P被提供給傾斜伺服電 路37和第一激光聚焦伺服電路36。再現(xiàn)處理部38關(guān)于在第一激光矩陣電路35中產(chǎn)生的再現(xiàn)信號RF執(zhí)行用于恢復(fù) 記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)處理(諸如二進制處理、記錄調(diào)制碼的解碼和誤差校正處理等),從而獲得 再現(xiàn)的記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)數(shù)據(jù)。 此外,在再現(xiàn)期間,還執(zhí)行從再現(xiàn)數(shù)據(jù)中提取地址信息。地址信息被提供給控制器 50。此外,第一激光聚焦伺服電路36基于聚焦誤差信號FE-I產(chǎn)生聚焦伺服信號,并基 于聚焦伺服信號控制透鏡驅(qū)動部19的驅(qū)動,從而對第一激光執(zhí)行聚焦伺服控制。在記錄期間或傾斜校正期間,第一激光聚焦伺服電路36對應(yīng)于從控制器50提供 的指令(控制信號CNT)根據(jù)預(yù)定的偏移of (參見圖2和幻驅(qū)動透鏡驅(qū)動部19。此外,在再現(xiàn)期間,第一激光聚焦伺服電路36通過根據(jù)第一激光的反射光驅(qū)動透 鏡驅(qū)動部19來執(zhí)行第一激光的聚焦伺服控制。此外,在再現(xiàn)期間,第一激光聚焦伺服電路36執(zhí)行透鏡驅(qū)動部19的驅(qū)動控制,從 而對應(yīng)于從控制器50提供的指令(控制信號CNT)執(zhí)行形成在記錄介質(zhì)1上的記錄層L間 的層間躍變動作或?qū)λ枰男畔⒂涗浢鍸的聚焦伺服的引入。此外,在稍后描述的傾斜校正期間,第一激光聚焦伺服電路36還根據(jù)推挽信號P/ P執(zhí)行擴束器(透鏡驅(qū)動部19)的微小調(diào)整。傾斜伺服電路37向調(diào)節(jié)器22提供傾斜驅(qū)動信號,并且作為調(diào)節(jié)器22在傾斜方向 上進行的用于傾斜校正的動作驅(qū)動物鏡21。此外,利用要輸入的推挽信號P/P確定是否存 在最優(yōu)傾斜狀態(tài)。如圖4所述,推挽信號P/P在最優(yōu)的傾斜狀態(tài)下為最大的振幅水平。因此,傾斜伺 服電路37在傾斜方向上驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的同時執(zhí)行對推挽信號P/P的電平為最大化的傾斜 校正位置尋找的操作。傾斜伺服電路37基于來自控制器50的指令(控制信號CNT)執(zhí)行該操作。在本實 例的情況下,控制器50控制傾斜伺服電路37以在記錄操作或再現(xiàn)操作前執(zhí)行傾斜校正。
此外,在本實例中,描述了在傾斜校正中使用推挽信號P/P,但是利用再現(xiàn)信號RF 的電平或諸如波動值的另一指標(biāo)執(zhí)行傾斜狀態(tài)的確定。另一方面,關(guān)于第二激光側(cè),第二激光矩陣電路41包括對應(yīng)于來自作為第二光電 檢測器34的多個感光元件的輸出電流的電流電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計算/放大電路等,并且 通過矩陣計算處理產(chǎn)生需要的信號。具體地,第二激光矩陣電路41產(chǎn)生用于伺服控制的聚焦誤差信號FE-2、跟蹤誤差 信號TE、以及用于地址提取的推挽信號P/P。聚焦誤差信號FE-2被提供給第二激光聚焦伺服電路41,跟蹤誤差信號TE被提供 給跟蹤伺服電路43。推挽信號P/P被提供給地址解碼器44。第二激光聚焦伺服電路42基于聚焦誤差信號FE-2產(chǎn)生聚焦伺服信號,并且基于 聚焦伺服信號驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的聚焦線圈,從而執(zhí)行對物鏡21的聚焦伺服控制。如上所述, 在記錄和再現(xiàn)期間基于第二激光的反射光來執(zhí)行物鏡21的聚焦伺服控制。第二激光聚焦伺服電路42驅(qū)動聚焦線圈,使得對應(yīng)于來自控制器50控制信號CNT 執(zhí)行對形成在記錄介質(zhì)1上的基準(zhǔn)面3的聚焦伺服的引入。此外,聚焦伺服控制可以使用象散象差方法、SSD(光斑尺寸檢測)方法、差動象散
象差方法等。跟蹤伺服電路43基于來自第二激光矩陣電路41的跟蹤誤差信號TE產(chǎn)生跟蹤伺 服信號,并基于跟蹤伺服信號驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的跟蹤線圈。如上所述,在記錄和再現(xiàn)期間基 于第二激光的反射光來執(zhí)行物鏡21的跟蹤伺服控制此外,跟蹤伺服控制可以使用PP(推挽)方法、DPP(差動推挽式)方法等。地址解碼器44對輸入的推挽信號P/P中的地址信息執(zhí)行解碼。由于第二激光會聚在基準(zhǔn)面3上,所以其反射光具有形成在基準(zhǔn)面3上的擺動槽 的信息。第二激光矩陣電路41將擺動槽的信息作為推挽信號P/P提供給地址解碼器44。 地址解碼器44解碼推挽信號P/P中的地址信息以向控制器50提供地址信息??刂破?0由包括諸如CPU(中央處理單元)或R0M(只讀存儲器)的存儲器(存 儲裝置)的微型計算機構(gòu)成,并且根據(jù)存儲在例如ROM等中的程序執(zhí)行處理。此外,控制器 50提供各部分所需要的控制信號CNT、從而執(zhí)行對記錄再現(xiàn)裝置10的總體控制。在記錄期間,控制器50基于圖2所示的對應(yīng)于各層位置所設(shè)定的偏移值of,執(zhí)行 第一激光的聚焦位置的控制(深度方向上記錄位置的選擇)。即,控制器50通過指示第一 激光聚焦伺服電路36基于對應(yīng)于要進行記錄的層位置設(shè)定的偏移值of驅(qū)動透鏡驅(qū)動部 19,來在深度方向上執(zhí)行記錄位置的選擇。偏移值of存儲在控制器50中的ROM、閃存等中。通過設(shè)定偏移值of_L0 of-L (η),來設(shè)定記錄介質(zhì)1中各記錄層LO L (η)的位置。如上所述,在記錄期間基于第二激光的反射光來執(zhí)行跟蹤伺服控制。