專利名稱：信息記錄再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用光會聚而成的點(diǎn)光對磁記錄介質(zhì)記錄和再現(xiàn)各種信息的信息記 錄再現(xiàn)裝置。
背景技術(shù)：
近年來，伴隨計算機(jī)設(shè)備中的硬盤等的容量增加，單一記錄面內(nèi)的信息的記錄密 度增加。例如，為了使磁盤每單位面積的記錄容量增大，需要使面記錄密度提高。然而，伴 隨著記錄密度的提高，記錄介質(zhì)上每1比特所占的記錄面積變小。當(dāng)該比特尺寸變小時，1 比特的信息所具有的能量接近室溫的熱能，會產(chǎn)生所記錄的信息因為熱擾動等而反轉(zhuǎn)或消 失等熱退磁的問題。一般采用的面內(nèi)記錄方式是以磁化方向朝向記錄介質(zhì)的面內(nèi)方向的形式來進(jìn)行 磁記錄的方式，但是在該方式下，容易引起因上述熱退磁而導(dǎo)致的記錄信息的消失等。因 此，為了消除這樣的不良情況，正逐步向在垂直于記錄介質(zhì)的方向記錄磁信號的垂直記錄 方式轉(zhuǎn)移。該方式是對記錄介質(zhì)利用靠近單磁極的原理來記錄磁信息的方式。根據(jù)該方式， 記錄磁場朝向與記錄膜大致垂直的方向。關(guān)于利用垂直的磁場記錄的信息，由于在記錄膜 面內(nèi)N極和S極難以形成環(huán)路，所以在能量上容易保持穩(wěn)定。因此，該垂直記錄方式相對于 面內(nèi)記錄方式抗熱退磁能力變強(qiáng)。但是，近年來的記錄介質(zhì)為了滿足希望進(jìn)行更大量且高密度信息的記錄再現(xiàn)等需 要，要求進(jìn)一步高密度化。因此，為了將相鄰磁區(qū)之間的影響和熱擾動抑制到最小限度，開 始采用矯頑磁力強(qiáng)的材料作為記錄介質(zhì)。因此，即使是上述垂直記錄方式，也很難將信息記 錄在記錄介質(zhì)上。因此，為了消除該不良情況，提供了下述的混合磁記錄方式，即利用光會聚而成的 點(diǎn)光、或者光會聚而成的近場光對磁區(qū)進(jìn)行局部加熱以使矯頑磁力臨時降低、并在此期間 進(jìn)行寫入。特別是在利用近場光的情況下，能夠處理下述區(qū)域中的光學(xué)信息小于等于以往 光學(xué)系統(tǒng)中成為極限的光的波長的區(qū)域。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)超越現(xiàn)有的光信息記錄再現(xiàn)裝置 等的記錄比特的高密度化。作為基于上述混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置，提供有各種類型的信息記錄 再現(xiàn)裝置，作為其中之一，已知有如下的信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置通過向近 場光頭供給用于進(jìn)行近場光的生成的光，從而從微小開口生成足夠大的近場光，能夠?qū)崿F(xiàn) 超高分解能的再現(xiàn)記錄、高速記錄再現(xiàn)、高信噪比化。已知有如下結(jié)構(gòu)的該信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有能夠利用音圈 電機(jī)(VCM，Voice Coil Motor)等以樞軸承(pivot bearing)軸為中心進(jìn)行四角擺動的驅(qū) 動臂(支架(carriage))，在驅(qū)動臂的末端部，安裝有具有近場光頭的滑塊。該滑塊例如如 專利文獻(xiàn)1所示地具有單元基板，其與滑塊的ABS (Air Bearing Surface 空氣支承面) 側(cè)的面(浮起面)相反側(cè)的面、即滑塊的上表面接合；光源，其設(shè)于該單元基板；傳播層，其 設(shè)于單元基板的元件形成面上，并且包含從光源放射出的光的光路；以及透鏡部，其設(shè)于該傳播層，用于調(diào)整從光源放射出的光的傳播。對于上述的信息記錄再現(xiàn)裝置，通過使驅(qū)動臂以樞軸承軸為中心移動，從而使滑 塊在盤上掃描，并將滑塊配置于盤上的預(yù)期的位置。然后，通過使從光源放射出的近場光與 由滑塊產(chǎn)生的記錄磁場協(xié)同作用，從而能夠?qū)⑿畔⒂涗浀奖P中。此外，滑塊的空氣支承面構(gòu) 成為在因盤的起伏等而對滑塊施加風(fēng)壓時，以跟隨該風(fēng)壓的方式浮起。專利文獻(xiàn)1 日本特開2007-335027號公報然而，在上述現(xiàn)有的信息記錄再現(xiàn)裝置中，由于光源搭載于與滑塊的上表面接合 的單元基板，因此光源產(chǎn)生的熱直接傳導(dǎo)至滑塊，使得滑塊被加熱。當(dāng)滑塊被加熱，則存在 滑塊翹起、或者發(fā)生熱膨脹的可能。上述滑塊的空氣支承面構(gòu)成為在因盤的起伏等對滑塊 施加風(fēng)壓時，以跟隨該風(fēng)壓的方式浮起。該空氣支承面在滑塊翹起或因熱膨脹而變形時，存 在著滑塊的浮起特性發(fā)生變化的問題。此外，當(dāng)滑塊被加熱，則存在著對滑塊的再現(xiàn)元件的 特性等產(chǎn)生影響、無法高精度且準(zhǔn)確地控制信息的記錄再現(xiàn)的可能。對此，也考慮將光源配置于離開滑塊的位置，然而在該情況下，用于將從光源射出 的光束向滑塊導(dǎo)入的光波導(dǎo)的布置性又成為問題。具體來說，當(dāng)將光波導(dǎo)和電氣布線引繞至滑塊時，需要分別安裝光波導(dǎo)和電氣布 線，制造效率顯著降低。此外，在將從光源射出的光束引導(dǎo)到滑塊時，若在從光源到滑塊之間使光波導(dǎo)彎 曲并引繞的話，存在著通過光波導(dǎo)內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失增大、光傳播效率降低的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明正是考慮到這樣的情況而作出的，其目的在于提供一種信息記錄再 現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置不僅防止了制造效率的降低，而且能夠抑制由光源產(chǎn)生的熱 的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。為了解決上述課題，本發(fā)明提供以下手段。