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光記錄介質(zhì)的制作方法

文檔序號(hào):6758322閱讀:105來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:光記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光記錄介質(zhì),更具體地說(shuō),涉及一種包括3層以上的記錄層的光記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)
作為用于記錄數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的記錄介質(zhì),廣泛使用CD(小型激光唱盤)或DVD(數(shù)字化視頻光盤)等光記錄介質(zhì)。在這種光記錄介質(zhì)中,為了使記錄容量增大,具有使信息記錄層為多層結(jié)構(gòu)的多層光記錄介質(zhì)。在這種多層光記錄介質(zhì)中,各個(gè)記錄層成為以光透過(guò)性間隔層為間隔而疊層的結(jié)構(gòu)。
在上述這種多層結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)中存在下述問(wèn)題,即,在對(duì)某個(gè)記錄層的記錄標(biāo)記進(jìn)行再現(xiàn)時(shí),雖然不會(huì)再現(xiàn)其它記錄層的記錄標(biāo)記,但是存在來(lái)自其它記錄層的反射光,該反射光量或記錄層之間距離因某種原因而發(fā)生變化時(shí),該變化(下面稱作串?dāng)_(cross talk)變化)作為噪音而重疊在再現(xiàn)信號(hào)上。
作為使這種層間串?dāng)_的影響降低的對(duì)策,提出一種例如JP特開(kāi)2004-213720號(hào)公報(bào)中記載的那樣使記錄層間距離按每個(gè)記錄層而不相同的光記錄介質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光記錄介質(zhì),根據(jù)多層光記錄介質(zhì)中各個(gè)記錄層之間光透過(guò)性間隔層的折射率和串?dāng)_的關(guān)系,更有效地使層間串?dāng)_降低。
本發(fā)明人經(jīng)過(guò)努力研究,發(fā)現(xiàn)在光透過(guò)性間隔層總厚度為5微米以上時(shí),3次串?dāng)_(下面介紹)構(gòu)成層間串?dāng)_的大部分,而且,其幾乎完全是由共焦點(diǎn)串?dāng)_(下面介紹)引起的。此外,還發(fā)現(xiàn)實(shí)際4層光記錄介質(zhì)具有50微米程度的光透過(guò)性間隔層,由層間串?dāng)_引起的影響幾乎完全是由共焦點(diǎn)的3次串?dāng)_引起的。
在此對(duì)上述“3次串?dāng)_”和“共焦點(diǎn)串?dāng)_”進(jìn)行說(shuō)明。
如圖11A所示,例如在基板12和光透過(guò)性蓋層14之間具有L0層16、L1層18、L2層20、L3層22共4層記錄層的光學(xué)記錄介質(zhì)1上,例如在對(duì)L0層16進(jìn)行再現(xiàn)時(shí),在入射到光透過(guò)性蓋層14的再現(xiàn)光中,僅由L0層16反射并射出到光記錄介質(zhì)外部的成分是信號(hào)光。另一方面,也存在由L1層18、L2層20、L3層22的任意之一僅反射1次并射出到光記錄介質(zhì)外部的成分,這就是所謂的串?dāng)_光,但是為了與后面所述的多重反射成分區(qū)別,將其稱作“1次串?dāng)_(光)”。由于多層光記錄介質(zhì)是將具有有限反射率的記錄層進(jìn)行疊層后的結(jié)構(gòu),存在有在這些記錄層間多次反射的多重反射成分。
實(shí)際上射出到記錄介質(zhì)外部的多重反射成分僅是經(jīng)歷了由記錄層引起的奇數(shù)次反射的光,在其中反射次數(shù)最少的是經(jīng)歷了3次反射。將其稱作“3次串?dāng)_(光)”。