為此,在記錄 期間,控制器50指示跟蹤伺服電路43基于跟蹤誤差信號TE執(zhí)行跟蹤伺服控制。此外,在記錄期間,控制器50指示第二激光聚焦伺服電路42基于聚焦誤差信號 FE-2執(zhí)行聚焦伺服控制(對物鏡21的聚焦伺服控制)。另一方面,在再現(xiàn)期間,控制器50對第一激光聚焦伺服電路36進行指示,從而使第一激光聚焦到記錄要被再現(xiàn)的數(shù)據(jù)的記錄層L。即,對于第一激光,控制器50執(zhí)行以記錄 層L為對象的聚焦伺服控制。此外,同樣在再現(xiàn)期間,控制器50通過跟蹤伺服電路43基于跟蹤誤差信號TE執(zhí) 行跟蹤伺服控制。此外,在再現(xiàn)期間,控制器50通過第二激光聚焦伺服電路42基于聚焦誤差信號 FE-2執(zhí)行聚焦伺服控制(物鏡21的聚焦控制)。[1-4傾斜校正處理]將描述通過記錄再現(xiàn)裝置10執(zhí)行的傾斜校正處理。控制器50控制各部分以在例如記錄操作和再現(xiàn)操作之前執(zhí)行傾斜校正。圖6是在由記錄再現(xiàn)裝置10執(zhí)行記錄操作前的傾斜校正處理的流程圖。將各步 驟的操作配置成基于控制器50的指令來執(zhí)行各部分。首先,作為步驟F101,相對于傾斜檢測面4執(zhí)行第一激光的聚焦控制。在這種情況下,第二激光聚焦伺服電路42控制調(diào)節(jié)器22,使得第二激光通過物鏡 21聚焦在基準(zhǔn)面3上。此外,第一激光聚焦伺服電路36驅(qū)動擴束器的透鏡驅(qū)動部19,使得 可以獲得圖3的偏移of-TM。結(jié)果,第一激光在傾斜檢測面4上受到聚焦控制。然而,在這種情況下,由于第一激光僅使用偏移of-TM進行聚焦控制,由于厚度誤 差達(dá)到記錄介質(zhì)1的傾斜檢測面4,所以不能準(zhǔn)確的說這就是最優(yōu)的聚焦?fàn)顟B(tài)。因此,作為步驟F102,執(zhí)行第一激光聚焦伺服電路36中的聚焦偏移調(diào)整或擴束器 的微小調(diào)整,使得輸入至第一激光聚焦伺服電路36的推挽信號P/P的電平最大化。此外, 可以檢測此時的再現(xiàn)信號RF,從而執(zhí)行調(diào)整以使再現(xiàn)信號RF最大。當(dāng)在步驟FlOl和F102中完成聚焦控制時,接下來,在步驟F103和F104中,通過 傾斜伺服電路37執(zhí)行校正操作。首先,在步驟F103中,傾斜伺服電路37確認(rèn)要輸入的推挽信號P/P的電平,從而 檢測傾斜量。此外,傾斜量還可以根據(jù)再現(xiàn)信號RF的抖動來檢測傾斜量。此外,在步驟F104中,根據(jù)傾斜量來驅(qū)動調(diào)節(jié)器22,從而在傾斜方向上驅(qū)動物鏡 21。 在那個狀態(tài)下,在步驟F105中,第一激光聚焦伺服電路36再次執(zhí)行聚焦偏移調(diào)整 和擴束器的微小調(diào)整。此外,確認(rèn)推挽信號P/P的電平是否是最大。即,確認(rèn)作為表示傾斜量指標(biāo)的推挽 信號P/P的電平,從而確認(rèn)傾斜量是否為最優(yōu)( 零)。這時,如果傾斜量=零(或在預(yù)定允許的范圍內(nèi)),則傾斜校正完成且處理前進至 步驟F106。另一方面,如果傾斜量不是零或不在預(yù)定允許的范圍內(nèi),那么處理返回至步驟 F103以繼續(xù)傾斜校正。即,傾斜伺服電路37在那時再次根據(jù)推挽信號P/P的電平檢測傾斜 量,從而根據(jù)傾斜量在傾斜方向上驅(qū)動物鏡21。重復(fù)該處理直到在步驟F105中傾斜量=零(或在預(yù)定允許的范圍內(nèi))。在步驟F105中已經(jīng)完成傾斜校正之后,在步驟F106中開始進行記錄。在這種情 況下,第二激光通過第二激光聚焦伺服電路42在基準(zhǔn)面3上經(jīng)受聚焦控制,并且跟蹤伺服 電路43執(zhí)行跟蹤控制。
此外,對于第一激光,第一激光聚焦伺服電路36控制擴束器(透鏡驅(qū)動部19),從 而給出對應(yīng)于要進行記錄的記錄層L的深度位置的偏移of (參見圖2)。在這種狀態(tài)下,根據(jù)從第二激光的返回光獲得的地址信息,確認(rèn)記錄介質(zhì)1上的 絕對位置,從而從預(yù)定的地址開始利用第一激光進行的痕跡記錄。如上所述,根據(jù)第一實施方式,通過在記錄開始之前執(zhí)行傾斜校正,在消除第一激 光和第二激光之間的光斑偏差的狀態(tài)下執(zhí)行記錄。因此,利用擺動槽而記錄在基準(zhǔn)面3上的地址信息與記錄層L中的記錄信息之間 的對應(yīng)關(guān)系變?yōu)樽顑?yōu)。結(jié)果,在地址信息記錄在基準(zhǔn)面3上的記錄介質(zhì)1中,在大容量層5 上沒有地址信息的情況下,實現(xiàn)了在大容量層5上的正確記錄。此外,甚至在再現(xiàn)期間,期望執(zhí)行與圖6的步驟FlOl F105相同的傾斜校正。結(jié) 果,基于從基準(zhǔn)面3獲得的地址信息,正確地執(zhí)行對再現(xiàn)位置的訪問。<2.第二實施方式>[2-1光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)]接下來,將描述第二實施方式在圖7中示出了第二實施方式的光記錄介質(zhì)(記錄介質(zhì)1A)的截面結(jié)構(gòu)。以與第一實施方式的記錄介質(zhì)1相同的方式,記錄介質(zhì)IA同樣是盤狀光記錄介 質(zhì),并且對要被旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì)IA執(zhí)行激光照射以執(zhí)行痕跡記錄(信息記錄)。此 外,通過對要被旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì)IA照射激光來執(zhí)行記錄信息的再現(xiàn)。此外,例如,在負(fù)片型微全息照相模式、空隙記錄模式等下,用于伺服和用于記錄 的兩個系統(tǒng)的激光從記錄介質(zhì)IA的一面?zhèn)冗M行照射,從而對大容量層執(zhí)行信息記錄。