本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有磁記錄介質(zhì)， 所述磁記錄介質(zhì)向一定方向旋轉(zhuǎn)；光源，所述光源射出用于加熱所述磁記錄介質(zhì)的光束； 樞軸，所述樞軸配置于所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)；支架，所述支架形成為能夠繞所述樞軸轉(zhuǎn) 動；滑塊，所述滑塊以與所述磁記錄介質(zhì)的表面對置的方式支撐于所述支架的末端側(cè)；以 及控制部，所述控制部控制所述滑塊的動作，所述滑塊具有使從所述光源射出的光束會聚 的光學(xué)系統(tǒng)和利用會聚的所述光束產(chǎn)生點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件，通過所述點(diǎn)光加熱所述磁記 錄介質(zhì)，并且通過對所述磁記錄介質(zhì)施加記錄磁場來產(chǎn)生磁化反轉(zhuǎn)，使信息記錄于所述磁 記錄介質(zhì)，并且，所述信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)與多條電氣布線一體地形成的光電 復(fù)合布線，所述光波導(dǎo)將從所述光源射出的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述多條電氣布線將所述 滑塊與所述控制部電連接，所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)分支為所述光波導(dǎo)和所述電氣布線 并引繞至所述滑塊。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，通過使點(diǎn)光與記錄磁場協(xié)同作用的混合磁記錄 方式，能夠?qū)πD(zhuǎn)的光盤等磁記錄介質(zhì)進(jìn)行信息的記錄。首先，使被支撐于吊架的末端的滑 塊沿與磁記錄介質(zhì)的表面平行的方向相對于磁記錄介質(zhì)移動并掃描。由此，能夠使滑塊位 于磁記錄介質(zhì)上的希望的位置。接著，將從光源射出的光束引導(dǎo)至滑塊。并且，被引導(dǎo)到滑塊的光束由光學(xué)系統(tǒng)會聚。由此，點(diǎn)光產(chǎn)生元件能夠利用會聚的光束產(chǎn)生點(diǎn)光，另外，該點(diǎn) 光產(chǎn)生元件由光學(xué)的微小開口或形成為納米尺寸的突起部等構(gòu)成。并且，磁記錄介質(zhì)被該點(diǎn)光局部加熱，矯頑磁力臨時降低。其結(jié)果是，能夠使用滑 塊向記錄介質(zhì)記錄再現(xiàn)各種信息。特別是根據(jù)本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置，由于光波導(dǎo)和電氣布線作為光電復(fù)合布 線一體地形成，因此能夠同時安裝光波導(dǎo)和電氣布線，能夠防止制造效率的降低。由此，即 使是在將光源配置于從滑塊離開的位置的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線向滑塊引 繞，能夠抑制從光源產(chǎn)生的熱的影響。并且，通過使光電復(fù)合布線在末端側(cè)再分支，能夠以各不相同的路徑將光波導(dǎo)和 電氣布線引繞至滑塊，因此不存在向滑塊的引繞路徑受到限制的情況。即，與將光波導(dǎo)和電 氣布線以一體地形成的狀態(tài)下引繞至滑塊的結(jié)構(gòu)相比，能夠提高光波導(dǎo)和電氣布線的引繞 的自由度，因此能夠?qū)Ω鞑季€選擇最佳的引繞路徑。在該情況下，特別是由于能夠?qū)⒐獠▽?dǎo) 盡可能不彎曲地引繞至滑塊，因此能夠降低通過光波導(dǎo)內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失，能夠維持光 傳播效率。此外，通過使光波導(dǎo)和電氣布線分支并引繞至滑塊，由光波導(dǎo)和電氣布線作用于 滑塊的力不會集中，因此防止了對滑塊的姿勢控制產(chǎn)生阻礙的情況，對滑塊的浮起特性、導(dǎo) 引(tracking)的精度等的影響小。此外，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，從所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)到 所述滑塊為止的所述光波導(dǎo)的曲率半徑比所述電氣布線的曲率半徑大。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，通過將光波導(dǎo)的曲率半徑設(shè)定得比電氣布線的 曲率半徑大，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)盡可能不彎曲地向滑塊引繞。因此，能夠降低通過光波導(dǎo)內(nèi)的光 束的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。此外，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，在所述支架設(shè)有萬向架構(gòu)件，該萬 向架構(gòu)件將所述滑塊支撐為繞與所述磁記錄介質(zhì)的表面平行且相互正交的兩軸轉(zhuǎn)動自如 的狀態(tài)，在所述萬向架構(gòu)件設(shè)有舌片部，該舌片部從所述支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成 且在該舌片部的周圍具有缺口部，所述滑塊設(shè)于所述舌片部上，所述滑塊在所述支架的末 端側(cè)具有記錄元件和再現(xiàn)元件，所述電氣布線沿所述支架的表面從末端側(cè)引繞至所述滑 塊，所述光波導(dǎo)跨過所述缺口部從所述支架的基端側(cè)引繞至所述滑塊。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，由于從支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成有舌片 部，因此若將光波導(dǎo)沿支架的表面從末端側(cè)引繞滑塊，則光波導(dǎo)的彎曲增大。對此，在本發(fā) 明中，通過使光波導(dǎo)跨過缺口部從基端側(cè)引繞至滑塊，從而能夠使光波導(dǎo)盡可能不彎曲地 向滑塊引繞。另一方面，由于電氣布線即使彎曲也沒有問題，因此通過使電氣布線沿支架的 表面從末端側(cè)引繞至滑塊，能夠?qū)㈦姎獠季€相對于滑塊的記錄元件和再現(xiàn)元件直接連接。根據(jù)本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置，不僅防止了制造效率的降低，而且能夠?qū)⒐庠?離開滑塊地配置，能夠抑制由光源產(chǎn)生的熱的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。