圖11A是3次串?dāng)_的一個(gè)示例,是按照L2層→L3層→L1層的順序反射的成分。雖然其它也存在經(jīng)歷了5次、7次、…和更多的反射的成分,但由于光的強(qiáng)度隨著反射次數(shù)的增多而衰減,所以可以忽略反射5次以上的多重反射成分。在圖11A中,虛線所示的是信號(hào)光的光路,而粗線所示的3次串?dāng)_光沿與信號(hào)光完全相同的光路射出。一般1次或3次串?dāng)_光沿與信號(hào)光不同的光路射出,但是在記錄層間的間隔特殊的情況下,存在象圖11A那樣沿與信號(hào)光相同的光路射出的串?dāng)_光。將這種成分特別稱作“共焦點(diǎn)串?dāng)_(光)”。
圖11A~圖11C中顯示了保持某種特定的入射角的1條光線,但是實(shí)際上在一定入射角范圍內(nèi)存在無(wú)數(shù)的光線,這些光線集中在一點(diǎn)上的點(diǎn)是焦點(diǎn)。共焦點(diǎn)串?dāng)_光盡管在光記錄介質(zhì)內(nèi)部在與信號(hào)光不同的點(diǎn)聚光,在光記錄介質(zhì)外部卻作為產(chǎn)生了恰似與信號(hào)光相同的焦點(diǎn)的發(fā)散球面波而動(dòng)作。
本發(fā)明是通過(guò)這樣的光記錄介質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的的,該光記錄介質(zhì)通過(guò)使上述共焦點(diǎn)的3次串?dāng)_減少,能夠有效地使整體的串?dāng)_減少。
即,通過(guò)下述本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)上述目的。
(1)、一種光記錄介質(zhì),其是在基板和光透過(guò)性蓋層之間,從基板側(cè)起至少將L0層、L1層、L2層的3層記錄層和各個(gè)記錄層之間的光透過(guò)性間隔層疊層而形成,其特征在于,上述多個(gè)光透過(guò)性間隔層中至少1層具有與其它光透過(guò)性間隔層不同的折射率。
(2)、如(1)所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述記錄層從上述基板側(cè)起為L(zhǎng)0層、L1層、L2層、L3層的4層結(jié)構(gòu),上述L1層和L2層之間的光透過(guò)性間隔層具有與其它光透過(guò)性間隔層不同的折射率。
(3)、如如(1)或(2)所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層設(shè)置為3層以上,通過(guò)各個(gè)記錄層而相鄰的至少3層光透過(guò)性間隔層以具有相互不同的折射率、而且折射率按順序增大的方式配置。
(4)、如(1)~(3)中任一項(xiàng)所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層之間的折射率差為0.006以上、0.025以下。
本發(fā)明使得在基板和光透過(guò)性蓋層之間從基板側(cè)起至少將L0層、L1層、L2層的3層記錄層和各個(gè)記錄層之間的光透過(guò)性間隔層疊層而形成的光記錄介質(zhì)中的、上述多個(gè)光透過(guò)性間隔層中至少1層具有與其它光透過(guò)性間隔層不同的折射率,可以使3次串?dāng)_光的焦點(diǎn)位置從受光元件的受光面錯(cuò)開(kāi),由此,能夠獲得可以使層間串?dāng)_的影響大幅度降低的效果。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施例1的光記錄介質(zhì)的局部截面的立體圖;圖2是將圖1中A部分放大并示意性表示的截面圖;圖3是示意性表示從實(shí)施例1的光記錄介質(zhì)射出的信號(hào)光和串?dāng)_光到達(dá)受光元件的狀態(tài)的截面圖;圖4是表示在該實(shí)施例1中光透過(guò)性間隔層間的折射率差以及折射率變化與串?dāng)_強(qiáng)度以及光記錄介質(zhì)的所看到的發(fā)光點(diǎn)的位移量的關(guān)系的線圖;圖5A~圖5C是示意性表示實(shí)施例1的光記錄介質(zhì)中其它的串?dāng)_光和信號(hào)光的關(guān)系的截面圖;圖6是分別按照1次串?dāng)_、3次串?dāng)_、共焦點(diǎn)串?dāng)_、全串?dāng)_表示與實(shí)施例1相同的4層光記錄介質(zhì)中光透過(guò)性間隔層的厚度和串?dāng)_強(qiáng)度的關(guān)系的線圖;圖7A~圖7D是示意性表示本發(fā)明實(shí)施例2的光記錄介質(zhì)中信號(hào)光和串?dāng)_光的關(guān)系的截面圖;圖8A~圖8D是示意性表示本發(fā)明實(shí)施例3的光記錄介質(zhì)中信號(hào)光和串?dāng)_光的關(guān)系的截面圖;