圖2的記錄介質(zhì)IA是大容量型光記錄介質(zhì),并且在厚度方向上從激光入射面起依 次形成有覆蓋層2、大容量層5、以及基準(zhǔn)及傾斜檢測面6。記錄介質(zhì)IA與第一實施方式的記錄介質(zhì)1的不同之處在于,未在覆蓋層2與大容 量層5之間設(shè)置基準(zhǔn)面3,而大容量層5的內(nèi)側(cè)處的基準(zhǔn)及傾斜檢測面6具有基準(zhǔn)面功能和 傾斜檢測面功能的雙重功能。覆蓋層2或大容量層5與第一實施方式的記錄介質(zhì)1相同。在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上,設(shè)置有凹凸截面形狀。當(dāng)從盤平面的方向觀看時,凹凸 形狀形成為螺旋狀。此外,在凹凸形狀上形成反射膜。通過連續(xù)槽或凹槽行來形成凹凸形狀。例如,在溝槽的情況下,通過以周期的之字 形(擺動)方式形成溝槽,來利用之字形的周期信息記錄地址信息。下文中,將描述基準(zhǔn) 及傾斜檢測面6被形成為其上記錄有地址信息的連續(xù)槽(擺動槽)。關(guān)于大容量層5,將激光依次地聚焦到大容量層5在深度方向上的各預(yù)定位置,從 而通過形成痕跡來執(zhí)行信息記錄。因此,在已經(jīng)完成記錄的記錄介質(zhì)IA中,在大容量層5中形成多個記錄層L。在圖 中,如由記錄層LO L(n)所示,形成多(n+1)個記錄層。盡管大容量層5的厚度尺寸等是不確定的,但是例如在考慮通過NA為0. 85的光 學(xué)系統(tǒng)照射藍(lán)色激光(波長405nm)的情況下,適于在深度方向上距離盤表面(覆蓋層2的 表面)50μπι 300μπι的位置上形成記錄層。這是考慮到球面象差校正所確定的范圍。在 圖7中,示出了在距離盤表面50 μ m 300 μ m的位置上形成記錄層的實例。
此外,為此,基準(zhǔn)及傾斜檢測面6形成在距離覆蓋層2的表面300 μ m的深度位置上。此外,在各記錄層L中,在使用形成在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上的溝槽進行跟蹤伺服 的狀態(tài)下執(zhí)行痕跡記錄。因此,當(dāng)從盤平面觀看時,形成在記錄層L上的痕跡行被形成為螺 旋狀。[2-2伺服控制]將參照圖8和圖9來描述記錄和再現(xiàn)期間以及傾斜校正期間以記錄介質(zhì)IA為對 象的伺服控制。在第二實施方式的情況下,對于記錄介質(zhì),照射通過一個激光二極管形成而被分 割成光學(xué)系統(tǒng)中的兩個系統(tǒng)的路徑的藍(lán)色激光(例如,405nm)。盡管將在圖10中對其進行描述,但是第一路激光用于形成記錄痕跡以及根據(jù)記 錄痕跡執(zhí)行信息再現(xiàn),而第二路激光用于伺服。盡管稍后將在圖10中對其進行描述,但是第一路激光和第二路激光在光學(xué)系統(tǒng) 路徑上彼此是分離的,然后再被引導(dǎo)至共用物鏡(圖10中物鏡21),從而從物鏡21照射至 記錄介質(zhì)1A。在記錄介質(zhì)IA的大容量層5中,在要進行記錄的每層位置上不形成具有由凹槽、 溝槽等構(gòu)成的引導(dǎo)槽的反射面。為此,在尚未形成痕跡的記錄期間,難以利用第一激光自身 的反射光執(zhí)行對第一路激光的聚焦伺服或跟蹤伺服。因此,在記錄介質(zhì)IA的記錄期間,利用作為伺服光的第二路激光的反射光執(zhí)行對 第一路激光的跟蹤伺服和聚焦伺服。具體地,關(guān)于記錄期間的第一路激光的聚焦伺服,首先,設(shè)置能夠獨立僅改變第一 路激光的聚焦位置的第一路激光聚焦機構(gòu)(由圖10中的透鏡55和56以及透鏡驅(qū)動部57 組成的擴束器)。此外,如圖8所示,基于使用基準(zhǔn)及傾斜檢測面6作為基準(zhǔn)的偏移of,通 過控制第一路激光的聚焦機構(gòu)(擴束器)來執(zhí)行聚焦伺服。如上所述,第一路激光和第二路激光經(jīng)由共用物鏡照射至記錄介質(zhì)1A。此外,通過 利用來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光(返回光)控制物鏡來執(zhí)行第二路激 光的聚焦伺服。以此方式,經(jīng)由共用物鏡照射第一路激光和第二路激光,并且通過基于來自基準(zhǔn) 及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光控制物鏡來執(zhí)行第二路激光的聚焦伺服,從而第一 路激光的聚焦位置基本上追隨基準(zhǔn)及傾斜檢測面6。換句話說,通過基于來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光的物鏡的聚 焦伺服,對于與第一路激光的聚焦位置有關(guān)的記錄介質(zhì)IA的平面變化提供追隨功能。此外,通過上述的第一路激光聚焦機構(gòu),使第一路激光的聚焦位置偏移了偏移值 of。結(jié)果,可以使第一路激光的聚焦位置追隨大容量層5中所需的深度位置。圖8示出了與大容量層5中設(shè)定的信息記錄層LO L(n)的情形對應(yīng)的各偏移的 實例。即,示出了對應(yīng)于記錄層LO的層位置設(shè)定偏移of-LO、對應(yīng)于記錄層Ll的層位置設(shè) 定偏移of-Ll、...以及對應(yīng)于記錄層L(n)的層位置設(shè)定偏移of-L (η)的情況。通過利用偏移值of驅(qū)動第一路激光的聚焦機構(gòu),可以在從作為記錄層LO的層位 置到作為記錄層L(n)的層位置之中適當(dāng)選擇在深度方向上形成痕跡的位置(記錄位置)。