圖1是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的一個實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。圖2是圖1所示的磁頭萬向架組件(Head Gimbal Assembly)的立體圖。
圖3是圖2所示的萬向架的俯視圖。圖4是沿圖3的E-E’線的剖視圖。圖5是圖1所示的接線(terminal)基板的俯視圖。圖6是沿圖3的A-A，線的剖視圖。圖7是沿圖3的B-B’線的剖視圖。圖8是第二實(shí)施方式的萬向架的俯視圖。圖9是沿圖8的F-F，線的剖視圖。圖10是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的其他實(shí)施方式的、沿相當(dāng)于圖3的A-A’ 線的剖視圖。圖11是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的其他實(shí)施方式的、沿相當(dāng)于圖3的A-A’ 線的剖視圖。
具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施方式)(信息記錄再現(xiàn)裝置)以下，參照圖1至圖7對本發(fā)明的第一實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖1是示出本發(fā)明的 信息記錄再現(xiàn)裝置1的第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。另外，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1 是對具有垂直記錄層的盤(磁記錄介質(zhì))D以垂直記錄方式進(jìn)行寫入的裝置。如圖1所示，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有支架11 ；激光光源20，其從 支架11的基端側(cè)經(jīng)由光電復(fù)合布線33供給光束；磁頭萬向架(HGA) 12，其被支撐于支架11 的末端側(cè)；致動器(actUator)6，其使磁頭萬向架組件12朝向與盤面Dl (盤D的表面)平行 的XY方向掃描移動；主軸電動機(jī)7，其使盤D向預(yù)定的方向旋轉(zhuǎn)；控制部5，其對磁頭萬向架 組件12的滑塊2供給根據(jù)信息調(diào)制過的電流；以及殼體9，其在內(nèi)部收納所述各構(gòu)成部件。殼體9是由鋁等金屬材料構(gòu)成且具有上部開口部的箱形形狀，該殼體9由俯視呈 四邊形形狀的底部9a和在底部9a的周緣相對于底部9a沿鉛直方向立著設(shè)置的周壁(未 圖示)構(gòu)成。并且，在由周壁包圍的內(nèi)側(cè)，形成有收納上述的各構(gòu)成部件等的凹部。另外， 在圖1中，為了使說明容易理解，省略了包圍在殼體9的周圍的周壁。此外，在該殼體9，以閉塞殼體9的開口的方式、能夠裝卸地固定有未圖示的蓋。在 底部9a的大致中心安裝上述主軸電動機(jī)7，通過將中心孔嵌入該主軸電動機(jī)7，從而盤D被 裝卸自如地固定。在盤D的外側(cè)、即底部9a的角落部安裝上述致動器6。在該致動器6安裝支架11， 該支架11能夠以樞軸10為中心相對于XY方向轉(zhuǎn)動。該支架11通過切削加工(削>9出L·加工)等而一體形成有臂部14和基部15，所 述臂部14從基端部朝向末端部沿盤面Dl延伸設(shè)置，所述基部15經(jīng)由基端部懸臂狀地支撐 臂部14?；?5形成為長方體形狀，并且被支撐成能夠繞樞軸10轉(zhuǎn)動。換句話說，基部15 經(jīng)由樞軸10與致動器6連結(jié)，該樞軸10成為支架11的旋轉(zhuǎn)中心。臂部14是在基部15的與安裝有致動器6的側(cè)面15a相反側(cè)的側(cè)面(角落部的相 反側(cè)的側(cè)面)15b、與基部15的上表面的表面方向(XY方向)平行地延伸的平板狀部件，并且沿基部15的高度方向(Z方向)延伸出三片臂部14。具體來說，臂部14形成為隨著從 基端部朝向末端部而逐漸變細(xì)的錐形形狀，并且以在各臂部14之間夾入盤D的方式進(jìn)行配 置。S卩，臂部14和盤D以交錯的方式配置，通過致動器6的驅(qū)動，臂部14能夠沿與盤D的 表面平行的方向(XY方向)移動。另外，支架11和磁頭萬向架組件12在盤D的旋轉(zhuǎn)停止 時通過致動器6的驅(qū)動而從盤D上退開。磁頭萬向架組件12為，向具有未圖示的近場光產(chǎn)生元件(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)的近場 光頭即滑塊2引導(dǎo)來自激光光源20的光束從而使近場光(點(diǎn)光)產(chǎn)生、并利用該近場光對 盤D記錄和再現(xiàn)各種信息的部件。另外，近場光產(chǎn)生元件例如由光學(xué)的微小開口、或者形成 為納米尺寸的突起部等構(gòu)成。圖2是在使滑塊2朝上的狀態(tài)下從滑塊2側(cè)觀察吊架3的立體圖。圖3是在使滑 塊2朝上的狀態(tài)下觀察萬向架17的俯視圖。圖4是沿圖3的E-E’線的剖視圖，是在使滑 塊2朝上的狀態(tài)下的吊架3末端的剖視圖。如圖2至圖4所示，本實(shí)施方式的磁頭萬向架組件12是起到使上述滑塊2從盤D 浮起的吊架的功能的部件，該磁頭萬向架組件12具有滑塊2 ；吊架3，其由金屬性材料形 成為薄的板狀，并且能夠沿與盤面Dl平行的XY方向移動；以及萬向架構(gòu)件16，其使滑塊2 固定于吊架3的下表面，并使滑塊2為繞與盤面Dl平行且相互正交的兩軸(X軸、Y軸)轉(zhuǎn) 動自如的狀態(tài)、即能夠以兩軸為中心扭轉(zhuǎn)。首先，上述滑塊2以配置于盤D和吊架3之間的狀態(tài)隔著后述的萬向架17支撐于 吊架3的下表面?；瑝K2具有固定于末端側(cè)的再現(xiàn)元件(未圖示)和與該再現(xiàn)元件相鄰地 固定的記錄元件(未圖示)。此外，滑塊2以中間夾著記錄元件的方式在再現(xiàn)元件的相反側(cè) 具有未圖示的會聚透鏡(光學(xué)系統(tǒng))，其使從激光光源20射出的光束會聚；以及上述近場 光產(chǎn)生元件，其利用由該會聚透鏡會聚的光束產(chǎn)生近場光。