專利名稱：磁頭裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁頭(HEAD)裝置，該磁頭裝置具有形成磁元件的滑塊(SLIDER)和用于支持上述滑塊的支持體，本發(fā)明特別是關(guān)于能正確地維持上述滑塊的上述支持體上的位置的結(jié)構(gòu)的磁頭裝置。
背景技術(shù)：
圖12是表示以往磁頭裝置的局部分解解立體圖。
滑塊30由例如氧化鋁-碳化鈦(ALUMINA-TITAN-CARBIDE)(Al2O3-TiC)等陶瓷材料(CERAMIC)形成，在滑塊30的被拖動(TRAILING)側(cè)端面30b上，形成有磁元件1和電極部P。
磁元件1是使用濺射(SPUTTERING)技術(shù)而薄膜形成的，例如通過將具有以自旋閥(SPIN-VALVE)膜為代表的GMR元件或AMR元件的磁阻效應(yīng)元件的MR頭(再生頭)、和記錄用的感應(yīng)頭(INDUCTIVE-HEAD)層疊而構(gòu)成。
構(gòu)成磁元件1的感應(yīng)頭的線圈層(圖中未示)，通過引線(LEAD)層(圖中未示)與電極部P連接。另外，從電極部P給MR頭輸送檢測電流。
支持體10由支持滑塊30的彎曲部(FLEXURE)11和支持該彎曲部11的承載梁(LOAD-BEAM)12構(gòu)成。承載梁12由不銹鋼等板簧材料形成。承載梁12上，在其兩側(cè)端部形成有彎折部12a，該彎折部12a部分是具有剛性的結(jié)構(gòu)。在彎折部12a的終端12a1到承載梁12的基端區(qū)域12c形成有沒有彎折部12a的板簧功能部12d，借助于該板簧功能部12d的彈力，滑塊30被彈性地支持在記錄媒體上。承載梁12的基端區(qū)域12c是安裝(MOUNT)部，該安裝部被安裝在硬盤裝置側(cè)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(圖中未示)上。
在彎曲部11的尖端部上，通過在彎曲部11上切口而形成有舌片部15。在該舌片部15上，通過由紫外線硬化性樹脂及熱硬化性樹脂構(gòu)成的粘結(jié)劑14及導(dǎo)電性樹脂13，固定滑塊30。此外，導(dǎo)電性樹脂13用于在滑塊30與彎曲部11之間進(jìn)行導(dǎo)通。在舌片部15上形成有與滑塊電極部P連接的電極連接部16。
記錄媒體通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部的作用而開始旋轉(zhuǎn)時，空氣流被導(dǎo)引至滑塊30與記錄媒體的表面之間，使滑塊30在記錄媒體上以規(guī)定間隔上浮的同時進(jìn)行移動。
另外，專利文獻(xiàn)1(實(shí)開平5-79763號公報(bào))及專利文獻(xiàn)2(實(shí)公平6-4456號公報(bào))中記載了用于保持滑塊的懸浮體(SUSPENSION)的尖端部分夾持滑塊的結(jié)構(gòu)。
專利文獻(xiàn)1日本實(shí)開平5-79763號公報(bào)(圖2)專利文獻(xiàn)2日本實(shí)公平6-4456號公報(bào)(圖5、圖6)。
但是，上述以往的磁頭裝置所存在的問題是很難穩(wěn)定滑塊距離記錄媒體的上浮量。
如圖12所示，將滑塊30用樹脂固定在彎曲部11的舌片部15上的方法，很難均勻地涂敷樹脂，另外，粘接工序等制造工序及磁頭裝置的使用時，樹脂有變形的可能性。隨著近年來記錄媒體的高記錄密度化，要求記錄/再生用的磁頭盡可能地接近記錄媒體并上浮。具體地說，磁頭據(jù)距記錄媒體的上浮量達(dá)到9nm～10nm的程度。磁頭的上浮量達(dá)到這種極小值時，粘接滑塊30與彎曲部11的舌片部15的樹脂的輕微變形，都會引起上浮量變化，導(dǎo)致磁頭裝置的記錄再生特性變化。
另外，近年來，隨著再生用磁頭的高感度化，再生用磁頭對靜電的耐力變?nèi)?。雖然導(dǎo)電性樹脂13是用于滑塊30與彎曲部11之間的導(dǎo)通，但是，經(jīng)由導(dǎo)電性樹脂的接地(EARTH)，很難保護(hù)耐靜電性弱的再生用磁頭免受靜電的影響。
另外，專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2記載的磁頭裝置，由于是從橫向夾持滑塊的，所以，滑塊與懸浮體(彎曲部)之間很容易產(chǎn)生間隙，磁頭的上浮量很容易發(fā)生變動。特別是，專利文獻(xiàn)2中雖然記載了用形狀記憶合金夾持滑塊的結(jié)構(gòu)，但是利用這種結(jié)構(gòu)，因周圍環(huán)境溫度的變化，會引起滑塊的固定力發(fā)生變動。
發(fā)明的內(nèi)容本發(fā)明就是為了解決上述以往的問題提出的，其目的是提供一種能抑制磁頭距記錄媒體的上浮量的變化，可穩(wěn)定記錄再生特性的磁頭裝置。