此外,通過利用如上所述的經(jīng)由共用物鏡照射第一路激光和第二路激光的事實, 執(zhí)行使用來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光的物鏡的跟蹤伺服,來實現(xiàn)記錄 期間對第一路激光的跟蹤伺服。此外,利用在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上形成其上記錄有地址信息的擺動槽的事實, 從來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光信息取得記錄期間的地址信息的獲取。另一方面,在再現(xiàn)期間,如圖7所示,由于在大容量層5上形成記錄層L,所以可以 獲得來自記錄層L的第一路激光的反射光。結(jié)果,在再現(xiàn)期間,可利用第一路激光自身的反 射光來執(zhí)行對第一路激光的聚焦伺服。具體地,通過基于第一路激光的反射光控制上述第一路激光的聚焦機構(gòu)來執(zhí)行再 現(xiàn)期間對第一路激光的聚焦伺服。此外,同樣在再現(xiàn)期間,通過基于第二路激光的反射光執(zhí)行物鏡的跟蹤伺服來實 現(xiàn)第一路激光的跟蹤伺服。本文中,同樣在再現(xiàn)期間,為了讀取記錄在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上的地址信息,執(zhí) 行以基準(zhǔn)及傾斜檢測面6為對象的第二路激光的聚焦伺服和跟蹤伺服。即,同樣在再現(xiàn)期間,以與記錄期間相同的方式,執(zhí)行物鏡的位置控制,以基于第 二路激光的反射光實現(xiàn)以基準(zhǔn)及傾斜檢測面6為對象的第二路激光的聚焦伺服和跟蹤伺 服。接下來,將基于圖9描述傾斜校正期間的伺服。同樣在該第二實施方式中,在記錄和再現(xiàn)操作之前,改變記錄介質(zhì)IA上的第一路 和第二路激光的入射光軸相對于記錄介質(zhì)IA的傾斜狀態(tài)以執(zhí)行傾斜校正。作為實例,通過 在傾斜方向上驅(qū)動物鏡來執(zhí)行傾斜校正。如圖9所示,當(dāng)執(zhí)行傾斜校正時,第二路激光相對于基準(zhǔn)及傾斜檢測面6經(jīng)受聚焦 控制。即,通過利用來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光(返回光)控制物鏡 來執(zhí)行第二路激光的聚焦伺服。此外,沒有特別限定第一路激光。用于傾斜校正的信息從來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光(返回 光)獲得。此外,在想要在記錄介質(zhì)IA上的特定位置上執(zhí)行傾斜校正的情況下(這是想要獲 取地址信息的情況),由于在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上形成其上記錄有地址信息的擺動槽,所 以可以從來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的第二路激光的反射光信息來獲得地址信息。第二實施方式的記錄介質(zhì)IA同樣在大容量層5的內(nèi)側(cè)上設(shè)置基準(zhǔn)及傾斜檢測面 6,并且基于第二路激光的反射光信息相對于基準(zhǔn)及傾斜檢測面6執(zhí)行傾斜校正。執(zhí)行大容 量層5的內(nèi)側(cè)上的用于傾斜校正的基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的設(shè)置,以可以使從覆蓋層2的表 面到基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的厚度t盡可能的大。即,以與第一實施方式的傾斜檢測面4的情況相同的方式,其是為了使從反射光 信息獲得的推挽信號或RF信號成為用于傾斜控制的更可取的信號,從而提高傾斜檢測敏 感度(參見圖4及其描述)。[2-3記錄再現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)]圖10示出了用于對圖7的記錄介質(zhì)IA執(zhí)行記錄和再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)裝置IOA(記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置)的構(gòu)造。通過圖中的主軸電動機39旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動對記錄再現(xiàn)裝置IOA裝載的記錄介質(zhì)1A。此外,在記錄再現(xiàn)裝置IOA中,設(shè)置用于使用第一路激光和第二路激光照射以這 種方式旋轉(zhuǎn)和驅(qū)動的記錄介質(zhì)IA的光學(xué)拾取器0P。在光學(xué)拾取器OP中,設(shè)置第一激光二極管51,其輸出具有約405nm波長的藍(lán)紫激光。來自激光二極管51的激光被分割為光學(xué)系統(tǒng)中的第一路徑和第二路徑。第一路 激光用在通過形成記錄痕跡執(zhí)行的信息記錄中以及由記錄痕跡記錄的信息的再現(xiàn)中,第二 路激光用在通過驅(qū)動物鏡21執(zhí)行的聚焦伺服、跟蹤伺服、以及傾斜校正中。此外,作為至記錄介質(zhì)IA的第一路激光和第二路激光的輸出端的物鏡21的NA是 0. 85。此外,設(shè)置有用于感測來自記錄介質(zhì)IA的第一路激光的反射光的第一光電檢測 器70和用于感測來自記錄介質(zhì)IA的第二路激光的反射光的第二光電檢測器67。第一路激光的路徑由實線來表示,第二路激光的路徑由虛線來表示。首先,從激光二極管51發(fā)射的激光經(jīng)由準(zhǔn)直儀52變?yōu)槠叫泄猓缓笕肷涞狡夥?束器53 ο偏光分束器53通過偏振分割入射激光。例如,偏光分束器53使P偏振分量穿過, 而將S偏振分量反射。偏光分束器53的穿過分量(例如,P偏振分量)變?yōu)榈谝宦芳す?。第一路激光通過液晶元件M執(zhí)行諸如以彗形象差或象散象差為例的所謂的軸外 象差的校正。已通過液晶元件M的第一路激光入射到包括透鏡55和56、以及透鏡驅(qū)動部57的 擴束器上。透鏡56是固定透鏡而透鏡55是可移動透鏡,從而通過透鏡驅(qū)動部57在平行 于第一路激光的光軸方向上驅(qū)動透鏡55,從而擴束器對第一路激光執(zhí)行獨立的聚焦控制。擴束器(透鏡驅(qū)動部57)在記錄期間基于控制器50的指令使第一路激光的聚焦 位置移動,并且在再現(xiàn)期間基于來自第一路激光聚焦伺服電路73的輸出信號執(zhí)行第一路 激光的聚焦控制。