即，再現(xiàn)元件、記錄元件、近場光 產(chǎn)生元件以并列的狀態(tài)配置于滑塊2的末端部。此外，滑塊2的下表面成為與盤面Dl對置的浮起面加。該浮起面加是利用由旋轉(zhuǎn) 的盤D產(chǎn)生的空氣流的粘性來產(chǎn)生用于浮起的壓力的面，被稱作空氣支承面(Air Bearing Surface)。具體來說，設(shè)計成通過調(diào)整欲使滑塊2離開盤面Dl的正壓力和欲將滑塊2向 盤面Dl拉近的負(fù)壓，從而使滑塊2以最佳的狀態(tài)浮起?；瑝K2通過該浮起面加從盤面Dl受到浮起的力，并且通過吊架3受到向盤D側(cè) 按壓的力。并且，滑塊2通過所述兩者的力的平衡而從盤面Dl浮起。上述吊架3由形成為俯視呈大致四邊形形狀的底座板22和經(jīng)由鉸接板23與底座 板22的末端側(cè)連結(jié)的俯視呈大致三角狀的承載梁M構(gòu)成。底座板22由不銹鋼等厚度薄的金屬材料構(gòu)成，并且在基端側(cè)形成有沿厚度方向 貫通的開口 22a。并且，底座板22通過該開口 2 被固定于臂部14的末端。在底座板22的 下表面配置有由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成的薄板狀的鉸接板23。該鉸接板23是形成于底座 板22的下表面的整個面范圍的平板狀的部件，其末端部分形成為從底座板22的末端沿底 座板22的長邊方向延伸的延伸部23a。延伸部23a從鉸接板23的寬度方向兩端部延伸出 兩根，在所述延伸部23a的末端部分，形成有向?qū)挾确较騼?nèi)側(cè)、即向朝著對方的延伸部23a 的方向?qū)挾葦U(kuò)大的擴(kuò)大部23b。在該擴(kuò)大部23b的上表面連結(jié)承載梁M。承載梁M與底座板22同樣地由不銹鋼等厚度薄的金屬材料構(gòu)成，承載梁M的基端以與底座板22的末端之間具有間隙的狀態(tài)與鉸接板23連結(jié)。由此，吊架3容易以底座 板22和承載梁M之間為中心彎曲而朝向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲。在吊架3上設(shè)有彎曲件(flexUre)25。彎曲件25是由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成為薄 板狀的部件，通過形成為薄板狀從而構(gòu)成為能夠沿厚度方向撓曲變形。彎曲件25由以下部 件構(gòu)成萬向架17，其固定于承載梁M的末端側(cè)并且外形形成為俯視呈大致五邊形形狀； 以及支撐體18，其形成得比萬向架17寬度窄，該支撐體18從萬向架17的基端沿吊架3上 延伸。如圖3、圖4所示，萬向架17形成為從中間附近開始到末端朝向盤面Dl沿厚度方 向稍稍翹起。并且，以該翹起的末端側(cè)不與承載梁對接觸的方式，將萬向架17從基端側(cè)到 大致中間附近固定于承載梁對。此外，在該浮起狀態(tài)的萬向架17的末端側(cè)形成有周圍被挖通成“口”形狀的缺 口部沈，在被該缺口部沈包圍的部分，形成由連結(jié)部17a懸臂狀地支撐的凸緣部(舌片 部)17b。即，該凸緣部17b通過連結(jié)部17a從萬向架17的末端側(cè)朝向基端側(cè)伸出形成，在 該凸緣部17b的周圍具有缺口部沈。由此，凸緣部17b變得容易沿萬向架17的厚度方向撓 曲，以使得僅該凸緣部17b與吊架3的下表面平行的方式進(jìn)行角度調(diào)整。并且，上述滑塊2 載置固定于該凸緣部17b上。即，滑塊2形成為經(jīng)由凸緣部17b懸掛于承載梁M的狀態(tài)。此外，在承載梁對的末端形成有朝向凸緣部17b和滑塊2的大致中心突出的突起 部19。該突起部19的末端形成為帶有圓度的狀態(tài)。并且，突起部19形成為在滑塊2因 從盤D受到的風(fēng)壓而向承載梁M側(cè)浮起時，與凸緣部17b的表面(上表面)點(diǎn)接觸。該浮 起的力從突起部19傳遞到承載梁M，起到使該承載梁M撓曲的作用。此外，在因盤D的起 伏等對滑塊2施加朝向XY方向的風(fēng)壓時，滑塊2和凸緣部17b以突起部19為中心繞X軸 和Y軸兩軸扭轉(zhuǎn)。由此，能夠吸收由盤D的起伏引起的Z方向的移位(向與盤面Dl大致正 交的方向的移位)，使得滑塊2的姿勢穩(wěn)定。另外，這些突起部19和具有凸緣部17b的萬向 架17構(gòu)成萬向架構(gòu)件16。圖2所示的支撐體18是一體形成于萬向架17的薄板狀的部件，該支撐體18在吊 架3上朝向臂部14延伸設(shè)置。即，支撐體18構(gòu)成為在吊架3變形時跟隨吊架3的變形。支 撐體18從臂部14上繞到側(cè)面，并引繞至臂部14的基部15為止。圖5是安裝于支架11的基部15的接線基板30的俯視圖。如圖1、圖5所示，在支架11的基部15的側(cè)面15c配置接線基板30。該接線基板 30是作為對設(shè)于殼體9的控制部5與滑塊2電連接時的中繼點(diǎn)的部件，在該接線基板30的 表面形成有各種控制電路(未圖示)。控制部5與接線基板30由具有撓性的扁平電纜4電 連接，另一方面，接線基板30與滑塊2由電氣布線31連接。電氣布線31與設(shè)于每個支架 11的滑塊2的數(shù)量對應(yīng)地設(shè)有三組，從控制部5經(jīng)由扁平電纜4輸出的信號經(jīng)由電氣布線 31輸出到滑塊2。此外，在接線基板30上，配置朝向滑塊2的會聚透鏡供給光束的上述激光光源20。 激光光源20是經(jīng)由扁平電纜4接收從控制部5輸出的信號、并基于該信號射出光束的部 件，與設(shè)于各臂部14的滑塊2的數(shù)量對應(yīng)地沿基部15的高度方向(Z方向)排列有三個所 述激光光源20。各激光光源20的射出側(cè)與光波導(dǎo)32連接，所述光波導(dǎo)32將由各激光光源 20射出的光束引導(dǎo)至滑塊2的會聚透鏡。
