光記錄介質的制作方法
【專利說明】
[0001] 相關申請的交叉引用
[0002] 本申請要求于2013年4月1日提交的日本優(yōu)先權專利申請JP 2013-076277的權 益，在這里將其整個內容通過引用合并于此。
技術領域
[0003] 本技術涉及光記錄介質。特別地，本技術涉及提供有多個再現層的光記錄介質。
【背景技術】
[0004] 光盤（CD)、數字多用途盤（DVD)等已經主導了迄今為止的光記錄介質的市場。但 是，隨著近年來高清晰度電視的普及和由個人計算機（PC)處理的數據的快速增長，已經需 要光記錄介質的容量的進一步提高。為了響應于這種需要，已經出現了與模糊激光（blur laser)兼容的高容量光記錄介質，比如藍光盤（BD)(注冊商標），且新的高容量光記錄介質 的市場已經啟動。
[0005] 已經廣泛地采用了提供多個記錄層以進一步增加比如DVD和BD之類的高密度光 記錄介質中的記錄容量的技術。特別地，提供有三個或更多記錄層的多層光記錄介質的開 發(fā)近年來已在進步。
[0006] 但是，如果提供多個記錄層，則由于層間散射光而導致信號特性惡化。具體來說， 如果提供三個或更多記錄層，來自除了意圖從中讀取信息信號的記錄層之外的其他部分的 散射光增加，因此信號特性特別顯著地惡化。
[0007] 為此原因，已經為現有技術中的多層光記錄介質尋找了有效地抑制散射光的影響 并增強信號特性的技術。專利文獻1和2公開了通過設置信息記錄層之間的間隔物的厚度 以滿足預定關系，來除去由散射光所引起的多次反射的影響的技術。
[0008] 引文列表
[0009] 專利文獻
[0010] 日本未審查專利申請公開No. 2006-59433
[0011] 日本未審查專利申請公開No. 2011-198410

【發(fā)明內容】

[0012] 發(fā)明所要解決的技術問題
[0013] 期望提供能夠抑制由于層間散射光導致的信號特性惡化的光記錄介質。
[0014] 解決技術問題的手段
[0015] 根據本技術的實施例，提供了光記錄介質，包括：三個再現層，其中，在受到再現光 照射的表面一側上的所述三個再現層的反射率RU R2和R3等于或者大于5%，且其中，從 所述反射率RU R2和R3中選出的任意兩個反射率之間的差值delta R的絕對值等于或者 小于7%。
[0016] 根據本技術，因為在受到再現光照射的表面一側上的三個再現層的反射率RU R2 和R3等于或者大于5%，所以可以抑制由于反射率的惡化導致的信號特性的惡化。另外，因 為從反射率Rl、R2和R3中選出的任意兩個反射率之間的差值delta R的絕對值等于或者 小于7%，所以可以抑制由于來自具有高反射率的再現層的散射光對于由具有低反射率的 再現層反射的光造成的影響而導致的信號特性的惡化。
[0017] 根據本技術，反射率R1、R2和R3是當具有405nm的波長的光垂直地入射到三個再 現層的表面時的反射率。
[0018] 根據本技術，再現層是包括提供有多個凹陷部分和凸起部分的平面的層，從而預 先記錄信息信號。通過以光照射提供有凹陷部分和凸起部分的凹凸表面，讀取信息信號。
[0019] 根據本技術，優(yōu)選地在襯底上提供三個再現層，且在三個再現層上提供覆蓋層。不 特別限制覆蓋層的厚度，且覆蓋層包括襯底、薄片、涂層等。對于高密度信息記錄介質，考慮 到具有高NA的物鏡的使用而優(yōu)選采用比如薄片或者涂層之類的薄光透射層作為覆蓋層， 以及采用其中通過從光透射層一側以光照射信息記錄介質來再現信息信號的構造。在這種 情況下，也可以采用不透明襯底。根據信息記錄介質的格式，覆蓋層側和襯底側上的至少一 個表面被適當地設置為用于再現信息信號的光入射表面。
[0020] 本發(fā)明的有益效果
[0021] 根據本技術，可以如上所述地抑制由于層間散射光導致的信號特性的惡化。
【附圖說明】
[0022] 圖IA是示出了根據本技術實施例的光記錄介質的外觀的實例的透視圖。
[0023] 圖IB是示出了根據本技術的實施例的光記錄介質的構造的實例的截面圖。