已通過擴束器的第一路激光入射到具有預(yù)定反射率的分束器58上,并且一部分 第一路激光穿過。此外,第一路激光穿過1/4波長板71,并且經(jīng)由物鏡21照射至記錄介質(zhì) 1A。物鏡21通過調(diào)節(jié)器22保持為在聚焦方向、跟蹤方向、以及傾斜方向上是可移動 的。調(diào)節(jié)器22利用來自第二路聚焦伺服電路76、跟蹤伺服電路43、以及傾斜伺服電路 37的驅(qū)動電流使物鏡21在各方向上位移。在再現(xiàn)期間,根據(jù)如上所述的第一路激光對記錄介質(zhì)IA的照射,可獲得來自記錄 介質(zhì)IA(具體地,大容量層5中要進行再現(xiàn)的記錄層L)的第一路激光的反射光。以這種方 式獲得的第一路激光的反射光經(jīng)由物鏡21和1/4波長板71被引導(dǎo)至分束器58,并且其一 部分穿過分束器58。穿過分束器58的第一路激光的反射光經(jīng)由構(gòu)成擴束器的透鏡56和透鏡55以及液晶元件M入射至偏光分束器53。本文中,以這種方式入射到偏光分束器53的第一路激光的反射光(回路光)被配 置為,通過1/4波長板71的作用和記錄介質(zhì)IA的反射作用使其偏振方向與第一路激光的 去路光的偏振方向相差90°。結(jié)果,如上所述入射的第一路激光的反射光被偏光分束器53 反射。被偏光分束器53反射的第一路激光的反射光經(jīng)由聚光透鏡68和柱面透鏡69會 聚在第一光電檢測器70的檢測面上。另一方面,第二路激光為如下。在從激光二極管51發(fā)射的激光中,被偏光分束器53反射的分量(例如,S偏振分 量)變?yōu)榈诙芳す?。第二路激光被引?dǎo)至偏光分束器59。同樣在偏光分束器59中,以與偏光分束器 53相同的方式,例如通過反射S偏振分量,第二路激光被引導(dǎo)至液晶元件60側(cè)。此外,在通 過液晶元件60經(jīng)受象差校正之后,第二路激光入射至包括透鏡61和62以及透鏡驅(qū)動部63 的擴束器。透鏡62是固定透鏡而透鏡61是可移動透鏡,從而通過透鏡驅(qū)動部63在平行于 第二路激光的光軸方向上驅(qū)動透鏡61,從而擴束器對第二路激光執(zhí)行獨立的聚焦控制。已通過擴束器的第二路激光被平面鏡64反射并入射到分束器58上,其一部分被 反射。此外,第二路激光穿過1/4波長板71,并且經(jīng)由物鏡21照射至記錄介質(zhì)1A。此外,對應(yīng)于第二路激光以此方式對記錄介質(zhì)IA的照射而獲得的第二路激光的 反射光(來自基準(zhǔn)及傾斜檢測面6的反射光)經(jīng)由物鏡21和1/4波長板71后被分束器58 部分反射。此外,反射光經(jīng)由平面鏡、透鏡62和61以及液晶元件60入射到偏光分束器59 上。這時,以與第一路激光的情況相同的方式,第二路激光的反射光(回路光)被配置 為,通過1/4波長板71的作用和記錄介質(zhì)IA的反射作用使得其偏振方向與去路光的偏振 方向相差90°。結(jié)果,作為回路光的第二路激光的反射光穿過偏光分束器59。此外,穿過偏光分束器59的第二路激光的回路光經(jīng)由聚光透鏡65和柱面透鏡66 會聚在第二光電檢測器67的檢測面上。此外,在本實例的情況下,由于回路光被具有預(yù)定透射率的分束器58分割,所以 存在第一路徑的回路光中還混合有部分第二路徑的回路光的情況。然而,由于第二路徑的 回路光例如為P偏振分量,所以其穿過偏光分束器53。因此,僅第一路激光的回路光分量入 射至第一光電檢測器70。類似地,存在第二路徑的回路光中還混合有部分第一路徑的回路光的情況。然而, 由于第一路徑的回路光為例如S偏振分量,所以其被偏光分束器59和53反射。因此,僅第 二路激光的回路光分量入射至第二光電檢測器67。此外,在記錄再現(xiàn)裝置IOA中,設(shè)置有記錄處理部40、第一路矩陣電路72、第一路 聚焦伺服電路73、傾斜伺服電路37、再現(xiàn)處理部38、第二路矩陣電路75、第二路聚焦伺服電 路76、跟蹤伺服電路43、地址解碼器44、以及控制器50。首先,將要對記錄介質(zhì)IA記錄的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))輸入到記錄處理部40。記錄處 理部40對所輸入的記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行誤差校正碼的添加或預(yù)定的記錄調(diào)制編碼,從而獲得記 錄調(diào)制數(shù)據(jù)行,其是要實際記錄在記錄介質(zhì)IA上的二進制數(shù)據(jù)行“0”和“ 1 ”。
此外,基于記錄調(diào)制數(shù)據(jù)行執(zhí)行光策略,從而產(chǎn)生激光驅(qū)動信號。此外,將激光驅(qū) 動信號提供給激光二極管51,從而執(zhí)行激光二極管51的發(fā)光驅(qū)動。第一路矩陣電路72包括與來自作為第一光電檢測器70的多個感光元件的輸出電 流對應(yīng)的電流電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計算/放大電路等,從而通過矩陣計算處理產(chǎn)生所需要 的信號。具體地,產(chǎn)生對應(yīng)于再現(xiàn)信號的高頻信號(再現(xiàn)信號RF)、以及用于聚焦伺服控制 的聚焦誤差信號FE-I。在第一路矩陣電路72中產(chǎn)生的再現(xiàn)信號RF被提供給再現(xiàn)處理部38。此外,聚焦 誤差信號FE-I被提供給第一路聚焦伺服電路73。再現(xiàn)處理部38關(guān)于在第一路矩陣電路72中產(chǎn)生的再現(xiàn)信號RF執(zhí)行用于恢復(fù)如 上所述的記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)處理(諸如二進制處理、記錄調(diào)制碼的解碼和誤差校正處理等), 從而獲得再現(xiàn)的記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)數(shù)據(jù)。此外,在再現(xiàn)期間,還執(zhí)行從再現(xiàn)數(shù)據(jù)中提取地址信息。