本發(fā)明的磁頭裝置，包括具有記錄和/或再生用磁元件的滑塊；及支持上述滑塊的支持部件。通過從上述支持部件側(cè)延伸的卡止部向上述支持部件側(cè)按壓上述滑塊，將上述滑塊固定在上述支持部件上。
在本發(fā)明中，借助于上述卡止部將上述滑塊按壓在上述支持部件上，由此固定滑塊。在本發(fā)明中，滑塊的固定不使用粘結(jié)劑，而將上述滑塊機(jī)械地按壓固定在上述支持部件上，因此，上述滑塊與支持部件之間的距離變動最小。從而，在磁頭從記錄媒體上浮的狀態(tài)下，很容易將掃描記錄媒體時的上浮量控制在規(guī)定的范圍。
另外，當(dāng)上述滑塊及上述支持部件具有導(dǎo)電性時，通過將上述滑塊按壓在上述支持部件側(cè)，使上述滑塊的電接地成為可能。在本發(fā)明中，由于使上述滑塊與上述支持部件側(cè)直接接觸，所以，電荷可迅速地流至地線，可抑制磁頭的靜電破壞。
最好是，在上述滑塊的側(cè)面部，形成有凹部或凸部，上述卡止部向上述支持部件側(cè)按壓上述凹部或凸部，由此將上述滑塊固定在上述支持部件上。
最好是，上述滑塊具有六面體結(jié)構(gòu)，上述六面體的一個側(cè)面部為設(shè)置有電極部的電極面，與該電極面相接的兩個側(cè)面部上形成有上述凹部或凸部。
因此，上述滑塊的形成上述凹部或凸部的兩個側(cè)面部的上述支持部件上的位置，通過由卡止部對上述滑塊的按壓固定來限制。
另外，上述滑塊的上述電極面通過導(dǎo)電連接部與設(shè)置在上述支持部件上的電極連接部相連，由此限制上述電極面在上述支持部件上的位置。
進(jìn)一步，與上述六面體的上述電極面相對置的側(cè)面部的上述支持部件上的位置通過從上述支持部件延伸的限制部來限制。
在本發(fā)明中，例如，上述卡止部的尖端部或側(cè)面部上形成有以彎曲加工而成的彎折部，根據(jù)從該彎折部的尖端部或側(cè)面部施加的力的上述支持部件方向的分力，將上述滑塊按壓固定在上述支持部件上。
可以將上述卡止部形成為與上述支持部件一體的、例如切口部形狀。或者也可以將上述卡止部與上述支持部件分別地形成。
發(fā)明的效果在本發(fā)明中，滑塊的固定不使用粘結(jié)劑，而將上述滑塊機(jī)械地按壓固定在上述支持部件上，因此，上述滑塊與支持部件之間的距離變動少。從而，在磁頭從記錄媒體上浮的狀態(tài)下，很容易將掃描記錄媒體時的上浮量控制在規(guī)定的范圍內(nèi)。
另外，當(dāng)上述滑塊及上述支持部件具有導(dǎo)電性時，通過將上述滑塊按壓在上述支持部件側(cè)，上述滑塊的電接地成為可能。在本發(fā)明中，由于將上述滑塊與上述支持部件側(cè)直接接觸，所以，可以使電荷迅速地流至地線，可抑制磁頭的靜電破壞。


圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭裝置的局部分解立體圖。
圖2是本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭裝置的局部立體圖。
圖3是搭載有滑塊的彎曲部(支持部件)周圍的局部放大立體圖。
圖4是表示圖1至圖3所示滑塊的立體圖。
圖5是組裝前的彎曲部的俯視圖。
圖6是將圖3沿6-6線剖開并從箭頭方向觀察時的剖面圖。
圖7是表示第一實(shí)施方式磁頭裝置的滑塊在記錄媒體上上浮掃描的狀態(tài)的局部側(cè)視圖。
圖8是本發(fā)明第二實(shí)施方式磁頭裝置的滑塊向彎曲部上的固定結(jié)構(gòu)的剖面圖。
圖9是本發(fā)明第三實(shí)施方式磁頭裝置的滑塊的立體圖。
圖10是圖9所示滑塊向彎曲部上的固定結(jié)構(gòu)的剖面圖。
圖11是表示第四實(shí)施方式磁頭裝置的滑塊在記錄媒體上上浮掃描的狀態(tài)的局部側(cè)視圖。
圖12是以往磁頭裝置的局部分解立體圖。
具體實(shí)施例方式
圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式磁頭裝置的局部分解立體圖，圖2是本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭裝置的局部立體圖，圖3是搭載有滑塊的彎曲部(支持部件)周圍的局部放大立體圖，圖4是滑塊103是立體圖，圖5是組裝前的彎曲部的俯視圖，圖6是將圖3沿6-6線剖開并從箭頭方向觀察時的剖面圖，圖7是表示第一實(shí)施方式磁頭裝置的滑塊在記錄媒體上上浮掃描的狀態(tài)的局部側(cè)視圖。