[0024] 圖2是示出了參考例1-1到1-7中的光記錄介質的反射率和信號特性的評估結果 的圖。
[0025] 圖3是示出了在實例2-1到2-4和比較例2-1到2-3中光記錄介質的反射率和信 號特性的差異的評估結果的圖。
[0026] 圖4是示出了實例3-1到3-3中光記錄介質的加速測試之前和之后的信號特性評 估結果的圖。
[0027] 圖5是示出了參考例4-1到4-6中樣本的折射系數η和消光系數k的測量結果的 圖。
[0028] 圖6A是示出了實例5-1到5-4中光記錄介質的信號特性評估結果的圖。
[0029] 圖6B是示出了實例5-1到5-4中光記錄介質的反射率評估結果的圖。
[0030] 圖7A是示出了參考例6-1中通過模擬獲得的反射光譜的圖。
[0031] 圖7B是示出了參考例6-1中通過模擬獲得的透射光譜的圖。
[0032] 圖8A是示出了參考例6-2中通過模擬獲得的反射光譜的圖。
[0033] 圖8B是示出了參考例6-2中通過模擬獲得的透射光譜的圖。
[0034] 圖9A是示出了實例7-1-1到7-1-3和7-2-1到7-2-3中光記錄介質的信號特性 評估結果的圖。
[0035] 圖9B是示出了實例7-1-1到7-1-3和7-2-1到7-2-3中光記錄介質的不對稱評 估結果的圖。
【具體實施方式】
[0036] 將按以下次序描述本技術的實施例。
[0037] 1.光記錄介質的構造
[0038] 2.光記錄介質的光特性
[0039] 3.用于制造光記錄介質的方法
[0040] 〈1.光記錄介質的構造〉
[0041] 如圖IA所示，根據本技術實施例的光記錄介質10具有盤形狀，在盤中心提供有開 口（在下文中稱為"中心孔"）。另外，光記錄介質10的形狀不限于該實例，可以是卡形狀 等。
[0042] 如圖IB所示，根據本技術實施例的光記錄介質10具有如下構造，其中在襯底11 的表面上按以下次序層疊作為第一再現層的反射層L0、中間層S1、作為第二再現層的反射 層LU中間層S2、作為第三再現層的反射層L2和作為覆蓋層的光透射層12。在下面的描述 中，如果不特別地區(qū)分反射層LO到L2,則反射層LO到L2可被統(tǒng)稱為反射層。
[0043] 根據本實施例的光記錄介質10是所謂的多層再現專用光記錄介質，且通過從光 透射層12 -側的表面C以激光照射各個反射層LO到L2來再現信息信號。例如，通過例如 由具有在等于或者大于〇. 84且等于或者小于0. 86的范圍內的數值孔徑的物鏡會聚具有等 于或者大于400nm且等于或者小于410nm的范圍內的波長的激光，并從光透射層12 -側以 所會聚的激光照射各個反射層LO到L2,來再現信息信號。這種光記錄介質10的實例包括 多層再現專用藍光盤（注冊商標）。在下文中，為了使反射層LO到L2再現信息信號而受到 激光照射的表面C將被稱為光照射表面C。
[0044] 在下文中，將順序地描述構成光記錄介質10的襯底11、反射層LO到L2、中間層Sl 和S2和光透射層12。
[0045] 襯底
[0046] 襯底11例如具有盤形狀，在盤中心提供有中心孔。襯底11的主表面是凹凸表面， 在該凹凸表面上形成反射層LO的膜。該凹凸表面由突起（Iand)Ila和多個凹坑（pit)llb 構成。多個凹坑Ilb在襯底11的表面上構成同心陣列（所謂的軌道）或者螺旋陣列。凹 坑Ilb可以是相對于突起Ila具有凹陷形狀的凹坑（內-凹坑）或者相對于突起Ila具有 凸起形狀的凹坑（上-凹坑）。圖IB示出了包括相對于突起Ila具有凹陷形狀的凹坑Ilb 的襯底11的實例。
[0047] 例如，選擇具有120mm的尺寸（直徑）的襯底11?？紤]到剛性而選擇襯底11的厚 度，優(yōu)選地選擇具有等于或者大于0. 3mm且等于或者小于I. 3mm的厚度的襯底11，更優(yōu)選地 選擇具有等于或者大于〇. 6mm且等于或者小于I. 3mm的厚度的襯底11，且例如，選擇具有 I. Imm的厚度的襯底11。例如選擇具有15mm的尺寸（直徑）的中心孔。