圖6是沿圖3的A-A，線的剖視圖，圖7是沿圖3的B_B，線的剖視圖。如圖3和圖5至圖7所示，與各滑塊2對應(yīng)的一根光波導(dǎo)32和一組電氣布線31在 激光光源20和滑塊2之間作為從基端側(cè)到末端一體地形成的光電復(fù)合布線33構(gòu)成。該光 電復(fù)合布線33從接線基板30的表面通過臂部14的側(cè)面并引繞到臂部14上。具體來說， 光電復(fù)合布線33在臂部14和吊架3上配置于彎曲件25的上述支撐體18 (參照圖2)上， 并以中間夾著支撐體18的狀態(tài)引繞至吊架3的末端。這樣，由于光電復(fù)合布線33配置于 能夠撓曲變形的支撐體18上，因此，在滑塊2的姿勢變化時、吊架3變形時等，隨著支撐體 18的姿勢變化，光電復(fù)合布線33也隨之變形。由此，能夠防止光電復(fù)合布線33的斷線等。構(gòu)成光電復(fù)合布線33的上述光波導(dǎo)32具有芯部35，其厚度形成為例如3 IOym,并且按全反射條件弓I導(dǎo)從激光光源20射出的光束；以及包層34 (clad)，其由折射率 比芯部35的折射率低的材料構(gòu)成且厚度形成為例如數(shù)十μ m,該包層34與芯部35緊密貼 合并封裝芯部35。并且，從激光光源20射出的光束由于芯部35與包層34之間的折射率的 不同而按照全反射條件被引導(dǎo)至滑塊2的會聚透鏡。另外，記載作為包層34和芯部35使用的材料的組合的一個例子如下，例如可以考 慮以PMMA (甲基丙烯酸甲酯樹脂)形成厚度為3 10 μ m的芯部35，并以含有氟的聚合物 形成厚度為數(shù)十Pm的包層34。此外，也可以是芯部35和包層34均由環(huán)氧樹脂(例如，芯 部折射率為1.522 1.523，包層折射率為1. 518 1. 519)構(gòu)成，或者均由氟化聚酰亞胺 構(gòu)成。此外，由于芯部35與包層34的折射率差越大則將光束封在芯部35內(nèi)的力越大，因 此，優(yōu)選調(diào)整構(gòu)成芯部35和包層34的樹脂材料的配合等來增大兩者的折射率差。例如，在 采用氟化聚酰亞胺的情況下，可以通過調(diào)整氟含量或者通過同步加速器輻射(Synchrotron Radiation)等的能量照射來控制折射率。此外，電氣布線31由鋁或銅等構(gòu)成，與芯部35 —起被封在包層34內(nèi)。如圖6和圖7所示，光電復(fù)合布線33在包層34的寬度方向( 平面)的剖視中 心處配置光波導(dǎo)32的芯部35，并從光波導(dǎo)32的兩側(cè)方以夾持光波導(dǎo)32的方式各配置兩根 電氣布線31。S卩，光電復(fù)合布線33以芯部35為中心對稱地構(gòu)成。這樣，芯部35和電氣布 線31均被包層34封裝，從而構(gòu)成為一體地形成光波導(dǎo)32和電氣布線31的光電復(fù)合布線 33。在此，如圖3所示，光電復(fù)合布線33在吊架3的末端、具體來說是在萬向架17的 中間位置分支為電氣布線31和光波導(dǎo)32，從該分支地點(diǎn)C到滑塊2為止的光波導(dǎo)32的曲 率半徑變得比電氣布線31的曲率半徑大。具體來說，光波導(dǎo)32從光電復(fù)合布線33的末端側(cè)的分支地點(diǎn)C沿萬向架17的長 度方向延伸，并跨過萬向架17的缺口部沈直接連接于滑塊2的基端側(cè)。光波導(dǎo)32在光電 復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C離開萬向架17的下表面，并隨著從分支地點(diǎn)C向滑塊2的基端 側(cè)、以架設(shè)在凸緣部17b和萬向架17之間的方式以稍稍翹起的狀態(tài)延伸。S卩，在萬向架17 的下表面，光波導(dǎo)32以大致直線地(曲率半徑大致無限大)延伸的狀態(tài)引繞至滑塊2的基 端面?zhèn)?。引繞至滑塊2的基端面?zhèn)鹊墓獠▽?dǎo)32在滑塊2內(nèi)經(jīng)由會聚透鏡與設(shè)于滑塊2的 末端面?zhèn)鹊慕鼒龉猱a(chǎn)生元件連接。另一方面，在分支地點(diǎn)C處，電氣布線31向萬向架17的外周部分彎曲，并從萬向 架17的外周部分、即缺口部沈的外側(cè)引繞。接著，從缺口部沈的外側(cè)引繞過的電氣布線31通過連結(jié)部17a上而與滑塊2的末端面?zhèn)冗B接。即，電氣布線31相對于設(shè)在滑塊2的末 端面?zhèn)鹊纳鲜鲈佻F(xiàn)元件、記錄元件，從滑塊2的外部直接連接。然而，由于如上所述地從萬向架17的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成有凸緣部17b，因 此如果以沿萬向架17上從萬向架17的末端側(cè)、即缺口部沈的外側(cè)繞入的方式將光波導(dǎo)32 引繞至滑塊2的話，則光波導(dǎo)32的彎曲變大。與此相對地，在本實(shí)施方式中，通過從萬向架17的基端側(cè)跨過缺口部沈而將光波 導(dǎo)32引繞至滑塊2，從而能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32直接連接于設(shè)在凸緣部17b上的滑塊2。由此， 能夠以最短距離從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C引繞至滑塊2，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32盡可能不 彎曲地向滑塊2引繞。另一方面，由于電氣布線31即使彎曲也不會有問題，因此通過將電 氣布線31從缺口部沈的外側(cè)引繞至滑塊2，能夠?qū)㈦姎獠季€31相對于滑塊2的記錄元件 和再現(xiàn)元件直接連接。另外，在光電復(fù)合布線33中，通過使光波導(dǎo)32的構(gòu)成材料采用如上所述的樹脂材 料，能夠通過半導(dǎo)體工藝(process)制造光電復(fù)合布線33。將該光電復(fù)合布線33形成于彎 曲件25上，并將彎曲件25安裝于吊架3和支架11。對利用了半導(dǎo)體工藝的本實(shí)施方式的光電復(fù)合布線33的制造方法更為具體地進(jìn) 行說明。首先，在滑塊2的配置區(qū)域和缺口部沈的形成區(qū)域預(yù)先涂布由樹脂材料等構(gòu)成的 犧牲層。接著，在作為彎曲件25的板材上以覆蓋犧牲層的方式涂布包層34的構(gòu)成材料后， 通過光刻技術(shù)等形成圖案。接著，在包層34上通過濺射法、化學(xué)氣相沉積(CVD)法等使電 氣布線31的構(gòu)成材料成膜，并作為多條電氣布線31形成圖案。然后，在電氣布線31之間、 即包層34的TL平面的中心涂布芯部35的構(gòu)成材料后，形成圖案，并再次涂布包層34的構(gòu) 成材料。然后，通過形成圖案，從而能夠形成本實(shí)施方式的光電復(fù)合布線33。然后，在通過蝕刻等將形成于滑塊2的配置區(qū)域和缺口部沈的形成區(qū)域的犧牲層 除去后，利用沖壓加工等沖壓出彎曲件25的形狀。此時，通過也沖壓缺口部沈的形成區(qū)域， 從而形成光波導(dǎo)32懸浮在缺口部沈與凸緣部17b之間的狀態(tài)。然后，將形成有光電復(fù)合 布線33的彎曲件25安裝于吊架3和支架11。這樣，借助于以樹脂材料構(gòu)成的包層34使光波導(dǎo)32和電氣布線31 —體地形成， 從而能夠在半導(dǎo)體工藝中一并形成這些部分。