圖9A~圖9D是示意性表示本發(fā)明實(shí)施例4的光記錄介質(zhì)中信號(hào)光和串?dāng)_光的關(guān)系的截面圖;圖10A~圖10D是示意性表示本發(fā)明實(shí)施例5的光記錄介質(zhì)中信號(hào)光和串?dāng)_光的關(guān)系的截面圖;圖11A~圖11C是示意性表示現(xiàn)有技術(shù)的4層光記錄介質(zhì)中共焦點(diǎn)串?dāng)_光的狀態(tài)的截面圖。
具體實(shí)施例方式
光記錄介質(zhì)是在基板和光透過(guò)性蓋層(下面稱作蓋層)之間從基板側(cè)起將L0層、L1層、L2層、L3層的記錄層和各個(gè)記錄層之間的光透過(guò)性間隔層(下面稱作間隔層)疊層而成,沿厚度方向順序增大或減少上述多個(gè)間隔層的折射率而形成。
實(shí)施例1下面對(duì)圖1和2所示的本發(fā)明實(shí)施例1進(jìn)行說(shuō)明。
該實(shí)施例1的光記錄介質(zhì)10是在基板12和蓋層14之間將L0層16、L1層18、L2層20、L3層22這4層記錄層和各個(gè)記錄層間的間隔層17、19、21進(jìn)行層疊而構(gòu)成。
上述間隔層(下面稱作第3間隔層)21的折射率為n3,間隔層(下面稱作第2間隔層)19、間隔層(下面稱作第1間隔層)17和蓋層14的折射率為n1,而且n1和n3的關(guān)系是n1>n3。
接著,根據(jù)上述實(shí)施例1的光記錄介質(zhì)10,參考圖2對(duì)降低3次共焦點(diǎn)串?dāng)_的作用機(jī)理進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示在4層光記錄介質(zhì)中在對(duì)L0層16進(jìn)行再現(xiàn)時(shí)的、共焦點(diǎn)串?dāng)_光的光路的視圖。
雖然省略了說(shuō)明,但是可知如圖11A、圖11B、圖11C所示,如果將使間隔層折射率相同的光記錄介質(zhì)1中的3種圖形的共焦點(diǎn)串?dāng)_光減少,則可以提高整體的記錄再現(xiàn)特性。如圖11A~圖11C所示可知,3種圖形的共焦點(diǎn)串?dāng)_光與僅在L0層16反射1次的信號(hào)光為完全相同的光路,因而,如果減少該串?dāng)_光,則可以提高整體的記錄再現(xiàn)特性。
圖2是表示對(duì)與上述圖11A相同的串?dāng)_光圖形的情況進(jìn)行放大的視圖,參考圖2更詳細(xì)地說(shuō)明使共焦點(diǎn)串?dāng)_光的影響降低的作用機(jī)理。
在圖2中,將入射的無(wú)數(shù)光線中與光軸相應(yīng)的光線當(dāng)作入射光I,將與其光束點(diǎn)直徑邊緣相當(dāng)?shù)牟糠肿鳛镮e而表示。而且,串?dāng)_光C、信號(hào)光S也表示為與光束點(diǎn)直徑邊緣相當(dāng)?shù)墓饩€。
為了進(jìn)一步容易理解,在圖2中,由L2層20和L3層22反射后到達(dá)L1層18的光,進(jìn)一步由L1層18反射后射出到光記錄介質(zhì)10外部的光路利用粗線表示。
如圖2所示,入射光I通過(guò)蓋層14、L3~L1層22、20、18以及它們之間的第3~第1間隔層21、19、17而到達(dá)L0層16,其反射光成為上述信號(hào)光S,在此之前,從第3間隔層21朝向第2間隔層19、并進(jìn)一步從第2間隔層19到達(dá)第3間隔層21時(shí),由于折射率不同,合計(jì)折射2次后,射出到蓋層14外。
上述入射光I的、在L2層20和L3層22反射后并到達(dá)L1層18的光由該L1層18反射,作為串?dāng)_光C,如圖2中粗線所示那樣射出。該串?dāng)_光C在從第3間隔層21朝向第2間隔層19、并進(jìn)一步由L1層18反射后從第2間隔層19到達(dá)第3間隔層21為止的期間,與信號(hào)光S相同合計(jì)折射2次,但是通過(guò)與信號(hào)光S不同的光路而從蓋層14射出。