支持體110由支持滑塊103的彎曲部111和支持該彎曲部111的承載梁112構(gòu)成。彎曲部111及承載梁112由不銹鋼等板簧材料形成。承載梁112上，其兩側(cè)端部形成有彎折部112a，該彎折部112a部分是有剛性的結(jié)構(gòu)。彎折部112a的終端112a1到承載梁112的基端區(qū)域112c，形成由沒有彎折部112a的板簧功能部112d，滑塊103借助于該板簧功能部112d的彈力而彈性地支持在記錄媒體上。承載梁112的基端區(qū)域112c是安裝部，該安裝部被安裝在硬盤裝置側(cè)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(圖中未示)上。
在彎曲部111的尖端部上，通過在彎曲部111上切口而形成有舌片部115?；瑝K103固定在該舌片部115上?；瑝K30由例如氧化鋁-碳化鈦(Al2O3-TiC)等陶瓷(CERAMIC)材料形成。
如圖4所示，滑塊103具有六面體結(jié)構(gòu)，六面體的一個側(cè)面部為設(shè)置有電極部的電極面103a。在電極面103a上形成有磁元件101和電極部P(圖1中省略)。此外，電極面103a是被拖動的側(cè)端面。
磁元件101是使用濺射技術(shù)而薄膜形成的，例如通過將具有以自旋閥膜為代表的GMR元件或AMR元件的磁阻效應(yīng)元件的MR頭(再生頭)、和記錄用的感應(yīng)頭層疊而構(gòu)成。構(gòu)成磁元件101的感應(yīng)頭的線圈層(圖中未示)，通過引線層(圖中未示)與電極部P1、P1連接。從電極部P2、P2給MR頭供給檢測電流，并且從電極部P2、P2得到MR頭的再生磁信號。在與該電極面103a相接的兩個側(cè)面部103b、103b上形成有凹部103b1、103b1。
在滑塊103的側(cè)面部形成有凹部103b1，從彎曲部111的舌片部115延伸的卡止部116向彎曲部111側(cè)按壓凹部103b，由此將滑塊103固定在彎曲部111上(圖2、圖3、圖6))))。
這樣，通過卡止部116對滑塊103的按壓固定，來限制形成有滑塊103的凹部103b1的兩個側(cè)面部103b、103b在彎曲部111上的位置。
在圖5所示的彎曲部111的尖端部切口形成的舌片部115的一部分上切入而使該部分翹起，形成有對卡止部116、116及滑塊103的導(dǎo)向(LEADING)側(cè)端面103c進(jìn)行定位的限制部117。此外，在圖5中，記載了與滑塊103的電極部P1、P1連接的電極連接部120a、120a及與電極部P2、P2連接的電極連接部120b、120b以及與這些電極連接部連接的配線118、119。向電極部連接部120連接的配線118、119在圖1、圖2、圖3中省略了圖示。
從圖6的剖面圖可以看出，卡止部116的尖端部成為彎曲加工而成彎折部116a。從該彎折部116a的尖端部116a1施加給滑塊凹部103b1的力在舌片部115方向(彎曲部111的方向)的分力，將滑塊103按壓固定到舌片部115(彎曲部111)上。
另外，從圖7的側(cè)視圖可以看出，滑塊103的電極面103a的電極部P通過導(dǎo)電連接部(球焊、BALL-BONDING)121與設(shè)置在舌片部115(彎曲部111)上的電極連接部120相連接，由此可限制電極面(被拖動的側(cè)端面)103a在彎曲部111上的位置。
進(jìn)一步，滑塊103的導(dǎo)向側(cè)端面103c(與電極面103a相對置的側(cè)面部)的彎曲部111上的位置，借助于從彎曲部111的舌片部115延伸的限制部117來限制。此外，限制滑塊103的導(dǎo)向側(cè)端面103c的彎曲部111上位置的限制部形狀并不僅限于圖7所示的形狀，也可以是圖11所示的具有折彎形狀的限制部122。在這種情況下，借助于彎折部的隆起部122a，來限制滑塊103的導(dǎo)向側(cè)端面103c在彎曲部111上的位置。
當(dāng)記錄媒體D通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部的作用而開始旋轉(zhuǎn)時，空氣流被導(dǎo)入滑塊103的與記錄媒體相對置的面103d和記錄媒體D的表面之間，使滑塊103在記錄媒體D上以規(guī)定間隔δ1上浮的同時進(jìn)行移動。
在本發(fā)明中，滑塊103通過卡止部116被按壓在彎曲部111上，由此固定滑塊103。在本發(fā)明中，滑塊103的固定不使用粘結(jié)劑，而將滑塊103機(jī)械地按壓固定在彎曲部111上，因此，滑塊103與彎曲部111之間的距離變動少。從而，如圖7所示，在磁頭從記錄媒體上浮的狀態(tài)下，很容易將掃描記錄媒體時的上浮量δ1控制在規(guī)定的范圍內(nèi)。