并且，通過利用半導(dǎo)體工藝制造光電復(fù)合布 線33，與分體形成光波導(dǎo)32和電氣布線31的情況相比，從量產(chǎn)的容易度來看，不僅能夠使 制造效率提高，而且能夠使加工精度提高。此外，能夠?qū)崿F(xiàn)制造成本的降低。接著，對利用如此構(gòu)成的信息記錄再現(xiàn)裝置1在盤D上記錄和再現(xiàn)各種信息的步 驟在下面進(jìn)行說明。首先，驅(qū)動主軸電動機(jī)7使盤D向預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)。接著，使致動器6動作，使支架 11以樞軸10為旋轉(zhuǎn)中心轉(zhuǎn)動，并經(jīng)由支架11使磁頭萬向架組件12沿XY方向掃描。由此， 能夠使滑塊2位于盤D上的希望的位置。在此，由于支架11的基部15構(gòu)成為能夠繞樞軸10轉(zhuǎn)動，因此臂部14以樞軸10 為旋轉(zhuǎn)中心沿與盤面Dl平行的方向移動。此時，通過在基部15的接線基板30上設(shè)置激光 光源20，與將激光光源20搭載于滑塊2的情況相比，在滑塊2移動時作用于支架11的力矩 小。因此，能夠維持導(dǎo)引(tracking)的精度。此外，接線基板30是作為將控制部5與滑塊 2電連接時的中繼點(diǎn)，電氣布線31以接線基板30為基點(diǎn)引繞至滑塊2。S卩，通過將激光光源20配置于接線基板30上，從而光波導(dǎo)32與電氣布線31的基端部彼此接近，能夠容易地 形成光電復(fù)合布線33。接著，使光束從激光光源20入射至光波導(dǎo)32 (光電復(fù)合布線33)，將光束引導(dǎo)至 滑塊2。在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，向滑塊2的會聚透鏡供給光束的激光光 源20設(shè)于滑塊2的基部15的接線基板30上。在該情況下，從激光光源20射出的光束被 從光電復(fù)合布線33的芯部35的一端側(cè)導(dǎo)入芯部35內(nèi)，并在芯部35與包層34的邊界反復(fù) 全反射、同時向滑塊2傳播。此時，在芯部35內(nèi)傳播的光束在滑塊2內(nèi)由會聚透鏡會聚，逐 漸收縮為點(diǎn)的大小。由此，在近場光產(chǎn)生元件的周圍以滲出的方式產(chǎn)生近場光。此外，由于 芯部35以與保持34緊密貼合的狀態(tài)被封裝，因此傳播的光束不會在途中漏到芯部35的外 部。由此，能夠?qū)?dǎo)入的光束高效地形成為近場光而不浪費(fèi)。此外，入射了近場光的盤D被該近場光局部地加熱而矯頑磁力臨時降低。另一方 面，通過控制部5向滑塊2的記錄元件供給電流的話，能夠利用電磁鐵的原理產(chǎn)生相對于盤 D的垂直方向的記錄磁場。其結(jié)果是，能夠通過使近場光與由記錄元件產(chǎn)生的記錄磁場協(xié)同 作用的混合磁記錄方式進(jìn)行信息的記錄。與此相對地，在使記錄于盤D的信息再現(xiàn)的時候，與記錄元件相鄰地固定的再現(xiàn) 元件受到從盤D漏出的磁場的作用，并且該再現(xiàn)元件的電阻根據(jù)該磁場的大小而改變。因 而，再現(xiàn)元件的電壓變化。由此，控制部5能夠?qū)谋PD漏出的磁場的變化作為電壓的變化 檢測出。并且，控制部5通過根據(jù)該電壓的變化進(jìn)行信號的再現(xiàn)，由此能夠進(jìn)行信息的再 現(xiàn)。這樣，能夠利用滑塊2相對于盤D記錄和再現(xiàn)各種信息。在此，滑塊2由吊架3支撐并且被以預(yù)定的力向盤D側(cè)按壓。此外，與此同時，滑 塊2的浮起面加與盤D對置，因此滑塊2受到由旋轉(zhuǎn)的盤D產(chǎn)生的風(fēng)壓的影響而受到浮起 的力?；瑝K2通過所述兩者的力的平衡而成為浮置于從盤D上離開的位置的狀態(tài)。此時，由于滑塊2受到風(fēng)壓并被向吊架3側(cè)推壓，因此，固定滑塊2的萬向架17的 凸緣部17b與形成于吊架3的突起部19處于點(diǎn)接觸的狀態(tài)。并且，該浮起的力經(jīng)由突起部 19傳遞到吊架3，并以使該吊架3向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲的方式進(jìn)行作用。由此，如 上所述地，滑塊2浮起。另外，由于在吊架3經(jīng)由鉸接板23連結(jié)有底座板22和承載梁對， 因此吊架3容易以底座板22和承載梁M之間為中心撓曲。此外，滑塊2即使受到因盤D的起伏而產(chǎn)生的風(fēng)壓(朝向XY方向的風(fēng)壓)，也會經(jīng) 由與萬向架構(gòu)件16、即與突起部19的末端點(diǎn)接觸的凸緣部17b而繞XY軸扭轉(zhuǎn)。由此，能夠 吸收由起伏產(chǎn)生的Z方向的移位，能夠使浮起時的滑塊2的姿勢穩(wěn)定。這樣，在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，為光波導(dǎo)32與電氣布線31作為光 電復(fù)合布線33 —體地形成的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于光波導(dǎo)32與電氣布線31作為光電復(fù)合布線33 —體地形成，因 此能夠同時安裝光波導(dǎo)32和電氣布線31，能夠防止制造效率的降低。即，即使是在將激光 光源20配置于從滑塊2離開的位置的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線33引繞至滑 塊2。此外，由于光波導(dǎo)32與電氣布線31 —體地形成，因此無需像以往那樣考慮每條布 線的引繞的布局，能夠提高光電復(fù)合布線33的安裝的自由度。由此，由于能夠提高光電復(fù)合布線33的布局性，因此即使是在將激光光源20配置于從滑塊2離開的位置、如上所述接 線基板30上的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線33引繞至滑塊2。由此，在光束供給時從激光光源20產(chǎn)生的熱傳導(dǎo)至滑塊2的可能性極小，能夠抑 制從激光光源20產(chǎn)生的熱的影響。然而，在將激光光源20配置于控制部5的情況下，將光波導(dǎo)設(shè)于扁平電纜4。如果 該扁平電纜4彎曲變形的話，則存在導(dǎo)光損失增大的問題。在本實(shí)施方式中，由于將激光光 源20設(shè)于支架11的基部15，因此無需在扁平電纜4設(shè)置光波導(dǎo)，因此能夠抑制導(dǎo)光損失。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中，由于能夠如上所述地提高光電復(fù)合布線33的布局性，因 此光電復(fù)合布線33的彎曲小。