地址信息被提供給控制器 50。此外,第一路聚焦伺服電路73基于聚焦伺服信號FE-I產(chǎn)生聚焦伺服信號,并且基 于聚焦伺服信號控制透鏡驅(qū)動部57的驅(qū)動,從而對第一路激光執(zhí)行聚焦伺服控制。在記錄期間,第一路激光聚焦伺服電路73基于由控制器50指示的偏移of (參見 圖8)執(zhí)行透鏡驅(qū)動部57的驅(qū)動控制。此外,在再現(xiàn)期間,第一路聚焦伺服電路73執(zhí)行透 鏡驅(qū)動部57的驅(qū)動控制,從而對應(yīng)于來自控制器50的指令執(zhí)行形成在記錄介質(zhì)IA上的記 錄層L間的層間躍變動作或?qū)λ挠涗浢鍸的聚焦伺服的引入。另一方面,關(guān)于第二路激光側(cè),第二路矩陣電路75包括與來自作為第二光電檢測 器67的多個感光元件的輸出電流對應(yīng)的電流電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計算/放大電路等,并且 通過矩陣計算處理產(chǎn)生所需要的信號具體地,第二路矩陣電路75產(chǎn)生用于伺服控制的聚焦誤差信號FE-2、跟蹤誤差信 號TE、以及用于地址提取或傾斜校正的推挽信號P/P。聚焦誤差信號FE-2被提供給第二路聚焦伺服電路76,并且跟蹤誤差信號TE被提 供給跟蹤伺服電路43。推挽信號P/P被提供給地址解碼器44、傾斜伺服電路37、以及第二 路聚焦伺服電路76。第二路聚焦伺服電路76基于聚焦誤差信號FE-2產(chǎn)生聚焦伺服信號,并且基于聚 焦伺服信號驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的聚焦線圈,從而執(zhí)行對物鏡21的聚焦伺服控制。在記錄和再 現(xiàn)期間基于第二路激光的反射光執(zhí)行物鏡21的聚焦伺服控制。此外,第二路聚焦伺服電路76甚至可通過驅(qū)動透鏡驅(qū)動部63執(zhí)行獨立于第一路 激光的第二路激光的聚焦伺服。第二路聚焦伺服電路76適當(dāng)?shù)仳?qū)動調(diào)節(jié)器22和透鏡驅(qū)動部63中的一個或兩個, 使得對應(yīng)于來自控制器50的控制信號CNT執(zhí)行至形成在記錄介質(zhì)IA上的基準(zhǔn)及傾斜檢測 面6的聚焦伺服的引入。此外,第二路聚焦伺服電路76在傾斜校正期間還根據(jù)推挽信號P/P控制擴束器 (透鏡驅(qū)動部63)。跟蹤伺服電路43基于來自第二路矩陣電路75的跟蹤誤差信號TE產(chǎn)生跟蹤伺服信號,并且基于跟蹤伺服信號驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的跟蹤線圈。在記錄和再現(xiàn)期間基于第二路激 光的反射光來執(zhí)行物鏡21的跟蹤伺服控制。地址解碼器44對輸入的推挽信號P/P中的地址信息執(zhí)行解碼。由于第二激光會聚在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上,所以其反射光具有形成在基準(zhǔn)及傾 斜檢測面6上的擺動槽的信息。第二路矩陣電路75將擺動槽的信息作為推挽信號P/P提供給地址解碼器44。地 址解碼器44解碼推挽信號P/P中的地址信息,從而向控制器50提供地址信息。傾斜伺服電路37向調(diào)節(jié)器22提供傾斜驅(qū)動信號,并且作為調(diào)節(jié)器22在傾斜方向 上進行的用于傾斜校正的動作驅(qū)動物鏡21。此外,利用要輸入的推挽信號P/P,確定是否存 在最優(yōu)的傾斜狀態(tài)。即,傾斜伺服電路37在傾斜方向上驅(qū)動調(diào)節(jié)器22的同時執(zhí)行對推挽 信號P/P的點評為最大化的傾斜校正位置尋找的操作。傾斜伺服電路37基于來自控制器50的控制信號CNT執(zhí)行操作??刂破?0控制 傾斜伺服電路37以在記錄操作或再現(xiàn)操作前執(zhí)行傾斜校正。 如圖5所描述的,控制器50提供各部分需要的控制信號CNT,從而執(zhí)行對記錄再現(xiàn) 裝置IOA的總體控制。例如,在記錄期間,控制器50基于圖8所示的對應(yīng)于各層位置所設(shè)定的偏移值of, 執(zhí)行第一路激光的聚焦位置的控制(深度方向上記錄位置的選擇)。即,控制器50通過基 于對應(yīng)于要進行記錄的層位置設(shè)定的偏移值of指示第一路激光聚焦伺服電路73驅(qū)動透鏡 驅(qū)動部57,來執(zhí)行深度方向上的記錄位置的選擇。偏移值of存儲在控制器50的ROM、閃存等中。通過偏移值of_L0 of_L (η)值的 設(shè)定,設(shè)定記錄介質(zhì)IA中各記錄層LO L(n)的位置。此外,由于在記錄期間基于第二路激光的反射光執(zhí)行跟蹤伺服控制,所以在記錄 期間,控制器50指示跟蹤伺服電路43基于跟蹤誤差信號TE執(zhí)行跟蹤伺服控制。此外,在記錄期間,控制器50指示第二路聚焦伺服電路76基于聚焦誤差信號FE_2 執(zhí)行聚焦伺服控制(對物鏡21的聚焦伺服控制)。此外,盡管沒有示出,但在記錄再現(xiàn)裝置IOA中,設(shè)置有用于在跟蹤方向上以滑動 方式滑動整個光學(xué)拾取器OP的滑動驅(qū)動部。[2-4傾斜校正處理]將描述通過記錄再現(xiàn)裝置IOA執(zhí)行的傾斜校正處理??刂破?0控制各部分以在例如記錄操作和再現(xiàn)操作之前執(zhí)行傾斜校正。圖11是在通過記錄再現(xiàn)裝置IOA執(zhí)行記錄操作前的傾斜校正處理的流程圖。將 各步驟的操作配置成基于控制器50的指令來執(zhí)行每一部分。首先,作為步驟F201,相對于基準(zhǔn)及傾斜檢測面6執(zhí)行第二路激光的聚焦控制。在這種情況下,第二路聚焦伺服電路76控制調(diào)節(jié)器22,使得第二路激光通過物鏡 21而會聚在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上。接下來,作為步驟F202,執(zhí)行第二路聚焦伺服電路76中的聚焦偏移調(diào)整或通過第 二路徑的擴束器(透鏡驅(qū)動部63)的驅(qū)動的微小調(diào)整,使得輸入至第二路聚焦伺服電路76 的推挽信號P/P的電平最大。此外,可以檢測此時的再現(xiàn)信號RF,從而執(zhí)行調(diào)整以使再現(xiàn)信 號RF最大。
