專利名稱：頭懸架組件和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用對(duì)光進(jìn)行會(huì)聚后的點(diǎn)光在記錄介質(zhì)中記錄再現(xiàn)各種信息的頭懸 架組件(head gimbal assembly)和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置。本申請(qǐng)根據(jù)2008年7月23日在日本提出的日本特愿2008-189692號(hào)以及2009 年1月沈日在日本提出的日本特愿2009-014487號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，并在此引用它們的內(nèi)容。
背景技術(shù)：
近年來，按照希望進(jìn)行更大量且高密度信息的記錄再現(xiàn)等的需要，計(jì)算機(jī)設(shè)備中 的硬盤等記錄介質(zhì)(以下稱為盤)要求進(jìn)一步的高密度化。因此，為了將相鄰磁區(qū)彼此的 影響和熱擾動(dòng)抑制為最小限度，開始采用頑磁力強(qiáng)的材料作為盤。因此，難以在盤中記錄信 肩、ο因此，為了消除上述不良情況，提供如下的混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置 利用對(duì)光進(jìn)行會(huì)聚后的點(diǎn)光、或?qū)膺M(jìn)行會(huì)聚后的近場(chǎng)光，對(duì)磁區(qū)進(jìn)行局部加熱，使頑磁力 暫時(shí)降低，在該期間進(jìn)行針對(duì)盤的寫入。特別地，在利用近場(chǎng)光的情況下，能夠?qū)υ诂F(xiàn)有光 學(xué)系統(tǒng)中成為極限的光的波長以下的區(qū)域中的光學(xué)信息進(jìn)行處理。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)超越現(xiàn) 有的光信息記錄再現(xiàn)裝置等的記錄比特的高密度化。作為上述混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置，提供了各種裝置，但是，作為其中 之一，公知有如下的信息記錄再現(xiàn)裝置向近場(chǎng)光頭供給用于生成近場(chǎng)光的光，由此，從微 小開口生成足夠大的近場(chǎng)光，能夠?qū)崿F(xiàn)超高分辨率的再現(xiàn)記錄、高速記錄再現(xiàn)、高SN比化。 該信息記錄再現(xiàn)裝置使具有近場(chǎng)光頭的滑塊在盤上進(jìn)行掃描，將滑塊配置在盤上的期望位 置。然后，使從光源放射的近場(chǎng)光與從滑塊產(chǎn)生的記錄磁場(chǎng)協(xié)作，由此，能夠在盤中記錄信 肩、ο這里，作為向近場(chǎng)光頭供給光束的結(jié)構(gòu)，例如如專利文獻(xiàn)1所示，公知有如下結(jié) 構(gòu)在滑塊的基端側(cè)連接光纖等的光波導(dǎo)，經(jīng)由該光波導(dǎo)將從光源出射的光束引導(dǎo)到近場(chǎng) 光頭。專利文獻(xiàn)1 日本特開2001-297463號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-323908號(hào)公報(bào)但是，在上述信息記錄再現(xiàn)裝置中，公知有如下結(jié)構(gòu)將近場(chǎng)光頭配置在滑塊的前 端面(流出端)側(cè)，以使盤面與近場(chǎng)光頭之間的距離更加接近。但是，該情況下，存在如下 問題在滑塊的基端面(流入端)側(cè)連接了光波導(dǎo)后，難以將光波導(dǎo)引導(dǎo)到滑塊的前端面 側(cè)。即，為了引導(dǎo)光波導(dǎo)，需要從滑塊的基端側(cè)到前端側(cè)，實(shí)施復(fù)雜的加工或者配置導(dǎo)光部 件，所以，存在加工工序數(shù)和制造成本增加、制造效率低的問題。這樣，在使用光波導(dǎo)將光束導(dǎo)入近場(chǎng)光頭的情況下，如何將光波導(dǎo)引導(dǎo)到近場(chǎng)光 頭成為問題。因此，例如如專利文獻(xiàn)2所示，公知有如下技術(shù)利用具有近場(chǎng)光頭的近場(chǎng)光元件 基板和具有鏡面的鏡基板來構(gòu)成滑塊。該情況下，在鏡基板上形成將光波導(dǎo)引導(dǎo)到近場(chǎng)光頭的槽等，由此，不對(duì)近場(chǎng)光元件基板實(shí)施加工，就能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)引導(dǎo)到近場(chǎng)光頭。但是，除了近場(chǎng)光元件基板以外還使用鏡基板，由此，存在制造成本增加，并且，由 于使用2個(gè)基板，所以滑塊的板厚增加，滑塊大型化的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明正是考慮這樣的情況而完成的，其目的在于，提供如下的頭懸架組件 和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置在滑塊內(nèi)容易地將光波導(dǎo)配置到點(diǎn)光產(chǎn)生元 件，由此，能夠降低加工成本和制造成本并提高制造效率。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明提供以下手段。本發(fā)明的頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質(zhì)的表面延伸設(shè)置，并且能夠 在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質(zhì)的表面相對(duì)的方式配置在所述懸浮體 的前端側(cè)；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質(zhì)的相反側(cè)，在繞與所述記錄介 質(zhì)的表面平行且彼此垂直的2個(gè)軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導(dǎo)，其與所 述滑塊連接，將從光源出射的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述滑塊具有由所述光束產(chǎn)生點(diǎn)光的點(diǎn) 光產(chǎn)生元件，通過所述點(diǎn)光在所述記錄介質(zhì)中記錄信息，所述頭懸架組件的特征在于，在所 述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導(dǎo)與所述滑塊的定位的具有平坦面的定位 部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，僅通過在平坦面與滑塊的位置對(duì)準(zhǔn)的狀態(tài)下將定位部 固定在滑塊上，就能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)固定在滑塊上，所以，光波導(dǎo)與滑塊的位置對(duì)準(zhǔn)和固定變得
各易ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)具有芯部，其在全反射條件 下引導(dǎo)從所述光源出射的所述光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料 構(gòu)成，與所述芯部密接來對(duì)所述芯部進(jìn)行密封，所述定位部與所述包層一體形成。在本發(fā)明的頭懸架組件中，與包層一體形成定位部，由此，在形成光波導(dǎo)時(shí)不用新 設(shè)置用于形成定位部的工序，能夠在與以往相同的工序中形成定位部。因此，能夠提高制造 效率。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)的至少一部分具有芯部，其 在全反射條件下引導(dǎo)從所述光源出射的所述光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折 射率低的材料構(gòu)成，與所述芯部密接來對(duì)所述芯部進(jìn)行密封，在所述包層的外周面，以覆蓋 所述包層的方式，與所述包層分體設(shè)置所述定位部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，僅構(gòu)成為在現(xiàn)有的光波導(dǎo)中設(shè)置定位部，所以，即使在 滑塊的外形由于各種滑塊而不同的情況下，通過變更定位部的外形，就能夠容易地與該外 形對(duì)應(yīng)。即，在針對(duì)各種滑塊來安裝光波導(dǎo)時(shí)，根據(jù)各滑塊的外形來形成定位部，由此，能夠 在滑塊上固定光波導(dǎo)，而不依賴于光波導(dǎo)的形狀。因此，能夠減少安裝工序數(shù)，并容易地固 定在滑塊上。并且，僅構(gòu)成為在光波導(dǎo)中設(shè)置定位部，所以，能夠?qū)崿F(xiàn)構(gòu)造的簡化，并降低制 造成本。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平坦面的至少一部分設(shè)于所述光波 導(dǎo)，并且，與所述滑塊和所述支承部的至少一方相對(duì)。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平坦面的一部分形成于光波導(dǎo)，該平坦面與滑塊和支承部的至少一方相對(duì)，所以，使用該平坦面也能夠容易地固定光波導(dǎo)。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述定位部具有收納所述光波導(dǎo)的導(dǎo)向 槽，所述光波導(dǎo)在所述導(dǎo)向槽內(nèi)被引導(dǎo)到所述點(diǎn)光產(chǎn)生元件。在本發(fā)明的頭懸架組件中，在滑塊上配置定位部，由此，僅通過在形成于定位部的 導(dǎo)向槽內(nèi)配置光波導(dǎo)，就能夠在滑塊上定位并固定光波導(dǎo)，所以，光波導(dǎo)與滑塊的位置對(duì)準(zhǔn) 和固定變得容易。并且，分體構(gòu)成定位部和光波導(dǎo)，由此，能夠根據(jù)用途來固定各種光波導(dǎo)， 所以，能夠提高設(shè)計(jì)的自由度。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)的至少一部分包含漸變折射
率光纖。在本發(fā)明的頭懸架組件中，隨著從中心朝向外周側(cè)，漸變折射率光纖的折射率連 續(xù)減少，所以，通過調(diào)整漸變折射率光纖的長度，能夠自由地設(shè)定光束的出射角。由此，能夠 調(diào)整光束的出射角來優(yōu)化針對(duì)滑塊的入射光的點(diǎn)形狀，能夠在點(diǎn)光產(chǎn)生元件中高效地產(chǎn)生
點(diǎn)7 ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)的至少一部分利用其整體來 傳播光束。在本發(fā)明的頭懸架組件中，利用光波導(dǎo)的整體來傳播光束，所以，能夠在維持從基 端側(cè)(流入端)入射的入射角的情況下延長光路。因此，光波導(dǎo)的光路調(diào)整變得容易。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述芯部的與該芯部的延伸方向垂直的 截面的橫向?qū)挾群涂v向?qū)挾缺舜瞬煌?。在本發(fā)明的頭懸架組件中，使芯部的橫向?qū)挾群涂v向?qū)挾炔煌纱?，能夠?qū)墓?源出射的光束的振動(dòng)面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊引導(dǎo) 光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，沿著所述芯部的延伸方向在所述包層上 形成隧道部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，在包層上配置隧道部，由此，能夠?qū)墓庠闯錾涞墓馐?的振動(dòng)面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊引導(dǎo)光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)具有應(yīng)力施加部，該應(yīng)力施加 部用于在與所述芯部的延伸方向垂直的方向上施加壓縮應(yīng)力。在本發(fā)明的頭懸架組件中，配置應(yīng)力施加部，由此，在芯部作用有壓縮應(yīng)力。該壓 縮應(yīng)力使芯部產(chǎn)生雙折射性，能夠?qū)⒐馐恼駝?dòng)面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏 振光的狀態(tài)下向滑塊弓I導(dǎo)光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，以夾持所述芯部兩側(cè)的方式配置所述應(yīng) 力施加部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，以夾持芯部的方式配置應(yīng)力施加部，由此，能夠在芯部 作用有均等的壓縮應(yīng)力，所以，更容易維持線偏振光。