由此，能夠降低通過光電復(fù)合布線33的光波導(dǎo)32內(nèi)的光束 的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。特別是在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，為光電復(fù)合布線33的末端側(cè)分支 為光波導(dǎo)32和電氣布線31并引繞至滑塊2的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過使光電復(fù)合布線33在末端側(cè)再分支，能夠分別以不同的路徑將 光波導(dǎo)32和電氣布線31引繞至滑塊2，因此不存在向滑塊2的引繞路徑受到限制的情況。 即，與將光波導(dǎo)32和電氣布線31以一體地形成的狀態(tài)引繞至滑塊2的結(jié)構(gòu)相比，能夠提高 光波導(dǎo)32和電氣布線31的引繞的自由度，因此能夠?qū)Ω鞑季€(光波導(dǎo)32和電氣布線31) 選擇最佳的引繞路徑。在該情況下，通過將光波導(dǎo)32的曲率半徑設(shè)定得比電氣布線31的 曲率半徑大，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32盡可能不彎曲地引繞至滑塊2。由此，能夠降低通過光波導(dǎo) 32內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。因此，不僅防止了制造效率的降低，而且能夠使激光光源20離開滑塊2而配置，能 夠抑制由激光光源20產(chǎn)生的熱的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。并且，能夠防止因 滑塊2的熱膨脹、翹起等的影響而使滑塊2變形。此外，能夠維持滑塊2的再現(xiàn)元件的特性。在此，通過將芯部35和電氣布線31以同一包層34封裝，與將光波導(dǎo)32和電氣布 線31分體形成的情況相比，能夠縮小芯部35與各電氣布線31之間、各電氣布線31彼此之 間的間隔。此外，由于也無需對每個電氣布線31包覆絕緣材料等，因此能夠?qū)崿F(xiàn)光電復(fù)合 布線33的小型輕量化。此外，由于能夠通過包層34確保電氣布線31之間的絕緣性，因而 各電氣布線31的引繞變得容易。進(jìn)而，通過在包層34的剖面的大致中心配置芯部35，并且將電氣布線31以芯部 35為中心地對稱配置，因此，多條電氣布線31分散在芯部35的兩側(cè)方。由此，與僅將電氣 布線31集中在芯部35的單側(cè)的情況相比，能夠確保電氣布線31的引繞空間，因此能夠提 高各電氣布線31之間的布局性。因此，芯部35和電氣布線31朝滑塊2的連接變得容易， 并且光電復(fù)合布線33對滑塊2作用的力變得均等。此外，通過使光波導(dǎo)32和電氣布線31分支地弓I繞至滑塊2，使得光波導(dǎo)32和電氣 布線31對滑塊2作用的力不會集中。因此，防止了光電復(fù)合布線33 (光波導(dǎo)32和電氣布線31)妨礙滑塊2的姿勢控制 的情況，對滑塊2的浮起特性、導(dǎo)引的精度等的影響小。(第二實(shí)施方式)接著，對本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說明。在本實(shí)施方式中，從光電復(fù)合布線的分 支地點(diǎn)到滑塊之間的光波導(dǎo)32的引繞路徑與上述的第一實(shí)施方式不同。另外，在以下的說明中，對與上述第一實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)以相同的符號并省略說明。圖8是第二實(shí)施方式的萬向架的俯視圖，圖9是沿圖8的F-F’線的剖視圖。如圖8所示，在萬向架17和承載梁M形成有沿萬向架17和承載梁M的厚度方 向貫通的貫通孔101。該貫通孔101形成得比光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C靠萬向架17 的末端側(cè)，并且是在使萬向架17的貫通孔101和承載梁M重合了狀態(tài)下形成的。此外，在 萬向架17的連結(jié)部17a和凸緣部17b的根部部分，形成有沿萬向架17的厚度方向貫通的 貫通孔102。在此，從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C分支出的光波導(dǎo)132通過貫通孔101內(nèi)并 夾著萬向架17和承載梁M引繞至滑塊2的相反側(cè)。并且，通過貫通孔101內(nèi)的光波導(dǎo)132 沿承載梁124的長邊方向延伸設(shè)置，并插入貫通孔102內(nèi)。插入貫通孔102內(nèi)的光波導(dǎo)132 從滑塊2的浮起面加的相反側(cè)與滑塊2直接連接。即，從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C 分支出的光波導(dǎo)132通過貫通孔101、102內(nèi)、引繞到滑塊2的浮起面加的相反側(cè)的表面， 由此與滑塊2連接。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，使光波導(dǎo)132通過貫通孔101、102，從而能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)132 直接引繞至滑塊2的末端側(cè)，能夠起到與上述第一實(shí)施方式相同的效果。另外，本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述的實(shí)施方式，還包括在不脫離本發(fā)明的主旨 的范圍內(nèi)對上述實(shí)施方式進(jìn)行了各種變更的實(shí)施方式。即，上述實(shí)施方式所舉出的結(jié)構(gòu)等 只不過是一個例子，能夠進(jìn)行適當(dāng)變更。例如，如圖10所示，也可以是在光電復(fù)合布線33和彎曲件25之間設(shè)置襯底膜50 的結(jié)構(gòu)。該襯底膜50由聚酰亞胺等具有絕緣性的材料構(gòu)成，由此能夠更為可靠地確保電氣 布線31與彎曲件25之間的絕緣性。此外，在上述實(shí)施方式中，如圖11所示，對將電氣布線31以光波導(dǎo)32為中心對稱 地配置的情況進(jìn)行了說明，然而電氣布線31和光波導(dǎo)32的布局能夠適當(dāng)設(shè)計變更。