接下來,在步驟F203和F204中,通過傾斜伺服電路37執(zhí)行校正操作。首先,在步驟F203中,傾斜伺服電路37確認(rèn)要輸入的推挽信號P/P的電平,從而 檢測傾斜量。此外,傾斜量還可以根據(jù)再現(xiàn)信號RF的抖動來檢測。此外,在步驟F204中,根據(jù)傾斜量來驅(qū)動調(diào)節(jié)器22,從而在傾斜方向上驅(qū)動物鏡 21。在那個狀態(tài)下,在步驟F205中,第二路聚焦伺服電路76再次執(zhí)行聚焦偏移調(diào)整和 擴束器的微小調(diào)整。此外,確認(rèn)推挽信號P/P的電平是否是最大。即,確認(rèn)作為表示傾斜量指標(biāo)的推挽 信號P/P的電平,從而確認(rèn)傾斜量是否為最優(yōu)( 零)。這時,如果傾斜量=零(或在預(yù)定允許的范圍內(nèi)),則傾斜校正完成且處理前進至 步驟F206。另一方面,如果傾斜量不是零或不在預(yù)定允許的范圍內(nèi),那么處理返回到步驟 F203以繼續(xù)傾斜校正。即,傾斜伺服電路37在那時再次根據(jù)推挽信號P/P的電平檢測傾斜 量,從而根據(jù)傾斜量在傾斜方向上驅(qū)動物鏡21。重復(fù)該處理直到在步驟F205中傾斜量=零(或在預(yù)定允許的范圍內(nèi))。在步驟F205中已經(jīng)完成傾斜校正之后,在步驟F206中開始進行記錄。在這種情 況下,第二路激光通過第二路聚焦伺服電路76在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上經(jīng)受聚焦控制,并 且跟蹤伺服電路43執(zhí)行跟蹤控制。此外,關(guān)于第一路激光,第一路聚焦伺服電路73控制第一路徑的擴束器(透鏡驅(qū) 動部57),從而給出對應(yīng)于要進行記錄的記錄層L的深度位置的偏移(參見圖8)。在這種狀態(tài)下,根據(jù)從第二路激光的返回光獲得的地址信息,確認(rèn)記錄介質(zhì)IA上 的絕對位置,從而從預(yù)定的地址開始利用第一路激光進行的痕跡記錄。如上所述,通過在記錄開始之前執(zhí)行傾斜校正,在消除第一路激光和第二路激光 之間的光斑偏差的狀態(tài)下執(zhí)行記錄。因此,通過擺動槽而記錄在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上的地址信息與記錄層L中的記 錄信息之間的對應(yīng)關(guān)系變?yōu)樽顑?yōu)。結(jié)果,在地址信息記錄在基準(zhǔn)及傾斜檢測面6上的記錄 介質(zhì)IA中,在大容量層5上沒有地址信息的情況下,實現(xiàn)了在大容量層5上的正確記錄。此外,甚至在再現(xiàn)期間,期望執(zhí)行與圖11的步驟F201 F205相同的傾斜校正。結(jié) 果,基于從基準(zhǔn)及傾斜檢測面6獲得的地址信息,正確地執(zhí)行對再現(xiàn)地址的訪問。盡管上述已經(jīng)描述了一些實施方式,但是本發(fā)明不局限于這些實施方式。例如,如第一實施方式的記錄介質(zhì)1的構(gòu)造,沒有必要在盤狀記錄介質(zhì)1的整個區(qū) 域上形成傾斜檢測面4。即,如果指定了用于執(zhí)行傾斜檢測的徑向位置,那么可以在徑向位 置上設(shè)置傾斜檢測面4。此外,在第一實施方式中,還可以將傾斜檢測面4的溝槽構(gòu)造為其上記錄有地址 信息的擺動槽或凹槽行,并且在傾斜檢測期間僅使用第一激光。本申請包含于2009年12月4日向日本專利局提交的日本優(yōu)先權(quán)專利中請JP 2009-276318中公開的相關(guān)主題,其全部內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,根據(jù)設(shè)計要求和其它因素,可以進行各種修改、組合、 子組合和替換,只要它們在所附權(quán)利要求書或其等同物的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì),包括大容量層,在所述大容量層上通過激光照射記錄光記錄信息,并且在所述大容量層上 形成其上記錄有光記錄信息的多個記錄層;以及傾斜檢測面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時,所述傾斜檢測面形成在所述大容量層的內(nèi)側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),還包括基準(zhǔn)面,當(dāng)從所述激光入射面?zhèn)扔^看時,具有包含地址信息的溝槽的所述基準(zhǔn)面形成 在所述大容量層的正面?zhèn)取?br>
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述傾斜檢測面被形成為具有地址信息的溝槽或凹槽行。
4.一種光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,包括光學(xué)拾取器,對光記錄介質(zhì)從一個物鏡照射第一激光和第二激光,其中所述光記錄介 質(zhì)包括大容量層,在所述大容量層上通過激光照射記錄光記錄信息,并且在所述大容量層 上形成其上記錄有光記錄信息的多個記錄層;以及傾斜檢測面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時, 所述傾斜檢測面形成在所述大容量層的內(nèi)側(cè);聚焦控制部,對所述第一激光和所述第二激光中的每一個執(zhí)行相對于所述光記錄介質(zhì) 的各預(yù)定位置的聚焦控制;跟蹤控制部,控制所述物鏡的位置以執(zhí)行所述第一激光和所述第二激光對所述光記錄 介質(zhì)的跟蹤控制;以及傾斜控制部,基于來自所述傾斜檢測面的所述第一激光或所述第二激光的激光的返回 光的信息,改變至所述光記錄介質(zhì)的所述第一激光和所述第二激光的入射光軸相對于所述 光記錄介質(zhì)的傾斜狀態(tài),從而執(zhí)行傾斜校正。