本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述應(yīng)力施加部配置在所述包層的表面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，以夾持芯部的方式配置應(yīng)力施加部，由此，能夠在芯部 作用有均等的壓縮應(yīng)力，所以，更容易維持線偏振光。并且，由于是僅在包層的表面配置應(yīng)力施加部的簡單結(jié)構(gòu)，因此，能夠防止制造效率的增加。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述光波導(dǎo)的前端面是朝向所述點(diǎn)光產(chǎn) 生元件反射被導(dǎo)入所述光波導(dǎo)內(nèi)的所述光束的鏡面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，使在光波導(dǎo)內(nèi)傳播的光束入射到鏡面，由此，能夠通過 該鏡面來反射光束，向點(diǎn)光產(chǎn)生元件引導(dǎo)光束。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，在所述定位部中的與所述滑塊接觸的接 觸面?zhèn)?，且在所述鏡面與所述點(diǎn)光產(chǎn)生元件之間，形成有使所述包層的外周面平面狀露出 的平坦面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，形成有使包層的外周面平面狀露出的平坦面，由此，鏡 面與點(diǎn)光產(chǎn)生元件之間的邊界面為平坦面。由此，在準(zhǔn)直光通過平坦面的情況下，不折射而 直線前進(jìn)。因此，能夠優(yōu)化針對(duì)滑塊的入射光的點(diǎn)形狀，能夠在點(diǎn)光產(chǎn)生元件中高效地產(chǎn)生
點(diǎn)7 ο并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述定位部是平板部。在本發(fā)明的頭懸架組件中，設(shè)定位部為包含光波導(dǎo)的平板部，由此，僅通過在滑塊 上固定平板部，就能夠在光波導(dǎo)和滑塊位置對(duì)準(zhǔn)的狀態(tài)下進(jìn)行固定。由此，不需要如以往那 樣對(duì)滑塊的滑塊基板實(shí)施復(fù)雜的加工或者配置導(dǎo)光部件，所以，能夠減少加工工序數(shù)和制 造成本，并提高制造效率。并且，不用如以往那樣在2個(gè)基板(例如近場(chǎng)光元件基板和鏡基板)之間保持光 波導(dǎo)，所以，能夠降低制造成本，并且，能夠抑制滑塊的厚度，能夠?qū)崿F(xiàn)滑塊的小型薄型化。這里，通過抑制滑塊的厚度，由此，從滑塊的支承部中的支承點(diǎn)到光波導(dǎo)針對(duì)滑塊 的固定點(diǎn)的距離縮短。由此，在滑塊的記錄再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，在滑塊以跟隨記錄介質(zhì)表面的凹凸 或起伏、伴隨記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的面抖動(dòng)的方式變動(dòng)姿勢(shì)的情況下，從光波導(dǎo)對(duì)滑塊 作用的旋轉(zhuǎn)力矩減小。即，能夠防止光波導(dǎo)妨礙滑塊的姿勢(shì)控制。因此，能夠維持滑塊的穩(wěn) 定浮起，并盡可能地減小浮起量，所以，對(duì)滑塊的浮起特性或跟蹤的精度等造成的影響小。因此，能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)光的傳播效率和滑塊的浮起特性這雙方，所以，能夠提高滑塊 的掃描性能，并準(zhǔn)確且高密度地進(jìn)行信息的記錄再現(xiàn)。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平板部的側(cè)面中的至少一部分與所 述滑塊的側(cè)面中的至少一部分為同一平面。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部的至少一個(gè)側(cè)面與滑塊的至少一個(gè)側(cè)面為同一 平面，由此，組裝時(shí)兩者的位置對(duì)準(zhǔn)變得容易。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述平板部的寬度比所述光波導(dǎo)的寬度
覓ο在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部的寬度形成為比光波導(dǎo)的寬度寬，由此，在滑塊 的記錄再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，在滑塊以跟隨記錄介質(zhì)表面的凹凸或起伏、伴隨記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn) 生的面抖動(dòng)的方式變動(dòng)姿勢(shì)的情況下，能夠經(jīng)由平板部均等地對(duì)滑塊施加來自懸浮體的荷 重。即，能夠防止光波導(dǎo)妨礙滑塊的姿勢(shì)控制。因此，能夠維持滑塊的穩(wěn)定浮起，并盡可能 地減小浮起量，所以，對(duì)滑塊的浮起特性或跟蹤的精度等造成的影響小。并且，本發(fā)明的頭懸架組件的特征在于，所述頭懸架組件還具有連接部，該連接部 連接所述平板部和所述光波導(dǎo)，所述連接部隨著從所述平板部朝向所述光波導(dǎo)，所述連接部的截面形狀減小。在本發(fā)明的頭懸架組件中，平板部與光波導(dǎo)的連接部的截面形狀形成為逐漸減 小，由此，能夠分散對(duì)連接部作用的應(yīng)力。由此，能夠防止連接部由于使用時(shí)的滑塊的姿勢(shì) 變動(dòng)等或制造時(shí)針對(duì)連接部的應(yīng)力集中而發(fā)生故障。另一方面，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有上 述本發(fā)明的頭懸架組件；在固定方向上旋轉(zhuǎn)的磁記錄介質(zhì)；光源，其出射光束，以對(duì)所述磁 記錄介質(zhì)進(jìn)行加熱；樞軸，其配置在所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)；以及支架，其能夠繞所述樞軸 轉(zhuǎn)動(dòng)，并且，具有支承所述頭懸架組件的臂部。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，使記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)后，使支架繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，使支承 于臂部的滑塊進(jìn)行掃描。然后，將滑塊配置在記錄介質(zhì)上的期望位置。然后，使光束從光源 入射到光波導(dǎo)內(nèi)。由此，能夠利用頭懸架組件的滑塊，針對(duì)記錄介質(zhì)進(jìn)行各種信息的記錄再 現(xiàn)。特別地，由于具有本發(fā)明的頭懸架組件，所以，能夠準(zhǔn)確且高密度地進(jìn)行信息的記 錄再現(xiàn)，能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)化。根據(jù)本發(fā)明的頭懸架組件，在滑塊內(nèi)容易地將光波導(dǎo)配置到點(diǎn)光產(chǎn)生元件，由此， 能夠降低加工成本和制造成本并提高制造效率，所以，能夠提供高性能的信息記錄再現(xiàn)裝置。


圖1是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。圖2是圖1所示的頭懸架組件的立體圖。圖3是圖2所示的懸架的俯視圖。圖4是第1實(shí)施方式的沿著圖3的A-A’線的剖面圖。圖5是第1實(shí)施方式的滑塊的放大剖面圖。圖6是圖1所示的接線基板的俯視圖。圖7是第1實(shí)施方式的沿著圖3的B-B’線的剖面圖。圖8是第1實(shí)施方式的沿著圖3的C-C’線的剖面圖。圖9是示出第1實(shí)施方式的光波導(dǎo)的前端部分的立體圖。圖10是第2實(shí)施方式的懸架單元的剖面圖。圖11是圖10的F部放大圖。圖12是示出第3實(shí)施方式的光波導(dǎo)的前端部分的立體圖。圖13是沿著圖12的G-G，線的剖面圖。圖14是第4實(shí)施方式的懸架單元的剖面圖。圖15是第4實(shí)施方式的滑塊的放大剖面圖。圖16是第4實(shí)施方式的相當(dāng)于圖12的G_G’線的剖面圖。圖17是第5實(shí)施方式的滑塊的放大剖面圖。圖18是第6實(shí)施方式的懸架單元的剖面圖。圖19是示出第6實(shí)施方式的光波導(dǎo)的前端部分的立體圖。圖20是第7實(shí)施方式的頭懸架組件的立體圖。
圖21是示出第8實(shí)施方式的光波導(dǎo)的前端部分(平板部)的立體圖。圖22是示出本發(fā)明的第9實(shí)施方式的相當(dāng)于圖7的剖面圖。圖23是示出本發(fā)明的其他實(shí)施方式的相當(dāng)于圖7的剖面圖。圖M是示出本發(fā)明的第10實(shí)施方式的相當(dāng)于圖3的1-1’線的剖面圖。圖25是示出本發(fā)明的第11實(shí)施方式的相當(dāng)于圖3的1_1’線的剖面圖。圖沈是示出本發(fā)明的其他實(shí)施方式的相當(dāng)于圖3的1-1’線的剖面圖。圖27是示出本發(fā)明的第12實(shí)施方式的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖。圖28是沿著圖27的1-1’線的剖面圖。圖四是示出本發(fā)明的其他實(shí)施方式的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖。圖30是發(fā)明的第13實(shí)施方式的相當(dāng)于圖14的H_H’線的剖面圖。圖31是發(fā)明的第14實(shí)施方式的相當(dāng)于圖14的H_H’線的剖面圖。圖32是發(fā)明的第15實(shí)施方式的光波導(dǎo)的剖面圖。圖33是發(fā)明的第15實(shí)施方式的相當(dāng)于圖14的H_H’線的剖面圖。
具體實(shí)施例方式(第1實(shí)施方式)(信息記錄再現(xiàn)裝置)下面，參照?qǐng)D1 圖9對(duì)本發(fā)明的第1實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖1是示出本發(fā)明的 信息記錄再現(xiàn)裝置1的一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。另外，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1 是以垂直記錄方式對(duì)具有垂直記錄層的盤(記錄介質(zhì))D進(jìn)行寫入的裝置。如圖1所示，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有支架11 ；激光光源20，其從 支架11的基端側(cè)經(jīng)由光電復(fù)合布線33供給光束；頭懸架組件(HGA) 12，其被支承于支架11 的前端側(cè)；致動(dòng)器6，其使頭懸架組件12向與盤面Dl (盤D的表面)平行的XY方向掃描移 動(dòng)；主軸電動(dòng)機(jī)7，其使盤D向規(guī)定方向旋轉(zhuǎn)；控制部5，其對(duì)頭懸架組件12的滑塊2供給根 據(jù)信息調(diào)制后的電流；以及殼體9，其在內(nèi)部收納這些構(gòu)成部件。殼體9是由鋁等金屬材料構(gòu)成的具有上部開口部的箱形形狀，由俯視為四邊形狀 的底部9a和在底部9a的周緣相對(duì)于底部9a沿著鉛直方向豎立設(shè)置的周壁(未圖示)構(gòu) 成。而且，在由周壁包圍的內(nèi)側(cè)形成有收納上述各構(gòu)成部件等的凹部。另外，在圖1中，為 了使說明容易理解，省略了包圍殼體9的周圍的周壁。并且，在該殼體9上，以堵住殼體9的開口的方式，可裝卸地固定有未圖示的蓋。在 底部9a的大致中心安裝有上述主軸電動(dòng)機(jī)7，將中心孔嵌入該主軸電動(dòng)機(jī)7中，由此，裝卸 自如地固定盤D。在盤D的外側(cè)、即底部9a的角部安裝有上述致動(dòng)器6。在該致動(dòng)器6上安裝有支 架11，該支架11能夠以樞軸10為中心相對(duì)于XY方向轉(zhuǎn)動(dòng)。該支架11通過切削加工等，一體形成有沿著盤面Dl從基端部朝向前端部延伸設(shè) 置的臂部14、和經(jīng)由基端部懸臂狀地支承臂部14的基部15?；?5形成為長方體形狀，被支承為能夠繞樞軸10轉(zhuǎn)動(dòng)。S卩，基部15經(jīng)由樞軸 10與致動(dòng)器6連接，該樞軸10成為支架11的旋轉(zhuǎn)中心。臂部14是在基部15的安裝有致動(dòng)器6的側(cè)面15a的相反側(cè)的側(cè)面(角部的相反側(cè)的側(cè)面)1 中，與基部15的上表面的面方向(XY方向)平行延伸的平板狀，沿著基部15 的高度方向(Z方向)延伸出三個(gè)。