[0048] 例如可以使用塑料材料或者玻璃作為襯底11的材料，且從成本的觀點優(yōu)選地使 用塑料材料。作為塑料材料，可以使用聚碳酸酯樹酯、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂等。
[0049] 反射層
[0050] 反射層LO到L2是能夠通過受到激光照射而再現信息信號的反射層（再現專用記 錄層）。反射層LO到L2具有相對于405nm的波長和0. 85.的會聚透鏡數值孔徑NA的等于 或者大于25GB的記錄容量。通過反射層Ll和L2讀取來自反射層LO的信息信號，通過反 射層L2讀取來自反射層LI的信息信號，且因此，反射一部分激光且透射其余的激光的透明 層用作反射層Ll和L2。
[0051] 優(yōu)選地，反射層LO和Ll包括金屬作為主要成分。這里，半金屬也包括在所述金屬 中。作為金屬，可以單獨地使用從包括Al、Ag、Au、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、Ge等的 組中選出的一種，或者使用包含該組中的兩種或更多種金屬的合金。在該組當中，就實際應 用而言特別優(yōu)選的是，使用基于A1、基于Ag、基于Au、基于Si或者基于Ge的材料。作為合 金，優(yōu)選地使用 Al-Ti、Al-Cr、Al-Cu、Al-Mg-Si、Ag-Nd-Cu、Ag-Pd-Cu、Ag-Pd-Ti、Si-B 等。 優(yōu)選地，考慮到光特性而在這些材料當中確定材料。例如，如果考慮到短波長區(qū)域中的高反 射率，則優(yōu)選地使用基于Al或者基于Ag的材料。作為反射層LO和Ll中包含的材料，可以 考慮到需要的信號特性而使用不同材料。例如，Al合金可以用作包含在反射層LO中的材 料，而Ag合金可以用作包含在反射層Ll中的材料。
[0052] 如果反射層LO包含比如Al合金之類的金屬作為主要成分，則反射層LO的膜厚度 優(yōu)選地在等于或者大于15nm且等于或者小于25nm的范圍內。如果反射層LO的膜厚度小 于15nm，則容易發(fā)生比如腐蝕之類的缺陷，且可靠性惡化。另外，由于膜厚度的減小而導致 的反射率惡化也會引起信號特性的退化。相反地，反射層LO的膜厚度增加至超過25nm不具 有任何優(yōu)點。也就是，如果從反射率和可靠性的觀點來看反射層LO具有足夠厚度（例如， 從大約15nm到大約25nm)，則進一步增加厚度僅造成制造時間的增加和材料成本的增加。
[0053] 當反射層Ll包含比如Ag合金之類的金屬作為主要成分時，反射層Ll的膜厚度優(yōu) 選地在等于或者大于15nm且等于或者小于23nm的范圍內。如果反射層Ll的膜厚度小于 15nm，則容易發(fā)生比如腐蝕之類的缺陷，且可靠性惡化。另外，由于膜厚度的減小而導致反 射率的惡化也會引起信號特性的退化。相反地，如果反射層Ll的膜厚度超過23nm，則反射 層LO的反射率由于透射率的減小而減小。因此，反射層LO的信號特性顯著地退化。
[0054] 在反射層L0、Ll和L2當中最接近光照射表面C的位置，提供反射層L2。反射層 L2例如包含金屬、金屬氧化物或者金屬氮化物作為主要成分，且優(yōu)選地反射層L2包含這些 材料之中的金屬氧化物或者金屬氮化物作為主要成分。如果反射層L2包含金屬氧化物或 者金屬氮化物作為主要成分，則可以增強光記錄介質10的可靠性。另外，也可以通過反射 層Ll和L2之間的電池效應抑制反射層Ll和L2的特性的退化。作為金屬氧化物或者金屬 氮化物，例如，可以使用電介質體。
[0055] 作為金屬氧化物，例如，可以使用從包括W、Fe、Ti、In、Zn、Sn、Al、Si、Ge、Ti、 Ga、Ta、Nb、Hf、Zr、Cr、Bi和Mg的組中選出的一種或多種元素的金屬氧化物，且優(yōu)選地 使用從包括W、Fe、Ti、In、Sn、Si和Zr的組中選出的一種或多種元素的金屬氧化物。這 是由于通過使用這種金屬氧化物、并調整其成分，可以將反射層L2的折