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,其中,在所述光記錄介質(zhì)中,設(shè)置形成有包含地址信息的溝槽的基準(zhǔn)面,當(dāng)從所述激光 入射面?zhèn)扔^看時,所述基準(zhǔn)面在所述大容量層的正面?zhèn)?,其中,所述第一激光和所述第二激光是具有彼此不同波長的激光,其中所述第一激光 具有短波長,其中,當(dāng)執(zhí)行所述傾斜校正時,在已經(jīng)對所述第二激光執(zhí)行相對于所述基準(zhǔn)面的聚焦 控制的狀態(tài)下,所述聚焦控制部對所述第一激光執(zhí)行相對于所述傾斜檢測面的聚焦控制, 以及其中,所述傾斜控制部基于來自所述傾斜檢測面的所述第一激光的返回光的信息執(zhí)行 所述傾斜校正。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置, 其中,當(dāng)對所述光記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄時,在已經(jīng)執(zhí)行所述傾斜校正的狀態(tài)下,所述聚焦控制部對所述第二激光執(zhí)行相對于所述基準(zhǔn)面的聚焦控制,并且所述跟蹤控 制部基于來自所述基準(zhǔn)面的所述第二激光的返回光的信息執(zhí)行所述跟蹤控制,以及所述聚焦控制部在已經(jīng)執(zhí)行至記錄層形成位置的所述第一激光的聚焦控制的狀態(tài)下, 執(zhí)行通過所述第一激光進行的所述光記錄信息的記錄。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,其中,當(dāng)對所述光記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄時,從來自所述基準(zhǔn)面的所述第二激光的返回光 的信息獲得所述地址信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,其中,所述光記錄介質(zhì)中的所述傾斜檢測面被形成為具有所述地址信息的溝槽或凹槽行,其中,所述第一激光和所述第二激光是具有相同波長的激光,其中,當(dāng)執(zhí)行所述傾斜校正時,所述聚焦控制部對所述第二激光執(zhí)行相對于所述傾斜 檢測面的聚焦控制,以及其中,所述傾斜控制部基于來自所述傾斜檢測面的所述第二激光的返回光的信息執(zhí)行 所述傾斜校正。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置, 其中,當(dāng)對所述光記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄時,在已經(jīng)執(zhí)行所述傾斜校正的狀態(tài)下,所述聚焦控制部對所述第二激光執(zhí)行相對于所述傾斜檢測面的聚焦控制, 所述跟蹤控制部基于來自所述傾斜檢測面的所述第二激光的返回光的信息執(zhí)行所述 跟蹤控制,以及所述聚焦控制部在已經(jīng)對所述第一激光執(zhí)行相對于所述記錄層形成位置的聚焦控制 的狀態(tài)下,執(zhí)行通過所述第一激光進行的所述光記錄信息的記錄。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,其中,當(dāng)對所述光記錄介質(zhì)執(zhí)行記錄時,從來自所述傾斜檢測面的所述第二激光的返 回光的信息獲得所述地址信息。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置,其中,所述傾斜控制部基于作為來自所述傾斜檢測面的返回光的信息的推挽信號、或 RF信號的抖動執(zhí)行所述傾斜校正。
12.—種光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置的光記錄介質(zhì)驅(qū)動方法,所述光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置包括光學(xué)拾取器,對光記錄介質(zhì)從一個物鏡照射第一激光和第二激光,其中所述光記錄介 質(zhì)包括大容量層,在所述大容量層上通過激光照射記錄光記錄信息,并且在所述大容量層 上形成其上記錄有光記錄信息的多個記錄層;以及傾斜檢測面,當(dāng)從激光入射面?zhèn)扔^看時, 所述傾斜檢測面形成在所述大容量層的內(nèi)側(cè);聚焦控制部,對所述第一激光和所述第二激光中的每一個執(zhí)行相對于所述光記錄介質(zhì) 的各預(yù)定位置的聚焦控制;跟蹤控制部,控制所述物鏡的位置以執(zhí)行所述第一激光和所述第二激光對所述光記錄 介質(zhì)的跟蹤控制;以及其中,基于來自所述傾斜檢測面的所述第一激光或所述第二激光的返回光的信息,改 變至所述光記錄介質(zhì)的所述第一激光和所述第二激光的入射光軸相對于所述光記錄介質(zhì) 的傾斜狀態(tài),從而執(zhí)行傾斜校正。
全文摘要
本發(fā)明提供光記錄介質(zhì)、光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置及光記錄介質(zhì)驅(qū)動方法,其中,光記錄介質(zhì)驅(qū)動裝置包括光學(xué)拾取器,對光記錄介質(zhì)從一個物鏡照射第一激光和第二激光,其中光記錄介質(zhì)包括大容量層以及傾斜檢測面;聚焦控制部,對第一激光和第二激光中的每一個執(zhí)行相對于光記錄介質(zhì)的各預(yù)定位置的聚焦控制;跟蹤控制部,控制物鏡的位置以執(zhí)行第一激光和第二激光對所述光記錄介質(zhì)的跟蹤控制;以及傾斜控制部。
文檔編號G11B7/09GK102087867SQ20101056173
公開日2011年6月8日 申請日期2010年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月4日
發(fā)明者久保毅, 宮本浩孝, 齊藤公博 申請人:索尼公司