具體而言，臂部14形成為隨著從基端部朝向前端部而 變細(xì)的錐形形狀，以在各臂部14之間夾入盤D的方式進(jìn)行配置。S卩，臂部14和盤D以交錯(cuò) 的方式配置，通過致動(dòng)器6的驅(qū)動(dòng)，臂部14能夠在與盤D的表面平行的方向(XY方向)上 移動(dòng)。另外，在盤D的旋轉(zhuǎn)停止時(shí)，通過致動(dòng)器6的驅(qū)動(dòng)，支架11和頭懸架組件12從盤D 上退避。(頭懸架組件)頭懸架組件12向后述的具有點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)40(參照?qǐng)D幻的近 場(chǎng)光頭即滑塊2引導(dǎo)來自激光光源20的光束，使其產(chǎn)生近場(chǎng)光(點(diǎn)光)，利用該近場(chǎng)光針對(duì) 盤D記錄再現(xiàn)各種信息。圖2是在使滑塊2朝上的狀態(tài)下從滑塊2側(cè)觀察懸浮體3的立體圖。圖3是在使 滑塊2朝上的狀態(tài)下觀察懸架17的俯視圖。圖4是沿著圖3的A-A’線的剖面圖，圖5是 滑塊的放大剖面圖。如圖2 圖5所示，本實(shí)施方式的頭懸架組件12具有使上述滑塊2從盤D浮起的 功能，該頭懸架組件12具有滑塊2 ；懸浮體3，其由金屬性材料形成為薄板狀，并且能夠沿 著與盤面Dl平行的XY方向移動(dòng)；以及懸架單元16，其在使滑塊2繞與盤面Dl平行且彼此 垂直的2個(gè)軸(X軸、Y軸)轉(zhuǎn)動(dòng)自如的狀態(tài)下，即以使滑塊2能夠以2個(gè)軸為中心扭轉(zhuǎn)的 方式，固定在懸浮體3的下表面。(滑塊)滑塊2在配置于盤D與懸浮體3之間的狀態(tài)下，隔著后述的懸架17支承于懸浮體 3的下表面。如圖5所示，滑塊2具有滑塊基板60，其在從盤面Dl浮起規(guī)定距離的狀態(tài)下與 盤D(參照?qǐng)D1)相對(duì)配置，并具有與盤面Dl相對(duì)的浮起面加；記錄元件42，其固定在滑塊 基板60的前端面(流出端)60c上；上述點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40，其與記錄元件42鄰接固定；以 及再現(xiàn)元件41，其以中間隔著點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40的方式固定在記錄元件42的相反側(cè)。S卩，在 滑塊基板60的前端面60c上，在并列的狀態(tài)下配置記錄元件42、點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40以及再現(xiàn) 元件41。但是，在滑塊2的長度方向(Y方向)上，前端側(cè)最接近盤面D1。因此，通過在滑 塊基板60的前端面60c側(cè)配置記錄元件42、點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40以及再現(xiàn)元件41，由此，能夠 使記錄元件42、點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40以及再現(xiàn)元件41盡可能地接近盤面D1，能夠降低盤D的 頑磁力，所以，針對(duì)盤D的寫入變得容易?；瑝K基板60通過石英玻璃等的光透射性材料或AlTiC (鋁鈦碳)等的陶瓷等形成 為長方體狀。該滑塊基板60被支承為在使浮起面加為盤D側(cè)的狀態(tài)下，經(jīng)由懸架17 (參 照?qǐng)D幻懸掛在懸浮體3 (參照?qǐng)D幻的前端。再現(xiàn)元件41是電阻根據(jù)從盤D漏出的磁場(chǎng)的大小而轉(zhuǎn)換的磁阻效應(yīng)膜。經(jīng)由后 述的電氣布線31從控制部5(參照?qǐng)D1)向該再現(xiàn)元件41供給偏置電流。由此，控制部5 能夠檢測(cè)從盤D漏出的磁場(chǎng)的變化作為電壓的變化，能夠根據(jù)該電壓的變化來進(jìn)行信號(hào)的 再現(xiàn)。記錄元件42具有副磁極43，其固定在滑塊基板60的前端面60c上；主磁極45， 其經(jīng)由磁氣電路44與副磁極43連接，在與副磁極43之間產(chǎn)生與盤D垂直的記錄磁場(chǎng)；以及線圈46，其以磁氣電路44為中心，渦旋狀卷繞在磁氣電路44的周圍。兩個(gè)磁極43、45和 磁氣電路44由磁通密度高的高飽和磁通密度(Bs)材料(例如CoNii^e合金、( 合金等) 形成。并且，線圈46以在相鄰的線圈線之間、與磁氣電路44之間、與兩個(gè)磁極43、45之間 空出間隙的方式配置，以便不發(fā)生短路，在該狀態(tài)下通過絕緣體47制模。然后，從控制部5 向線圈46供給根據(jù)信息調(diào)制后的電流。另外，主磁極45和副磁極43被設(shè)計(jì)成，與盤D相 對(duì)的端面與滑塊2 (滑塊基板60)的浮起面加為同一平面。點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40是根據(jù)從基端側(cè)導(dǎo)入的光束L來生成點(diǎn)光并從前端側(cè)向外部發(fā) 出點(diǎn)光的大致板狀的元件，由SSC (spot size converter)芯部48和SSC包層49構(gòu)成。這 樣構(gòu)成的點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40在基端側(cè)朝向滑塊2的上方(Z軸上方)且前端側(cè)朝向盤D側(cè)的 狀態(tài)下，與主磁極45鄰接固定，在主磁極45附近產(chǎn)生點(diǎn)光。SSC芯部48以與長度方向(Z方向)垂直的截面積沿著從基端側(cè)朝向前端側(cè)的方 向逐漸減少的方式縮小形成，在內(nèi)部會(huì)聚從基端側(cè)導(dǎo)入的光束L而向前端側(cè)傳播，從而生 成點(diǎn)光。在本實(shí)施方式中，SSC芯部48形成為具有3個(gè)側(cè)面(在剖面圖中大致為三角形 狀)，并配置成其中一個(gè)側(cè)面與主磁極45相對(duì)。并且，SSC芯部48的端面被設(shè)計(jì)成與滑塊 2的浮起面加為同一平面。SSC包層49由折射率比SSC芯部48的折射率低的材料構(gòu)成，與SSC芯部48密接 并對(duì)SSC芯部48進(jìn)行密封，并形成為嵌入再現(xiàn)元件41與記錄元件42之間。而且，由于SSC 芯部48與SSC包層49之間的折射率的差異，從后述的光波導(dǎo)32供給的光束L在全反射條 件下被引導(dǎo)到前端側(cè)的端面。另外，記載被用作SSC包層49和SSC芯部48的材料的組合的一例時(shí)，例如考慮如 下組合利用石英(SiO2)來形成SSC芯部48，利用摻雜了氟的石英來形成SSC包層49。該 情況下，在光束L的波長為400nm時(shí)，SSC芯部48的折射率為1. 47，SSC包層49的折射率 小于1. 47，所以是優(yōu)選的組合。并且，還考慮如下組合利用摻雜了鍺的石英來形成SSC芯 部48，利用石英(SiO2)來形成SSC包層49。該情況下，在光束L的波長為400nm時(shí)，SSC芯 部48的折射率大于1. 47，SSC包層49的折射率為1. 47，所以，還是優(yōu)選的組合。特別地，SSC芯部48與SSC包層49的折射率之差越大，將光束L封入SSC芯部48 內(nèi)的力越大，所以，更加優(yōu)選在SSC芯部48中使用氧化鉭(Ta2O5 波長為550nm時(shí)折射率為 2. 16)，在SSC包層49中使用石英等，從而增大兩者的折射率之差。并且，在利用紅外區(qū)域 的光束L的情況下，利用相對(duì)于紅外光透明的材料即硅(Si 折射率大約為4)來形成SSC芯 部48也是有效的。并且，如圖2 圖5所示，滑塊2 (滑塊基板60)的下表面如上所述成為與盤面Dl 相對(duì)的浮起面加。該浮起面加是利用由旋轉(zhuǎn)的盤D產(chǎn)生的空氣流的粘性來產(chǎn)生用于浮起 的壓力的面，被稱為ABS (Air Bearing Surface) 0具體而言，被設(shè)計(jì)成，對(duì)要使滑塊2離開 盤面Dl的正壓和要使滑塊2靠近盤面Dl的負(fù)壓進(jìn)行調(diào)整，從而使滑塊2在最佳狀態(tài)下浮 起?；瑝K2通過該浮起面加承受從盤面Dl浮起的力，并且，通過懸浮體3承受向盤D 側(cè)按壓的力。而且，滑塊2通過這兩個(gè)力的平衡，從盤面Dl浮起。(懸浮體)如圖2、3所示，上述懸浮體3由形成為俯視為大致四邊形的基體板22、和經(jīng)由鉸鏈板23與基體板22的前端側(cè)連接的俯視為大致三角形的承載梁M構(gòu)成?；w板22由不銹鋼等厚度較薄的金屬材料構(gòu)成，在基端側(cè)形成有在厚度方向上 貫通的開口 22a。而且，基體板22借助該開口 2 固定在臂部14的前端。在基體板22的 下表面配置有由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成的片狀的鉸鏈板23。該鉸鏈板23是形成在基體板 22的下表面的整個(gè)表面的平板狀部件，其前端部分形成為從基體板22的前端沿著基體板 22的長邊方向延伸的延伸部23a。延伸部23a從鉸鏈板23的寬度方向兩端部延伸出兩根， 在其前端部分連接有承載梁24。承載梁對(duì)與基體板22同樣，由不銹鋼等厚度較薄的金屬材料構(gòu)成，其基端在與基 體板22的前端之間具有間隙的狀態(tài)下與鉸鏈板23連接。由此，懸浮體3以基體板22與承 載梁M之間為中心進(jìn)行彎曲，容易向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲。在懸浮體3上設(shè)有彎曲件25。彎曲件25是由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成的片狀部件， 通過形成為片狀，從而構(gòu)成為能夠在厚度方向上撓曲變形。彎曲件25由以下部件構(gòu)成懸 架17，其固定在承載梁M的前端側(cè)，外形形成為俯視為大致五邊形狀；以及支承體18，其形 成為比懸架17的寬度窄，從懸架17的基端沿著懸浮體3延伸。懸架17形成為從中間附近到前端朝向盤面Dl在厚度方向上稍微翹曲。而且，以 施加該翹曲的前端側(cè)不與承載梁M接觸的方式，將懸架17從基端側(cè)到大致中間附近固定 在承載梁M上。并且，在該浮起狀態(tài)的懸架17的前端側(cè)形成有周圍被挖通成二形狀的切口部沈， 在由該切口部26包圍的部分，形成有由連接部17a懸臂狀支承的襯墊部(支承部)17b。即， 該襯墊部17b通過連接部17a從懸架17的前端側(cè)朝向基端側(cè)伸出形成，在其周圍具有切口 部26。由此，襯墊部17b容易在懸架17的厚度方向上撓曲，以僅該襯墊部17b與懸浮體3 的下表面平行的方式進(jìn)行角度調(diào)整。而且，在該襯墊部17b上載置固定有上述滑塊2。艮口， 滑塊2成為經(jīng)由襯墊部17b懸掛在承載梁M上的狀態(tài)。并且，如圖2 圖4所示，在承載梁M的前端形成有朝向襯墊部17b和滑塊2的 大致中心突出的突起部19。該突起部19的前端成為帶圓角的狀態(tài)。而且，在滑塊2由于從 盤D承受的風(fēng)壓而向承載梁M側(cè)浮起時(shí)，突起部19與襯墊部17b的表面(上表面)點(diǎn)接 觸。即，突起部19隔著懸架17的襯墊部17b支承滑塊2，并且，朝向盤面Dl (朝向Z方向) 對(duì)滑塊2施加荷重。而且，突起部19與襯墊部17b的接觸點(diǎn)(支承點(diǎn))成為基于突起部19 的滑塊2的荷重點(diǎn)F。另外，這些突起部19和具有襯墊部17b的懸架17構(gòu)成懸架單元16。圖2所示的支承體18是一體形成在懸架17上的片狀部件，在懸浮體3上朝向臂 部14延伸設(shè)置。即，支承體18構(gòu)成為在懸浮體3變形時(shí)跟隨懸浮體3的變形。支承體18 從臂部14上繞到側(cè)面，并引繞到支架11的基部15。(光波導(dǎo))圖6是在支架11的基部15安裝的接線基板30的俯視圖。如圖1、6所示，在支架11的基部15中的側(cè)面15c配置有接線基板30。該接線基 板30成為對(duì)設(shè)于殼體9的控制部5和滑塊2進(jìn)行電連接時(shí)的中繼點(diǎn)，在其表面形成有各種 控制電路(未圖示)?？刂撇?與接線基板30通過具有撓性的扁平電纜4電連接，另一方 面，接線基板30與滑塊2通過電氣布線31連接。電氣布線31對(duì)應(yīng)于針對(duì)各支架11設(shè)置 的滑塊2的數(shù)量而設(shè)有三組，經(jīng)由扁平電纜4從控制部5輸出的信號(hào)經(jīng)由電氣布線31輸出到滑塊2。并且，在接線基板30上配置有朝向滑塊2的點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40供給光束的上述激 光光源20。激光光源20接收經(jīng)由扁平電纜4從控制部5輸出的信號(hào)，并根據(jù)該信號(hào)出射光 束，對(duì)應(yīng)于設(shè)于各臂部14的滑塊2的數(shù)量，沿著基部15的高度方向(Z方向)排列有3個(gè)。 在各激光光源20的出射側(cè)連接有光波導(dǎo)32，該光波導(dǎo)32將從各激光光源20出射的光束引 導(dǎo)到滑塊2的聚光透鏡。如圖2、3所示，與各滑塊2對(duì)應(yīng)的一個(gè)光波導(dǎo)32和一組電氣布線31在激光光源 20與滑塊2之間構(gòu)成為從其基端側(cè)到前端一體形成的光電復(fù)合布線33。