例如， 如圖9所示，也可以從包層34的寬度方向( 平面)的一端側(cè)開始將光波導(dǎo)32與電氣布 線31依次排列地配置。進(jìn)而，在上述的實(shí)施方式中，如圖6所示，對將光波導(dǎo)32和電氣布線31以相同材 料的包層34封裝的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說明，然而只要是將光波導(dǎo)32與電氣布線31 —體地形成， 也可以將芯部35與電氣布線31以互不相同的構(gòu)成材料進(jìn)行封裝。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于能夠 利用互不相同的構(gòu)成材料封裝芯部35和電氣布線31，因此能夠自由地選擇最適于用于封 裝芯部35和電氣布線31的條件的構(gòu)成材料。此外，在上述實(shí)施方式中，對從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C分支出兩根電氣布 線31的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說明，然而不限于此，也可以分支出1根或者三根以上電氣布線31。此外，在上述實(shí)施方式中，以使滑塊浮起的氣浮式的信息記錄再現(xiàn)裝置為例進(jìn)行 了說明，然而不限于此情況，只要是與盤面對置配置，使盤與滑塊接觸也可以。即，本發(fā)明的 滑塊也可以是接觸滑動式的滑塊。在該情況下，也能夠起到相同的作用效果。此外，在上述實(shí)施方式中，對僅在臂部的單面?zhèn)仍O(shè)有磁頭萬向架組件的結(jié)構(gòu)進(jìn)行 了說明，然而也可以是在插入到各盤之間的臂部的兩表面以與各盤對置的方式分別設(shè)置磁 頭萬向架組件的結(jié)構(gòu)。在該情況下，通過設(shè)于臂部的兩表面?zhèn)鹊拇蓬^萬向架組件的各滑塊， 能夠?qū)εc各滑塊對置的盤面的信息進(jìn)行記錄和再現(xiàn)。即，能夠以一個臂部對兩張盤的信息進(jìn)行記錄和再現(xiàn)，因此能夠?qū)崿F(xiàn)信息記錄再現(xiàn)裝置的記錄容量的增加以及裝置的小型化。標(biāo)號說明C 分支地點(diǎn)；D 盤(磁記錄介質(zhì))；Dl 盤面(磁記錄介質(zhì)的表面)；1 信息記錄 再現(xiàn)裝置；2 滑塊；5 控制部；10 樞軸；11 支架(carriage) ；16 萬向架構(gòu)件；17b 凸緣 (pad)部(舌片部)；20 激光光源(光源)；26 缺口部；31 電氣布線；32,132 光波導(dǎo)；33 光電復(fù)合布線。
權(quán)利要求
1.一種信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有磁記錄介質(zhì)，所述磁記錄介質(zhì)向一定方向旋轉(zhuǎn)；光源，所述 光源射出用于加熱所述磁記錄介質(zhì)的光束；樞軸，所述樞軸配置于所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)； 支架，所述支架形成為能夠繞所述樞軸轉(zhuǎn)動；滑塊，所述滑塊以與所述磁記錄介質(zhì)的表面對 置的方式支撐于所述支架的末端側(cè)；以及控制部，所述控制部控制所述滑塊的動作，所述滑塊具有使從所述光源射出的光束會聚的光學(xué)系統(tǒng)和利用會聚的所述光束產(chǎn)生 點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件，通過所述點(diǎn)光加熱所述磁記錄介質(zhì)，并且通過對所述磁記錄介質(zhì)施加記錄磁場來產(chǎn)生 磁化反轉(zhuǎn)，使信息記錄于所述磁記錄介質(zhì)，所述信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)和多條電氣布線一體地形成的光電復(fù)合布線，所 述光波導(dǎo)將從所述光源射出的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述多條電氣布線將所述滑塊與所述控 制部電連接，所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)分支為所述光波導(dǎo)和所述電氣布線并引繞至所述 滑塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，從所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)到所述滑塊為止的所述光波導(dǎo)的曲率半徑比所述電氣 布線的曲率半徑大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，在所述支架設(shè)有萬向架構(gòu)件，該萬向架構(gòu)件將所述滑塊支撐為繞與所述磁記錄介質(zhì)的 表面平行且相互正交的兩軸轉(zhuǎn)動自如的狀態(tài)，在所述萬向架構(gòu)件設(shè)有舌片部，該舌片部從 所述支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成，且在該舌片部的周圍具有缺口部，所述滑塊設(shè)于所 述舌片部上，所述滑塊在所述支架的末端側(cè)具有記錄元件和再現(xiàn)元件，所述電氣布線沿所述支架的表面從末端側(cè)引繞至所述滑塊，所述光波導(dǎo)跨過所述缺口 部從所述支架的基端側(cè)引繞至所述滑塊。
全文摘要
本發(fā)明涉及信息記錄再現(xiàn)裝置，其通過利用近場光加熱盤并對盤施加記錄磁場從而產(chǎn)生磁化反轉(zhuǎn)，將信息記錄到盤上。該信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)(32)與多條電氣布線(31)一體地形成的光電復(fù)合布線(33)，所述光波導(dǎo)(32)將從激光光源射出的光束導(dǎo)入滑塊(2)，所述多條電氣布線(31)將滑塊(3)與控制部電連接。光電復(fù)合布線(33)的末端側(cè)分支為光波導(dǎo)(32)和電氣布線(31)并引繞至滑塊(2)。
文檔編號G11B5/60GK102047328SQ20098012027
公開日2011年5月4日 申請日期2009年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月2日
發(fā)明者大海學(xué), 平田雅一, 樸馬中, 鈴木瑞明 申請人:精工電子有限公司