另外，由于滑塊103及彎曲部111是具有導(dǎo)電性的，所以，通過將滑塊103按壓到彎曲部111側(cè)，滑塊103的電接地成為可能。在本發(fā)明中，由于滑塊103的背面103e能夠與彎曲部111側(cè)直接接觸，因此，可以使電荷快速地流至地線，可抑制磁元件101的靜電破壞。
另外，代替設(shè)置在上述實(shí)施方式的彎曲部111的舌片部115上的卡止部116、116，還可以形成具有圖8所示剖面形狀的卡止部130、130。在這些卡止部130、130上形成有彎折部130a、130a。從該彎折部130a、130a的側(cè)面部130a1、130a1施加給滑塊的凹部103b1的力的、在舌片部115方向(彎曲部111的方向)的分力，將滑塊103按壓固定在彎曲部111上。
或者，如圖9立體圖所示的滑塊203，在側(cè)面部203b上形成有凸部203b1。這時，如圖10的剖面圖所示，從彎曲部111的舌片部115延伸的卡止部116向彎曲部111側(cè)按壓凸部203b1，由此將滑塊203固定在彎曲部111上。
在上述各實(shí)施方式中，雖然卡止部116、130采用與彎曲部111一體的切口部形狀，但是卡止部也可以與彎曲部以單獨(dú)部件而形成并配置在彎曲部上，這在本發(fā)明中也是可行的。
權(quán)利要求
1.磁頭裝置，其特征是，包括具有記錄和/或再生用磁元件的滑塊；及支持所述滑塊的支持部件，從所述支持部件側(cè)延伸出的卡止部向所述支持部件側(cè)按壓所述滑塊，由此所述滑塊被固定在所述支持部件上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的磁頭裝置，其特征是，所述滑塊及所述支持部件具有導(dǎo)電性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1記載的磁頭裝置，其特征是，在所述滑塊的側(cè)面部，形成有凹部或凸部，所述卡止部向所述支持部件側(cè)按壓所述凹部或凸部，由此所述滑塊被固定在所述支持部件上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3記載的磁頭裝置，其特征是，所述滑塊具有六面體結(jié)構(gòu)，所述六面體的一個側(cè)面部為設(shè)置有電極部的電極面，與該電極面相接的兩個側(cè)面部上形成有所述凹部或凸部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4記載的磁頭裝置，其特征是，形成有所述凹部或凸部的所述兩個側(cè)面部通過所述卡止部來限制其在所述支持部件上的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求4記載的磁頭裝置，其特征是，通過與設(shè)置在所述支持部件上的電極連接部通過導(dǎo)電連接部連接，由此限制所述電極面在所述支持部件上的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求4記載的磁頭裝置，其特征是，與所述六面體的與所述電極面相對置的側(cè)面部，通過從所述支持部件延伸出的限制部來限制其在所述支持部件上的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1記載的磁頭裝置，其特征是，所述卡止部形成有以尖端部或側(cè)面部被彎曲加工而成的彎折部，所述滑塊由從該彎折部的尖端部或側(cè)面部施加的力的所述支持部件方向的分力而被按壓固定在所述支持部件上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1記載的磁頭裝置，其特征是，所述卡止部與所述支持部件一體地形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1記載的磁頭裝置，其特征是，所述卡止部與所述支持部件分別地形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種記錄再生特性穩(wěn)定的上浮型磁頭裝置?；瑝K(103)通過卡止部(116)被按壓在彎曲部(111)上，由此固定滑塊(103)。在本發(fā)明中，滑塊(103)的固定不使用粘結(jié)劑，而將滑塊(103)機(jī)械地按壓固定在彎曲部(111)上，因此，滑塊(103)與彎曲部(111)之間的距離變動少。從而，在磁頭從記錄媒體上浮的狀態(tài)下，很容易將掃描記錄媒體時的上浮量(δ1)控制在規(guī)定的范圍內(nèi)。
文檔編號G11B21/21GK1819032SQ20061000693
公開日2006年8月16日 申請日期2006年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月8日
發(fā)明者中澤邦浩 申請人:阿爾卑斯電氣株式會社