該光電復(fù)合布線 33從接線基板30的表面通過臂部14的側(cè)面引繞到臂部14上。具體而言，光電復(fù)合布線 33在臂部14和懸浮體3上配置在彎曲件25的上述支承體18上，在中間隔著支承體18的 狀態(tài)下引繞到懸浮體3的前端。并且，光電復(fù)合布線33在懸浮體3的前端、即懸架17的中間位置分支為電氣布線 31和光波導(dǎo)32。具體而言，光波導(dǎo)32從光電復(fù)合布線33的前端側(cè)的分支地點(diǎn)起沿著懸架 17的長度方向延伸，跨過懸架17的切口部沈與滑塊2的基端側(cè)直接連接。光波導(dǎo)32在光 電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)從懸架17的下表面離開，隨著從分支地點(diǎn)朝向滑塊2的基端側(cè)， 以架設(shè)在襯墊部17b與懸架17之間的方式在稍微浮起的狀態(tài)下延伸。即，在懸架17的下 表面，光波導(dǎo)32在大致直線(曲率半徑大致無限大)延伸的狀態(tài)下，從滑塊2的寬度方向 (X方向)中央部引繞到滑塊2的基端面2b側(cè)。另一方面，在分支地點(diǎn)，電氣布線31朝向懸架17的外周部分彎曲，從懸架17的外 周部分、即切口部26的外側(cè)引繞。而且，從切口部沈的外側(cè)引繞的電氣布線31通過連接 部17a上方與滑塊2的前端面?zhèn)冗B接。即，電氣布線31從滑塊2的外部與設(shè)于滑塊2的前 端面?zhèn)鹊纳鲜鲈佻F(xiàn)元件41和記錄元件42分別連接。圖7是沿著圖3的B-B，線的剖面圖。如圖7所示，構(gòu)成光電復(fù)合布線33的電氣布線31由鋁或銅等構(gòu)成，與芯部35 — 起封入包層34內(nèi)。另一方面，構(gòu)成光電復(fù)合布線33的光波導(dǎo)32的剖面為矩形狀，其具有 芯部35，其厚度例如形成為3 10 μ m，在全反射條件下引導(dǎo)從激光光源20出射的光束；以 及包層34，其厚度例如形成為數(shù)十μ m,由折射率比芯部35的折射率低的材料構(gòu)成，與芯部 35密接并對(duì)芯部35進(jìn)行密封。而且，由于芯部35與包層34之間的折射率的差異，從激光 光源20出射的光束在全反射條件下被引導(dǎo)到滑塊2的聚光透鏡。另外，光波導(dǎo)32的構(gòu)成材料能夠使用與上述SSC芯部48和SSC包層49 (均參照 圖5)相同的材料，但是，在本實(shí)施方式中，優(yōu)選使用以下所示的樹脂材料。例如考慮如下組 合通過PMMA(甲基丙烯酸甲酯樹脂)形成厚度為3 10 μ m的芯部35，通過含有氟的聚 合物形成厚度為數(shù)十μ m的包層34。并且，芯部35和包層34也可以均由環(huán)氧樹脂(例如， 芯部折射率為1. 522 1. 523，包層折射率為1. 518 1. 519)構(gòu)成，或者均由氟化聚酰亞胺 構(gòu)成。該情況下，對(duì)構(gòu)成芯部35和包層34的樹脂材料的比例等進(jìn)行調(diào)整，優(yōu)選增大兩者的 折射率之差。例如在氟化聚酰亞胺的情況下，能夠調(diào)整氟含量，或者通過放射光等的能量照 射來控制折射率。這樣，通過在光波導(dǎo)32的構(gòu)成材料中使用樹脂材料，能夠通過半導(dǎo)體工 藝來制造光電復(fù)合布線33。(平板部)
這里，圖8是沿著圖3的C-C’線的剖面圖，圖9是示出光波導(dǎo)的前端部分(平板 部)的立體圖。如圖4、5、8、9所示，光波導(dǎo)32的前端部分一體形成有在寬度方向(Y方向)上擴(kuò) 大了光波導(dǎo)32的前端部分后的平板部(定位部)50。具體而言，平板部50是僅在寬度方 向(Y方向)上擴(kuò)大了光波導(dǎo)32中的包層34后的俯視為矩形狀的部件，與滑塊2的上表面 (XY平面)的外形同樣形成。這樣，與包層34 —體形成平板部50，由此，在形成光波導(dǎo)32 時(shí)不用新設(shè)置用于形成平板部50的工序，能夠在與以往相同的工序中形成定位部。因此， 能夠提高制造效率。而且，平板部50粘接固定在襯墊部17b上，滑塊2以在中間隔著該平板部50的方 式固定在襯墊部17b上。S卩，不對(duì)滑塊2的滑塊基板60實(shí)施用于連接光波導(dǎo)32的加工，僅 通過在平板部50上粘接滑塊2，就能夠固定滑塊2與光波導(dǎo)32。而且，光波導(dǎo)32的芯部35 在平板部50內(nèi)的寬度方向中心部從滑塊2的基端側(cè)延伸到前端側(cè)，被引導(dǎo)到上述點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn) 換器40。另外，設(shè)對(duì)滑塊基板60和光波導(dǎo)32 (平板部50)進(jìn)行粘接固定的區(qū)域中與上述荷 重點(diǎn)F最遠(yuǎn)的點(diǎn)為光波導(dǎo)32與滑塊2的固定點(diǎn)T。該固定點(diǎn)T設(shè)定在滑塊2中的寬度方向 (X方向)中央部、且長度方向(Y方向)基端部、厚度方向(Z方向)上端部。因此，將從上 述荷重點(diǎn)F、即懸浮體3的突起部19與襯墊部17b的上表面的接觸點(diǎn)到固定點(diǎn)T的空間距 離設(shè)定為距離d。并且，光波導(dǎo)32的基端面與平板部50的基端面、以及光波導(dǎo)32與平板部50的兩 側(cè)面分別構(gòu)成為同一平面，另一方面，平板部50的前端面朝向與光波導(dǎo)32的軸方向(延伸 方向)交叉的方向(例如45度左右)被切斷。而且，該切斷面構(gòu)成用于向與導(dǎo)入方向不同 的方向反射在芯部35內(nèi)傳播的光束L(參照?qǐng)D5)的鏡面32a。該鏡面32a以使光束L的朝 向大致改變90度的方式，反射由光波導(dǎo)32導(dǎo)入的光束L。由此，由鏡面3 反射的光束L 被導(dǎo)入上述點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40內(nèi)。另外，鏡面32a也可以構(gòu)成為，通過蒸鍍法等在至少包含 芯部35的區(qū)域形成由鋁等構(gòu)成的反射板。(信息記錄再現(xiàn)方法)接著，下面說明通過這樣構(gòu)成的信息記錄再現(xiàn)裝置1在盤D中記錄再現(xiàn)各種信息 的步驟。首先，驅(qū)動(dòng)主軸電動(dòng)機(jī)7使盤D向規(guī)定方向旋轉(zhuǎn)。接著，使致動(dòng)器6動(dòng)作，使支架 11以樞軸10為旋轉(zhuǎn)中心轉(zhuǎn)動(dòng)，經(jīng)由支架11使頭懸架組件12在XY方向上進(jìn)行掃描。由此， 能夠使滑塊2位于盤D上的期望位置。此時(shí)，滑塊2由懸浮體3支承，并且通過規(guī)定力向盤D側(cè)按壓。并且，與此同時(shí)，滑 塊2的浮起面加與盤D相對(duì)，所以，受到由旋轉(zhuǎn)的盤D產(chǎn)生的風(fēng)壓的影響而承受浮起的力。 通過這兩個(gè)力的平衡，滑塊2成為在從盤D上離開的位置懸浮的狀態(tài)。此時(shí)，滑塊2受到風(fēng)壓而被按向懸浮體3側(cè)，所以，固定滑塊2的懸架17的襯墊部 17b與形成于懸浮體3的突起部19成為點(diǎn)接觸的狀態(tài)。然后，該浮起的力經(jīng)由突起部19傳 遞到懸浮體3，以使該懸浮體3朝向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲的方式進(jìn)行作用。由此，如 上所述滑塊2浮起。并且，由于盤D的凹凸或起伏等，在對(duì)滑塊2施加朝向XY方向的風(fēng)壓 時(shí)，滑塊2和襯墊部17b以突起部19為中心繞X軸和Y軸這2個(gè)軸扭轉(zhuǎn)。由此，能夠吸收由于盤D的起伏而導(dǎo)致的Z方向的移位(針對(duì)與盤面Dl大致垂直的方向的移位)，滑塊2 的姿勢(shì)穩(wěn)定。并且，滑塊2即使受到由于盤D的起伏而產(chǎn)生的風(fēng)壓(朝向XY方向的風(fēng)壓)，也經(jīng) 由懸架單元16、即與突起部19的前端點(diǎn)接觸的襯墊部17b繞XY軸扭轉(zhuǎn)。因此，能夠吸收由 于起伏而導(dǎo)致的Z方向的移位，能夠使浮起時(shí)的滑塊2的姿勢(shì)穩(wěn)定。這里，在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，構(gòu)成為在襯墊部17b與滑塊2之間 配置包含光波導(dǎo)32的平板部50。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，不用如以往那樣在2個(gè)基板(例如近場(chǎng)光元 件基板和鏡基板)之間保持光波導(dǎo)32，所以，能夠抑制滑塊2的板厚(Z方向)。通過抑制滑塊2的板厚，由此，對(duì)滑塊2和光波導(dǎo)32進(jìn)行固定的固定點(diǎn)T與對(duì)滑 塊2施加荷重的荷重點(diǎn)F(突起部19)之間的厚度方向(Z方向)的距離縮短。進(jìn)而，在滑 塊2的寬度方向(X方向)中央部設(shè)定固定點(diǎn)T，由此，固定點(diǎn)T與荷重點(diǎn)F在滑塊2的寬度 方向上一致，所以，也能夠縮短從荷重點(diǎn)F到固定點(diǎn)T的寬度方向(X方向)的距離。由此， 固定點(diǎn)T與荷重點(diǎn)F的空間距離d縮短。由此，在滑塊2的記錄再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，在滑塊2以跟隨盤面Dl的凹凸或起伏、伴隨盤 D的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的面抖動(dòng)的方式變動(dòng)姿勢(shì)的情況下，從光波導(dǎo)32作用于滑塊2的旋轉(zhuǎn)力矩 減小。并且，平板部50與滑塊2的上表面(XY平面)的外形同樣形成，所以，能夠經(jīng)由平板 部50均等地對(duì)滑塊施加來自懸浮體3的荷重。即，能夠防止光波導(dǎo)32妨礙滑塊2的姿勢(shì) 控制。因此，能夠維持滑塊2的穩(wěn)定浮起，并盡可能地減小浮起量，所以，對(duì)滑塊2的浮起特 性或跟蹤的精度等造成的影響小。因此，能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)光的傳播效率和滑塊2的浮起特性 這雙方，所以，能夠提高滑塊2的掃描性能，并準(zhǔn)確且高密度地進(jìn)行信息的記錄再現(xiàn)。這里，在進(jìn)行信息記錄的情況下，控制部5使激光光源20動(dòng)作，并且，對(duì)線圈46供 給根據(jù)信息調(diào)制后的電流，使記錄元件42動(dòng)作。首先，使光束從激光光源20入射到光波導(dǎo)32 (光電復(fù)合布線3 ，將光束L引導(dǎo)到 滑塊2。從激光光源20出射的光束L在光波導(dǎo)32的芯部35內(nèi)朝向前端(流出端)側(cè)前 進(jìn)，被鏡面3 反射而導(dǎo)入點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40的SSC芯部48內(nèi)。導(dǎo)入SSC芯部48內(nèi)的光束 L朝向位于盤D側(cè)的另一端側(cè)，在點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40的SSC芯部48與SSC包層49之間反復(fù) 進(jìn)行反射而傳播。此時(shí)，SSC芯部48以與從基端側(cè)朝向前端側(cè)的長度方向(Z方向)垂直的截面積 逐漸減少的方式縮小形成。因此，在光束通過該點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40時(shí)，逐漸會(huì)聚并在SSC芯 部48內(nèi)部傳播。因此，光束L在到達(dá)SSC芯部48的前端側(cè)的時(shí)點(diǎn)被縮小，點(diǎn)尺寸減小。由 此，能夠生成點(diǎn)光，能夠從基端側(cè)的端面向外部發(fā)出。于是，盤D通過該點(diǎn)光被局部加熱，頑 磁力暫時(shí)降低。另一方面，通過控制部5對(duì)線圈46供給電流時(shí)，由于電磁鐵的原理，電流磁場(chǎng)使磁 氣電路44內(nèi)產(chǎn)生磁場(chǎng)，所以，能夠在主磁極45與副磁極43之間產(chǎn)生與盤D垂直的方向的 記錄磁場(chǎng)。結(jié)果，能夠通過使點(diǎn)光與由兩個(gè)磁極43、45產(chǎn)生的記錄磁場(chǎng)協(xié)作的混合磁記錄 方式，進(jìn)行信息記錄。而且，利用垂直記錄方式進(jìn)行記錄，所以，難以受到熱擾動(dòng)現(xiàn)象等的影 響，能夠進(jìn)行穩(wěn)定的記錄。由此，能夠提高寫入的可靠性。而且，能夠在記錄磁場(chǎng)局部作用 的位置包含加熱溫度的加熱器位置，所以，能夠降低盤D的規(guī)定位置的頑磁力。因此，能夠 可靠地進(jìn)行記錄，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠性的提高，并且，能夠?qū)崿F(xiàn)高密度記錄。
接著，在對(duì)記錄于盤D的信息進(jìn)行再現(xiàn)的情況下，與點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40鄰接固定的 再現(xiàn)元件41承受從盤D漏出的磁場(chǎng)，其電阻根據(jù)該磁場(chǎng)的大小而變化。由此，再現(xiàn)元件41 的電壓變化。由此，控制部5能夠檢測(cè)從盤D漏出的磁場(chǎng)的變化作為電壓的變化。而且，控 制部5根據(jù)該電壓的變化進(jìn)行信號(hào)的再現(xiàn)，由此能夠進(jìn)行信息的再現(xiàn)。這樣，能夠利用滑塊2針對(duì)盤D記錄再現(xiàn)各種信息。這里，在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，構(gòu)成為在襯墊部17b與滑塊2之間 配置包含光波導(dǎo)32的平板部50。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在襯墊部17b與滑塊2之間配置包含光波導(dǎo)32的平板部50，由此，能 夠與平板部50 —起配置光波導(dǎo)32，所以，能夠容易地將光波導(dǎo)32引導(dǎo)到滑塊2的點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn) 換器40。因此，不需要如以往那樣對(duì)滑塊2的滑塊基板60實(shí)施復(fù)雜的加工或者配置導(dǎo)光部 件，所以，能夠減少加工工序數(shù)和制造成本，提高制造效率。并且，僅通過在滑塊2上固定平 板部50，就能夠在滑塊2上固定光波導(dǎo)32，所以，光波導(dǎo)32與滑塊2的位置對(duì)準(zhǔn)和固定變
得容易。并且，不用如以往那樣在2個(gè)基板(例如近場(chǎng)光元件基板和鏡基板)之間保持光 波導(dǎo)，所以，能夠降低制造成本，并且，能夠抑制滑塊的板厚，能夠?qū)崿F(xiàn)滑塊的小型薄型化。這樣，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有上述頭懸架組件12，所以，能夠準(zhǔn)確且高 密度地進(jìn)行信息的記錄再現(xiàn)，能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)化。(第2實(shí)施方式)接著，根據(jù)圖10、11對(duì)本發(fā)明的第2實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖10是第2實(shí)施方式的 懸架單元的剖面圖，圖11是圖10的F部放大圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí) 施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。并且，在本實(shí)施方式中，滑塊的結(jié)構(gòu)與上述 第1實(shí)施方式不同。如圖10、11所示，本實(shí)施方式的滑塊102具有滑塊基板160，該滑塊基板160在使 浮起面10 與盤D (參照?qǐng)D1)相對(duì)的狀態(tài)下，經(jīng)由襯墊部17b被支承為懸掛在懸浮體3的 前端。在本實(shí)施方式的滑塊基板160的前端(流出端)側(cè)形成有多面體70，該多面體70形 成為從浮起面10 朝向盤D沿著厚度方向(Z方向)突出，并具有相對(duì)于所導(dǎo)入的光束L 的光軸傾斜的4個(gè)側(cè)面(例如側(cè)面71、72)。在構(gòu)成多面體70的前端面?zhèn)鹊膫?cè)面71上形成有再現(xiàn)元件73，該再現(xiàn)元件73輸出 與從盤D漏出的磁場(chǎng)的大小對(duì)應(yīng)的電信號(hào)。并且，在構(gòu)成多面體70的基端面?zhèn)鹊膫?cè)面72 上形成有記錄元件74、以及在構(gòu)成記錄元件74的主磁極75和副磁極76之間產(chǎn)生記錄磁場(chǎng) 的線圈77。記錄元件74由以在中間隔著絕緣膜78的方式層疊而成的主磁極75和副磁極 76構(gòu)成，在本實(shí)施方式中，從側(cè)面72側(cè)起依次層疊主磁極75、絕緣膜78、副磁極76。主磁極75通過蒸鍍等從側(cè)面72上形成到浮起面10加。副磁極76由與主磁極75 相同的材料構(gòu)成，以在中間隔著絕緣膜78的方式層疊在主磁極75上。并且，主磁極75和 副磁極76通過磁氣電路79連接。并且，在磁氣電路79的周圍，在絕緣膜78上制模的狀態(tài) 下，設(shè)置以磁氣電路79為中心渦旋狀卷繞的線圈77。并且，在滑塊102的上表面，在與多面體70的厚度方向正上方(Z方向)接觸的位 置形成有透鏡80。該透鏡80例如是通過使用灰度掩模的蝕刻來形成的非球面的微型透鏡。進(jìn)而，在滑塊102的上表面與襯墊部17b之間配置有上述光波導(dǎo)32的平板部50。而且，對(duì) 安裝位置進(jìn)行調(diào)整，以使光波導(dǎo)32的鏡面3 位于透鏡80的正上方。這樣，在上述實(shí)施方式中，將從激光光源20(參照?qǐng)D1)入射到光波導(dǎo)32的光束L 引導(dǎo)到前端面(流出端)側(cè)，能夠由鏡面32a反射而改變朝向后，出射到透鏡80。并且，出 射的光束L由透鏡80會(huì)聚，并沿著厚度方向(Z方向)在滑塊基板160內(nèi)部前進(jìn)，被導(dǎo)入多 面體70。然后，會(huì)聚后的光束L在到達(dá)多面體70的頂部的時(shí)點(diǎn)，作為點(diǎn)光漏出到外部。因 此，能夠發(fā)揮與第1實(shí)施方式相同的作用效果。(第3實(shí)施方式)接著，根據(jù)圖12、13對(duì)本發(fā)明的第3實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖12是第3實(shí)施方式的 光波導(dǎo)的前端部分的立體圖，圖13是沿著圖12的G-G’線的剖面圖。另外，在本實(shí)施方式 中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖12、13所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)132使用剖面為圓形狀的具有芯部135和 包層134的光纖(單模(SM)光纖)。該光波導(dǎo)132由與上述SSC芯部48和SSC包層49 (均 參照?qǐng)D5)相同的構(gòu)成材料構(gòu)成，在其前端部分設(shè)有平板部150。該平板部150是由樹脂材料或金屬材料等構(gòu)成的俯視為矩形狀的部件，設(shè)計(jì)成覆 蓋光波導(dǎo)132的包層134。而且，光波導(dǎo)132的前端面與平板部150的前端面構(gòu)成為同一平 面，該前端面構(gòu)成朝向與光波導(dǎo)132的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度左右) 被切斷的鏡面132a。另外，在安裝平板部150與光波導(dǎo)132時(shí)，能夠在成型了平板部150后， 在平板部150中形成貫通孔，在該貫通孔內(nèi)安裝光波導(dǎo)132，或者在平板部150的成形時(shí)對(duì) 光波導(dǎo)132的前端部分進(jìn)行制模。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，構(gòu)成為在由光纖構(gòu)成的光波導(dǎo)132的前端部分設(shè)置與光 波導(dǎo)132分體的平板部150。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，除了上述第1實(shí)施方式的效果以外，僅構(gòu)成為在現(xiàn)有的光波導(dǎo)132中 設(shè)置平板部150，所以，即使在滑塊2 (參照?qǐng)D幻的外形由于各種滑塊2而不同的情況下，僅 變更平板部150的外形，就能夠容易地與該外形對(duì)應(yīng)。即，在針對(duì)各種滑塊2來安裝光波導(dǎo) 132時(shí)，根據(jù)各滑塊2的外形來形成平板部150，由此，能夠在滑塊2上固定光波導(dǎo)132，而不 依賴于光波導(dǎo)132的形狀。因此，能夠減少安裝工序數(shù)，并容易地固定在滑塊2上。并且， 僅構(gòu)成為在光波導(dǎo)132中設(shè)置平板部150，所以，能夠?qū)崿F(xiàn)構(gòu)造的簡化，并降低制造成本。(第4實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第4實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖14是第4實(shí)施方式的懸架單元的剖 面圖，圖15是滑塊的放大剖面圖。并且，圖16是相當(dāng)于圖14的H-H’線的剖面。如圖14、15所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)232與上述第3實(shí)施方式同樣，是使用光纖 的光波導(dǎo)232，其具有單模光纖(以下稱為SM光纖)90、與SM光纖90的前端側(cè)連接的漸 變折射率光纖(graded index fiber)(以下稱為GI光纖)91、以及與GI光纖91的前端側(cè) 連接的沒有包層的光纖92 (參照?qǐng)D15)。SM光纖90由與上述第3實(shí)施方式相同的構(gòu)成材料構(gòu)成，具有芯部135和包層134。GI光纖91是如下的光纖在傳播光束L的場(chǎng)內(nèi)，其中心的折射率大于外周的折射 率，隨著從中心朝向徑向外側(cè)，折射率連續(xù)減小。由此，在GI光纖91內(nèi)，以正弦波的光路來 傳播光束L。S卩，通過調(diào)整GI光纖91的長度，能夠調(diào)整從GI光纖91出射的光束L的出射角。在本實(shí)施方式中，GI光纖91的長度被設(shè)定為，通過GI光纖91使從SM光纖90的芯部 135出射的光束L成為準(zhǔn)直光并出射。另外，也可代替GI光纖91或SM光纖90，使用用于 將光束L的振動(dòng)面保持為恒定方向的偏振保持光纖。偏振保持光纖在包層內(nèi)，內(nèi)裝有用于 從芯部的兩側(cè)對(duì)芯部施加應(yīng)力的應(yīng)力施加部件，由此，能夠在芯部內(nèi)僅流通特定方向的線 偏振光。沒有包層的光纖92僅由與構(gòu)成上述SM光纖90的芯部135相同的構(gòu)成材料構(gòu)成， 利用與長度方向垂直的剖面整體來傳播從GI光纖91出射的光束L。由此，從GI光纖91出 射的準(zhǔn)直光在平行狀態(tài)下向沒有包層的光纖92的流出端側(cè)傳播。而且，沒有包層的光纖92 的前端面朝向與沒有包層的光纖92的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度)被切 斷，該切斷面構(gòu)成用于向與導(dǎo)入方向不同的方向反射在沒有包層的光纖92內(nèi)傳播的光束L 的鏡面92a。該鏡面92a以使光束L的朝向大致改變90度的方式，反射在沒有包層的光纖 92內(nèi)傳播的光束L，準(zhǔn)直光朝向點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40入射。另外，鏡面92a也可以構(gòu)成為通過 蒸鍍法等形成由鋁等構(gòu)成的反射板。這里，如圖14、16所示，在光波導(dǎo)232的前端部分、即滑塊2與襯墊部17b之間，以 覆蓋光波導(dǎo)232的方式設(shè)有平板部250。而且，平板部250中的與滑塊基板60的粘接面?zhèn)?(下表面?zhèn)?設(shè)有使SM光纖90的包層134的外周面平面狀露出的平坦面250a。關(guān)于該平 坦面250a，平板部250中的與滑塊基板60的粘接面在厚度方向上被研磨到使包層134露 出的位置，從滑塊2的基端側(cè)到前端面、即GI光纖91和沒有包層的光纖92，形成有平坦面 250a。而且，對(duì)平坦面250a與滑塊基板60的粘接面進(jìn)行粘接，由此，固定滑塊2和光波導(dǎo) 232。而且，由沒有包層的光纖92的鏡面9 反射的光束L (準(zhǔn)直光)在通過平坦面250a 與點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40的邊界部時(shí)，進(jìn)行透射而不是折射。即，相對(duì)于平坦面250a與點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn) 換器40的邊界部垂直通過的光束L在邊界部中直線前進(jìn)，入射到點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，除了發(fā)揮與上述第3實(shí)施方式相同的效果以外，在光波導(dǎo) 232中采用GI光纖91，所以，通過調(diào)整GI光纖91的長度，能夠自由地設(shè)定光束L的出射角。并且，在GI光纖91的前端連接有沒有包層的光纖92，所以，在沒有包層的光纖92 內(nèi)，利用其整體來傳播光束L，所以，能夠在維持從GI光纖91入射的入射角的情況下延長光 路。因此，光波導(dǎo)232的光路調(diào)整變得容易。即，能夠通過設(shè)定GI光纖91的長度，優(yōu)化入 射到點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40的光束L。進(jìn)而，形成使包層134(光波導(dǎo)23 的外周面平面狀露出的平坦面250a，由此，鏡 面9 與點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40之間的邊界面為平坦面。由此，在準(zhǔn)直光通過平坦面250a的情 況下，不折射而直線前進(jìn)。因此，能夠調(diào)整光束L的出射角來優(yōu)化針對(duì)滑塊2的入射光的點(diǎn)形狀，能夠在點(diǎn)尺 寸轉(zhuǎn)換器40中高效地產(chǎn)生點(diǎn)光。(第5實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第5實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖17是第5實(shí)施方式的滑塊的剖面圖。 另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第4實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖17所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)332將GI光纖191的長度設(shè)定為比第4實(shí)施 方式的GI光纖91 (參照?qǐng)D15)的長度長。即，將GI光纖191的長度設(shè)定為，從GI光纖191 的前端向沒有包層的光纖92出射的光束L會(huì)聚。具體而言，在鏡面92a中反射后，在頭波導(dǎo)(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)140的波導(dǎo)芯部148內(nèi)設(shè)定焦點(diǎn)。該情況下，不需要在滑塊2上設(shè)置用 于使光束L會(huì)聚的透鏡或SSC芯部48等。即，頭波導(dǎo)140的波導(dǎo)芯部148與上述第1實(shí)施 方式的SSC芯部48不同，在從基端側(cè)朝向前端側(cè)的方向上，與長度方向(Z方向)垂直的截 面積相同。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，除了發(fā)揮與上述第4實(shí)施方式相同的效果以外，對(duì)GI光纖 191的長度進(jìn)行設(shè)定以使光束L會(huì)聚，由此，不需要SSC芯部48，所以，能夠降低制造成本。(第6實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第6實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖18是第6實(shí)施方式的懸架單元的剖 面圖，圖19是示出第6實(shí)施方式的光波導(dǎo)的前端部分的立體圖。另外，在以下的說明中，對(duì) 與上述第5實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖18、19所示，在本實(shí)施方式中，在滑塊2的長度方向的中途部配置點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換 器(未圖示)。該情況下，在光波導(dǎo)332的前端部分形成的平板部350由第1平板部351和配置于 第1平板部351的前端面的第2平板部352構(gòu)成。第1平板部351在滑塊2與襯墊部17b 之間，配置在從滑塊2的基端面到中途部的區(qū)域，其前端面朝向與光波導(dǎo)332的軸方向(延 伸方向)交叉的方向(例如45度)被切斷，構(gòu)成鏡面四加。即，光波導(dǎo)332的鏡面四加形 成為位于點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器的正上方。在鏡面四加上，通過蒸鍍法等成膜有鋁等高反射率的金 屬材料。另一方面，第2平板部352構(gòu)成為，在第1平板部351的前端側(cè)即鏡面四加的前 端側(cè)，以嵌入滑塊2與襯墊部17b之間的方式，充填與第1平板部351相同的構(gòu)成材料。另 外，如果利用高反射率的金屬材料來形成第2平板部，則能夠使與第1平板部之間的邊界面 成為鏡面。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，即使在滑塊2的中途部存在點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器的情況下，在光 波導(dǎo)332的前端側(cè)，在滑塊2與襯墊部17b之間也不會(huì)產(chǎn)生間隙。因此，能夠發(fā)揮與第4實(shí) 施方式相同的效果，并且，即使在滑塊2的前端面?zhèn)葲]有配置點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器的情況下，也能 夠?qū)?yīng)于點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器的配置位置來容易地引導(dǎo)光波導(dǎo)332。(第7實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第7實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖20是第7實(shí)施方式的頭懸架組件的 立體圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略 說明。如圖20所示，在彎曲件25的支承體118上設(shè)有支承光波導(dǎo)132的多個(gè)支承部件 400、401。這些支承部件400、401是形成有能夠具有間隙地插入光波導(dǎo)132的貫通孔的部 件，將光波導(dǎo)132支承為能夠相對(duì)于滑塊2的移動(dòng)而在長度方向上移動(dòng)。多個(gè)支承部件400、401中的支承部件401以圍繞光波導(dǎo)132周圍的方式，使在與 沿著支承體118的長度方向的方向垂直的方向上形成的舌部52折曲來形成。在本實(shí)施方式中，伴隨信息記錄再現(xiàn)裝置1動(dòng)作時(shí)的滑塊2和承載梁M的姿勢(shì)變 動(dòng)，光波導(dǎo)132也能夠沿著長度方向移動(dòng)。因此，在浮起時(shí)(動(dòng)作時(shí))不對(duì)滑塊2作用來自 光波導(dǎo)132的力，能夠使滑塊2穩(wěn)定地浮起。并且，即使在光波導(dǎo)132以軸方向?yàn)橹行脑谂?轉(zhuǎn)方向上作用有力的情況下，通過支承部件400、401，光波導(dǎo)132也僅被約束在軸直角方向上，所以，不對(duì)滑塊2作用來自光波導(dǎo)132的力。并且，在彎曲件25的支承體118上形成舌 部52，僅通過折曲舌部52，就能夠支承光波導(dǎo)132，所以，能夠利用簡易的結(jié)構(gòu)可靠地支承 光波導(dǎo)132。(第8實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第8實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖21是示出第8實(shí)施方式的光波導(dǎo)的 前端部分(平板部)的立體圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu) 標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖21所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)532與上述第1實(shí)施方式同樣，與平板部550 一體形成。而且，在該平板部550的基端側(cè)、即光波導(dǎo)532與平板部550的連接部501中， 平板部550的截面形狀形成為隨著朝向基端側(cè)而減小。具體而言，平板部550的連接部501 形成為，隨著朝向基端側(cè)，寬度方向(X方向)的長度逐漸縮小。而且，連接部501的側(cè)面具 有規(guī)定的曲率半徑R的曲面。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，平板部550與光波導(dǎo)532的連接部501的截面形狀形成為逐漸減小， 由此，能夠分散對(duì)連接部501作用的應(yīng)力。由此，能夠防止連接部501由于使用時(shí)的滑塊2 的姿勢(shì)變動(dòng)等或制造時(shí)針對(duì)連接部501的應(yīng)力集中而發(fā)生故障。另外，連接部501形狀能夠適當(dāng)設(shè)計(jì)變更，例如形成為朝向基端側(cè)直線變細(xì)的錐 形形狀等。并且，在上述實(shí)施方式中，連接部501形成為，隨著朝向基端側(cè)，寬度方向(X方 向)的長度逐漸縮小，但是，也可以形成為高度方向(Z方向)的長度逐漸縮小，或者形成為 寬度方向和高度方向的長度均逐漸縮小。進(jìn)而，在上述第8實(shí)施方式中，對(duì)一體形成光波導(dǎo) 532和平板部550的情況進(jìn)行了說明，但是不限于此，也可以如上述第3實(shí)施方式那樣，分體 設(shè)置光波導(dǎo)132和平板部150。(第9實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第9實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖22是示出本發(fā)明的第9實(shí)施方式的 相當(dāng)于圖7的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同 的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖22所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)632與上述第1實(shí)施方式的不同之處在于，芯 部635的與延伸方向垂直的剖面( 平面)形成為長方形狀。更加詳細(xì)地說明時(shí)，芯部635 被設(shè)定為，在^平面中長邊和短邊的長度不同，在使其長邊方向與Y方向一致、且短邊方向 與Z方向一致的狀態(tài)下形成。該情況下，如果芯部635的長邊長度超過短邊長度的1倍，則 當(dāng)然能夠發(fā)揮本發(fā)明的效果，更加優(yōu)選為1.1倍以上(即長寬比為1.1 1以上)。這樣，在芯部635的TL平面中使長邊和短邊的長度不同，由此，能夠?qū)⒐馐鳯的振 動(dòng)面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài)下向滑塊2弓丨導(dǎo)光束L (單一偏振 保持)。該情況下，能夠通過與上述各實(shí)施方式的剖面為正方形狀的芯部35的制造方法相 同的制造方法，來制造本實(shí)施方式的芯部635。即，在利用半導(dǎo)體工藝統(tǒng)一制造光波導(dǎo)632 和電氣布線31時(shí)，僅適當(dāng)變更芯部635的膜厚，因此，能夠防止制造成本的增加和制造效率 的降低。另外，如圖23所示，也可以采用在H平面中使芯部735的長邊與Z方向一致、且 短邊與Y方向一致的光波導(dǎo)732。通過該結(jié)構(gòu)，也能夠發(fā)揮與上述效果相同的效果。并且， 雖然沒有圖示，但是，芯部的截面形狀不限于長方形狀，只要是橢圓形狀等的扁平形狀，就能夠適當(dāng)設(shè)計(jì)變更。該情況下，只要芯部的長軸為短軸的1倍以上即可，更加優(yōu)選設(shè)定為長 軸與短軸之比為1 1.1以上。即，只要芯部形成為與延伸方向(X方向)垂直的2個(gè)方向 (Y方向、Z方向)的長度分別不同即可。(第10實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第10實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖M是示出本發(fā)明的第10實(shí)施方式 的相當(dāng)于圖3的1-1’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的 結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖M所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)832在包層34中的芯部35的Y方向兩側(cè)形成 有一對(duì)隧道部801。這些隧道部801是配置成從兩側(cè)夾持芯部35的空間，與芯部35的延伸 方向平行地延伸。即，隧道部801是在包層34內(nèi)形成的與延伸方向垂直的剖面( 平面) 俯視為矩形狀的空間，在其內(nèi)部填充有空氣或適當(dāng)?shù)臍怏w。另外，隧道部801內(nèi)也可以保持 真空。即，隧道部801的折射率大約為1。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，發(fā)揮與上述第1實(shí)施方式相同的效果，并且，通過在芯部 35的兩側(cè)配置隧道部801，由此，能夠?qū)⒐馐鳯的振動(dòng)面保持為恒定方向(單一偏振保持)。 因此，能夠在芯部35內(nèi)僅流通特定方向的線偏振光，所以，能夠優(yōu)化針對(duì)滑塊2的入射光的 點(diǎn)形狀，能夠在點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40中高效地產(chǎn)生點(diǎn)光。另外，隧道部801的截面形狀不限于矩形狀，也可以采用圓形等的各種形狀。并 且，隧道部801的數(shù)量也可以設(shè)置2個(gè)以上的多個(gè)。進(jìn)而，隧道部801的布局也能夠適當(dāng)設(shè) 計(jì)變更，例如在芯部35的X方向兩側(cè)配置一對(duì)，或者以包圍芯部35周圍的方式進(jìn)行配置寸。(第11實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第11實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖沈是示出本發(fā)明的第11實(shí)施方式 的相當(dāng)于圖3的Α-Α’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的 結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖沈所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)932在包層34中的芯部35的Y方向兩側(cè)形成 有一對(duì)應(yīng)力施加部901。這些應(yīng)力施加部901是配置成從兩側(cè)夾持芯部35的剖面為矩形狀 的部件，與芯部35的延伸方向平行地延伸。作為應(yīng)力施加部901的形成材料，能夠采用線膨脹系數(shù)與構(gòu)成光波導(dǎo)932的材料 不同的材料，例如鋁、鎳等的金屬或液晶聚合物等的合成樹脂等。該情況下，由于應(yīng)力施加 部901與包層34的相對(duì)熱膨脹/熱收縮，在與芯部35的延伸方向垂直的方向上作用有壓 縮應(yīng)力。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，與上述第2實(shí)施方式同樣，通過在芯部35的Y方向兩側(cè)配 置應(yīng)力施加部901，由此，均等地從兩側(cè)對(duì)芯部35作用有壓縮應(yīng)力。該壓縮應(yīng)力使芯部35 產(chǎn)生雙折射性，能夠?qū)⒐馐鳯的振動(dòng)面保持為恒定方向，所以，能夠在維持線偏振光的狀態(tài) 下向滑塊2引導(dǎo)光束L。另外，作為應(yīng)力施加部901的制造方法，除了上述方法以外，還能夠通過以下的方 法來形成。即，在包層34的形成材料中使用石英玻璃等，對(duì)該包層34的應(yīng)力施加部901的 形成區(qū)域照射離子束，由此，僅照射區(qū)域局部為高密度。由此，離子束的照射區(qū)域成為應(yīng)力 施加部901，從該應(yīng)力施加部901朝向芯部35作用有壓縮應(yīng)力。該情況下，壓縮應(yīng)力不由于溫度變化而變化，所以，沒有溫度依賴性，能夠形成可靠性高的應(yīng)力施加部901。并且，與上述第2實(shí)施方式的隧道部801同樣，應(yīng)力施加部901的截面形狀不限于 矩形狀，也可以采用圓形等的各種形狀。并且，應(yīng)力施加部901的數(shù)量也可以設(shè)置2個(gè)以上 的多個(gè)。進(jìn)而，應(yīng)力施加部901的布局能夠適當(dāng)設(shè)計(jì)變更，例如在芯部35的X方向兩側(cè)配 置一對(duì)，或者以包圍芯部35周圍的方式進(jìn)行配置等。進(jìn)而，作為應(yīng)力施加部的結(jié)構(gòu)，除了上述結(jié)構(gòu)以外，還能夠采用以下所示的結(jié)構(gòu)。 例如如圖26所示，光波導(dǎo)1032具有在包層34的表面(與盤面Dl的相對(duì)面)上配置的應(yīng) 力施加部1001。該應(yīng)力施加部1001由與上述應(yīng)力施加部901相同的形成材料構(gòu)成，配置在 芯部35的正上方。該情況下，在從芯部35的上方對(duì)芯部35進(jìn)行壓縮的方向上，從應(yīng)力施 加部1001作用有應(yīng)力。由此，能夠發(fā)揮與上述第3實(shí)施方式相同的效果。并且，根據(jù)該結(jié) 構(gòu)，僅是在包層34上配置應(yīng)力施加部1001的簡單結(jié)構(gòu)，所以，能夠防止制造效率的增加。 (第12實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第12實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖27是示出本發(fā)明的第12實(shí)施方式 的頭懸架組件的前端部分的放大立體圖，圖28是沿著圖27的1-1’線的剖面圖。另外，在 以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。在本實(shí)施 方式中，與上述各實(shí)施方式的不同之處在于，分割構(gòu)成本發(fā)明的定位部和光波導(dǎo)。如圖27、28所示，本實(shí)施方式的定位部1100配置在滑塊2的背面2c (滑塊2中的 與襯墊部17b (參照?qǐng)D8)的相對(duì)面)上。具體而言，定位部1100在滑塊2的X方向兩側(cè)設(shè) 置一對(duì)，是分別具有沿著Y方向形成的平坦面的平板狀部件。這一對(duì)定位部1100的基端面 和兩側(cè)面分別與滑塊2的基端面和兩側(cè)面構(gòu)成為同一平面，另一方面，定位部1100的前端 面朝向與光波導(dǎo)232的軸方向(延伸方向)交叉的方向(例如45度左右)被切斷。S卩，定 位部1100的前端面與光波導(dǎo)232的前端面(鏡面92a)形成為同一平面。在一對(duì)定位部1100內(nèi)(各定位部1100之間)，在滑塊2的X方向中央部，沿著Y 方向從滑塊2的前端面到基端面形成有導(dǎo)向槽1101。而且，在該導(dǎo)向槽1101內(nèi)，以夾入定 位部1100之間的方式配置上述光波導(dǎo)232。具體而言，光波導(dǎo)232例如與上述第4實(shí)施方 式同樣，是在與滑塊2的粘接面?zhèn)染哂衅教姑?50a的光纖，在導(dǎo)向槽1101的寬度方向(X 方向)中央部，在導(dǎo)向槽1101的延伸方向與光波導(dǎo)232的延伸方向一致的狀態(tài)下，粘接固 定在滑塊2的背面2c。另外，導(dǎo)向槽1101的寬度只要設(shè)定為光波導(dǎo)232的直徑以上即可， 但是，比較窄的話容易定位，能夠沒有晃動(dòng)地在導(dǎo)向槽1101內(nèi)配置光波導(dǎo)232。在本實(shí)施方式中，在滑塊2上固定光波導(dǎo)232時(shí)，首先，在滑塊2的背面2c中的兩 側(cè)，在對(duì)滑塊2的端面與定位部1100的端面進(jìn)行了定位的狀態(tài)下，在滑塊2上粘接固定定 位部1100。然后，在形成于定位部1100之間的導(dǎo)向槽1101內(nèi)配置光波導(dǎo)232，并且，在對(duì) 光波導(dǎo)232的鏡面92a與定位部1100的前端面進(jìn)行了定位的狀態(tài)下，對(duì)光波導(dǎo)232和滑塊 2進(jìn)行粘接固定。由此，能夠在滑塊2上定位并固定光波導(dǎo)232。 根據(jù)本實(shí)施方式，發(fā)揮與上述實(shí)施方式相同的效果，并且，在滑塊2的背面2c配置 定位部1100，由此，僅通過在形成于兩者之間的導(dǎo)向槽1101內(nèi)配置光波導(dǎo)232，就能夠在滑 塊2上固定光波導(dǎo)232，所以，光波導(dǎo)232與滑塊2的位置對(duì)準(zhǔn)和固定變得容易。并且，分體 構(gòu)成定位部1100和光波導(dǎo)232，由此，能夠根據(jù)用途來固定各種光波導(dǎo)232，所以，能夠提高 設(shè)計(jì)的自由度。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為光波導(dǎo)，例如對(duì)采用第3實(shí)施方式的光纖的情況進(jìn) 行了說明，但是不限于此，也能夠采用上述各種光纖。并且，如圖29所示，能夠采用如上述第1實(shí)施方式那樣具有芯部35和與芯部35 密接并對(duì)芯部35進(jìn)行密封的包層34(均參照?qǐng)D7)的剖面為矩形狀的樹脂波導(dǎo)1232。該情 況下，樹脂波導(dǎo)1232的厚度(Z方向的厚度)需要與定位部1100的厚度相同，或者形成為 樹脂波導(dǎo)1232較薄。(第13實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第13實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖30是發(fā)明的第13實(shí)施方式的相當(dāng) 于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo) 注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。在上述第12實(shí)施方式中，對(duì)將本發(fā)明的定位部分割為一對(duì)定位 部1100并配置在滑塊2的背面2c的情況進(jìn)行了說明，但是不限于此，兩側(cè)的定位部也可以 在至少一部分連接。具體而言，如圖30所示，定位部1300具有與滑塊2的背面2c (參照?qǐng)D28)的外 形相同形狀的薄板部1301，在該薄板部1301的X方向兩側(cè)形成有向Z方向鼓出的鼓出部 1302。即，本實(shí)施方式的定位部1300的剖面形成為C字狀，在鼓出部1302之間形成的槽 作為光波導(dǎo)232的導(dǎo)向槽1303發(fā)揮功能。而且，在該導(dǎo)向槽1303的底部粘接固定光波導(dǎo) 232。另外，薄板部1301設(shè)于定位部1300的滑塊2側(cè)(圖30的下側(cè))，但是不限于此， 薄板部1301也可以設(shè)于定位部1300的滑塊2側(cè)的相反側(cè)(圖30的上側(cè))。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，除了發(fā)揮與上述實(shí)施方式相同的效果以外，與第12實(shí)施方式那樣分 割構(gòu)成定位部1100(參照?qǐng)D27)的情況相比，僅通過按照滑塊2的外形來配置定位部1300 的薄板部1301的背面，就能夠?qū)瑝K2和定位部1300進(jìn)行定位固定。由此，不需要進(jìn)行鼓 出部1302之間的位置對(duì)準(zhǔn)等，所以，更加簡單地進(jìn)行定位部1300與滑塊2的定位，光波導(dǎo) 232與滑塊2的位置對(duì)準(zhǔn)和固定變得容易。(第14實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第14實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖31是本發(fā)明的第14實(shí)施方式的相 當(dāng)于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注 相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。在上述實(shí)施方式中，對(duì)朝向滑塊2(參照?qǐng)D14)側(cè)配置光波導(dǎo)232 的平坦面250a的情況、即導(dǎo)向槽1303的底面與光波導(dǎo)232的平坦面250a抵接的情況進(jìn)行 了說明。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式中，如圖31所示，光波導(dǎo)232的平坦面250a在朝向襯墊 部17b (參照?qǐng)D14)側(cè)配置的狀態(tài)下被收納在導(dǎo)向槽1303內(nèi)。該情況下，平坦面250a與鼓 出部1302的表面(襯墊部17b側(cè))配置成同一平面。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，與上述第3實(shí)施方式同樣，僅通過按照滑塊2的外形來配置定位部 1300的背面(薄板部1301的背面)，就能夠?qū)瑝K2和定位部1300進(jìn)行定位固定。而且，光波導(dǎo)232的平坦面250a與鼓出部1302的表面配置成同一平面，所以，定 位部1300和光波導(dǎo)232與襯墊部17b的表面彼此抵接。即，在固定定位部1300和光波導(dǎo) 232與襯墊部17b時(shí)，光波導(dǎo)232的平坦面250a也作為與襯墊部17b進(jìn)行定位的定位部發(fā) 揮功能。因此，能夠容易且可靠地針對(duì)容易撓曲的襯墊部17b固定光波導(dǎo)232。
(第15實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的 第15實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖32是本發(fā)明的第15實(shí)施方式的光 波導(dǎo)的剖面圖，圖33是相當(dāng)于圖14的H-H’線的剖面圖。另外，在以下的說明中，對(duì)與上述 實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略說明。如圖32、33所示，本實(shí)施方式的光波導(dǎo)1432在包層134的外周面，形成有對(duì)在周 向上相對(duì)的位置(圖32中為Y方向)進(jìn)行研磨后的平坦面1433、1434。光波導(dǎo)1432被收 納在導(dǎo)向槽1101內(nèi)，以使平坦面1433、1434與定位部1100的表面和背面分別成為同一平面。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，首先，在包層134的外周面形成平坦面1434，由此，與上述第4實(shí)施方 式(參照?qǐng)D14)同樣，鏡面92a與點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40之間的邊界面為平坦面。由此，能夠調(diào) 整光束L的出射角來優(yōu)化針對(duì)滑塊2的入射光的點(diǎn)形狀，能夠在點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器40 (參照?qǐng)D 14)中高效地產(chǎn)生點(diǎn)光。并且，光波導(dǎo)1432的平坦面1433、1434與定位部1100的兩面配置成同一平面，所 以，光波導(dǎo)1432的平坦面1433、1434與滑塊2 (參照?qǐng)D14)和襯墊部17b的表面彼此分別 抵接。即，在滑塊2上固定定位部1100和光波導(dǎo)1432后，在襯墊部17b上進(jìn)行固定時(shí)，光 波導(dǎo)1432的平坦面1433也作為與襯墊部17b進(jìn)行定位的定位部發(fā)揮功能。因此，能夠容 易且可靠地針對(duì)容易撓曲的襯墊部17b固定光波導(dǎo)1432。另外，本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述各實(shí)施方式，還包含在不脫離本發(fā)明主旨的 范圍內(nèi)對(duì)上述實(shí)施方式施加各種變更后的實(shí)施方式。即，在上述實(shí)施方式中列舉的結(jié)構(gòu)等 只不過是一例，能夠適當(dāng)變更。例如，能夠適當(dāng)組合來采用上述各實(shí)施方式。并且，在上述實(shí)施方式中，以使滑塊浮起的空氣浮起類型的信息記錄再現(xiàn)裝置為 例進(jìn)行了說明，但是不限于該情況，只要與盤面相對(duì)配置，則盤與滑塊也可以接觸。即，本發(fā) 明的滑塊也可以是接觸滑塊類型的滑塊。該情況下，也能夠發(fā)揮相同的作用效果。并且，在上述實(shí)施方式中，對(duì)僅在臂部的單面?zhèn)仍O(shè)有頭懸架組件的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說 明，但是，也可以構(gòu)成為，以與各盤相對(duì)的方式在插入各盤之間的臂部的兩面分別設(shè)置頭懸 架組件。該情況下，通過設(shè)于臂部的兩面?zhèn)鹊念^懸架組件的各滑塊，能夠進(jìn)行與各滑塊相對(duì) 的盤面的信息的記錄再現(xiàn)。即，能夠通過1個(gè)臂部對(duì)2張盤的信息進(jìn)行記錄再現(xiàn)，所以，能 夠?qū)崿F(xiàn)信息記錄再現(xiàn)裝置的記錄容量的增加以及裝置的小型化。進(jìn)而，在上述各實(shí)施方式中，將本發(fā)明的定位部作為與滑塊2的上表面(XY平面) 的外形相同的平板部(例如平板部50)進(jìn)行了說明，但是不限于此，也可以形成為比平板部 大，還可以形成為比平板部小。例如，也可以將平板部的寬度和光波導(dǎo)的寬度形成為大致相 同的寬度。即，也可以在光波導(dǎo)的延長線上設(shè)置與該光波導(dǎo)的寬度大致相同的平板部。該 情況下，將平板部的上下表面(與滑塊2和襯墊部17b的粘接面)形成為平坦面，由此，針 對(duì)滑塊2的光波導(dǎo)的定位變得容易，能夠提高制造效率。產(chǎn)業(yè)上的可利用性在滑塊內(nèi)容易地將光波導(dǎo)配置到點(diǎn)光產(chǎn)生元件，由此，能夠降低加工成本和制造 成本并提高制造效率。標(biāo)號(hào)說明D 盤(記錄介質(zhì))；Dl 盤面(記錄介質(zhì)的表面)；1 信息記錄再現(xiàn)裝置；2 滑塊；3 懸浮體；10 樞軸；11 支架；12 頭懸架組件；14 臂部；17 懸架；17b 襯墊部(支承 部)；20:激光光源(光源)；32、132、232、332、532、632、732、832、932、1032、1432 光波導(dǎo)； 32a、132a、92a、292a 鏡面；34 包層；35,635,735 芯部；50、150、250、350、550 平板部； 60、160 滑塊基板；40 點(diǎn)尺寸轉(zhuǎn)換器(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)；91 =GI光纖(漸變折射率光纖)； 92 沒有包層的光纖；140 頭波導(dǎo)(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)；250a 平坦面；270 鏡基板；501 連接 部；801 隧道部；901,1001 應(yīng)力施加部；1101,1303 導(dǎo)向槽。
權(quán)利要求
1.一種頭懸架組件，該頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質(zhì)的表面延伸設(shè)置，并 且能夠在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質(zhì)的表面相對(duì)的方式配置在所述 懸浮體的前端側(cè)；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質(zhì)的相反側(cè)，在繞與所述 記錄介質(zhì)的表面平行且彼此垂直的2個(gè)軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導(dǎo)， 其與所述滑塊連接，將從光源出射的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述滑塊具有由所述光束產(chǎn)生點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件， 通過所述點(diǎn)光在所述記錄介質(zhì)中記錄信息， 所述頭懸架組件的特征在于，在所述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導(dǎo)與所述滑塊的定位的具有平坦 面的定位部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導(dǎo)具有芯部，其在全反射條件下引導(dǎo)從所述光源出射的所述光束；以及包 層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料構(gòu)成，與所述芯部密接而對(duì)所述芯部進(jìn)行密 封，所述定位部與所述包層一體形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導(dǎo)的至少一部分具有芯部，其在全反射條件下引導(dǎo)從所述光源出射的所述 光束；以及包層，其由折射率比所述芯部的折射率低的材料構(gòu)成，與所述芯部密接而對(duì)所述 芯部進(jìn)行密封，在所述包層的外周面，以覆蓋所述包層的方式，與所述包層分體地設(shè)置所述定位部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的頭懸架組件，其特征在于，所述平坦面的至少一部分屬于所述光波導(dǎo)，并且，與所述滑塊和所述支承部中的至少一方相對(duì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述定位部具有收納所述光波導(dǎo)的導(dǎo)向槽，所述光波導(dǎo)在所述導(dǎo)向槽內(nèi)被引導(dǎo)到所述點(diǎn)光產(chǎn)生元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求3 5中的任意一項(xiàng)所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述光波導(dǎo)的至少一部分包含漸變折射率光纖。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述光波導(dǎo)的至少一部分利用其整體來傳播光束。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述芯部的與該芯部的延伸方向垂直的截面的橫向?qū)挾群涂v向?qū)挾缺舜瞬煌?br> 9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于， 沿著所述芯部的延伸方向在所述包層上形成隧道部。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導(dǎo)具有應(yīng)力施加部，該應(yīng)力施加部用于在與所述芯部的延伸方向垂直的方向 上施加壓縮應(yīng)力。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的頭懸架組件，其特征在于， 以夾著所述芯部的兩側(cè)的方式配置所述應(yīng)力施加部。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述應(yīng)力施加部配置在所述包層的表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭懸架組件，其特征在于，所述光波導(dǎo)的前端面是朝向所述點(diǎn)光產(chǎn)生元件反射被導(dǎo)入所述光波導(dǎo)內(nèi)的所述光束 的鏡面。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于，在所述定位部的與所述滑塊接觸的接觸面?zhèn)?，且在所述鏡面與所述點(diǎn)光產(chǎn)生元件之 間，形成有使所述包層的外周面平面狀露出的平坦面。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述定位部是平板部。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的頭懸架組件，其特征在于，所述平板部的側(cè)面中的至少一部分與所述滑塊的側(cè)面中的至少一部分為同一平面。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的頭懸架組件，其特征在于， 所述平板部的寬度比所述光波導(dǎo)的寬度寬。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的頭懸架組件，其特征在于，所述頭懸架組件還具有連接部， 該連接部連接所述平板部和所述光波導(dǎo)，所述連接部隨著從所述平板部朝向所述光波導(dǎo)， 所述連接部的截面形狀減小。
19.一種信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有 權(quán)利要求1所述的頭懸架組件；在固定方向上旋轉(zhuǎn)的磁記錄介質(zhì)；光源，其出射光束，以對(duì)所述磁記錄介質(zhì)進(jìn)行加熱；樞軸，其配置在所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)；以及支架，其能夠繞所述樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，并且，具有支承所述頭懸架組件的臂部。
全文摘要
本發(fā)明提供頭懸架組件和具有該頭懸架組件的信息記錄再現(xiàn)裝置。該頭懸架組件具有懸浮體，其沿著記錄介質(zhì)的表面延伸設(shè)置，并且能夠在厚度方向上撓曲變形；滑塊，其以與所述記錄介質(zhì)的表面相對(duì)的方式配置在所述懸浮體的前端側(cè)；支承部，其在中間隔著所述滑塊的、所述記錄介質(zhì)的相反側(cè)，在繞與所述記錄介質(zhì)的表面平行且彼此垂直的2個(gè)軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如的狀態(tài)下支承所述滑塊；以及光波導(dǎo)，其與所述滑塊連接，將從光源出射的光束導(dǎo)入所述滑塊。所述滑塊具有根據(jù)所述光束產(chǎn)生點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件，通過所述點(diǎn)光在所述記錄介質(zhì)中記錄信息。在所述支承部與所述滑塊之間，配置有用于所述光波導(dǎo)與所述滑塊的定位的具有平坦面的定位部。
文檔編號(hào)G11B5/60GK102105932SQ20098012857
公開日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2009年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月23日
發(fā)明者大海學(xué), 平田雅一, 樸馬中, 田邊幸子 申請(qǐng)人:精工電子有限公司