此時(shí),如圖2所示,串?dāng)_光C和信號(hào)光S作為各自的整體,象產(chǎn)生了不同的點(diǎn)光源的球面波那樣動(dòng)作。
如圖2所示,該點(diǎn)光源的位置成為串?dāng)_光C的邊緣的光軸的、朝向光記錄介質(zhì)10內(nèi)的延長(zhǎng)線和入射光I中心光軸的交點(diǎn)以及信號(hào)光S光軸的同樣的延長(zhǎng)線的、在入射光I中心光軸上的交點(diǎn),兩者的距離是Δ。
下面參考圖3對(duì)上述信號(hào)光S和串?dāng)_光C的、在光頭(省略整體圖示)中受光元件26上的偏差進(jìn)行說(shuō)明。如果該偏差足夠大,則消除了串?dāng)_光、特別是共焦點(diǎn)串?dāng)_的影響。
如圖2所示,聚光在L0層16上的入射光I成為在此反射的信號(hào)光S,如圖3所示,通過(guò)物鏡28而在受光元件26上聚光。另一方面,由于串?dāng)_光C(光軸)如圖3所示在上述受光元件26的中心光軸CL,作為距信號(hào)光S的聚光點(diǎn)僅Δ的點(diǎn)射出的光線而動(dòng)作,所以在上述受光元件26上,從信號(hào)光的聚光點(diǎn)到達(dá)沿與中心光軸CL垂直的方向僅移動(dòng)X的位置。因而,如果該位移量X足夠大,如上所述,可以消除串?dāng)_光的影響。
換句話說(shuō),在實(shí)施例1中,共焦點(diǎn)串?dāng)_沒(méi)有成為共焦點(diǎn),也就是提供上述位移量Δ,能夠?qū)⒋當(dāng)_的影響減少到非共焦點(diǎn)串?dāng)_程度。
圖4表示在間隔層之間存在折射率差(例如n3-n1)時(shí),計(jì)算在使折射率n3變化時(shí)的串?dāng)_與信號(hào)光的比值(C/S)的結(jié)果。而且由于實(shí)施例1為n3-n1<0,所以以圖4的左半部分表示。
下面對(duì)C/S進(jìn)行說(shuō)明。信號(hào)光和串?dāng)_光都保持固有的反射強(qiáng)度而射出到介質(zhì)外部。該反射強(qiáng)度由介質(zhì)表面和記錄層的反射率、透過(guò)率決定。射出到介質(zhì)外部的光通過(guò)各種光學(xué)元件后一邊聚束一邊照射到受光元件上,在所述受光面上被檢測(cè)出。由于受光元件配有有限大小的受光面,沒(méi)有檢測(cè)出所有的信號(hào)光和串?dāng)_光,只不過(guò)檢測(cè)出光軸附近的一部分。
計(jì)算信號(hào)光和串?dāng)_光的射出強(qiáng)度和在受光面上的強(qiáng)度分布,將以受光面形狀對(duì)強(qiáng)度分布進(jìn)行積分后的結(jié)果稱作“檢出強(qiáng)度”。此外,將存在的所有串?dāng)_圖形的檢出強(qiáng)度進(jìn)行合計(jì),將該合計(jì)值的相對(duì)于信號(hào)光檢出強(qiáng)度的比作為“串?dāng)_與信號(hào)比(C/S比)”。C/S比是相當(dāng)于實(shí)際上由光拾波器檢測(cè)出的信號(hào)的物理量,是作為表示記錄介質(zhì)和光學(xué)系統(tǒng)的性能的指標(biāo)的重要參數(shù)。
在圖4中,橫軸表示折射率差n3-n1,縱軸表示串?dāng)_強(qiáng)度C/S和上述Δ(微米)。而且,表示n1為1.40、1.55和1.70的情況。
根據(jù)圖4可知,雖然根據(jù)n1的值而略微不同,但在任何情況下都是在折射率為0.01的情況下串?dāng)_變成大約1/2。具體地說(shuō),串?dāng)_成為峰值的50%的折射率差,在n1=1.40時(shí)為0.009,在n1=1.55時(shí)為0.011,在n1=1.70時(shí)為0.013。
此外,串?dāng)_成為峰值的80%的折射率差,在n1=1.40時(shí)為0.006,在n1=1.55時(shí)為0.007,在n1=1.70時(shí)為0.008。
從而可知,如果間隔層的折射率差|n3-n1|為0.006以上、0.025以下,就能獲得串?dāng)_降低效果。
更具體地說(shuō),可知當(dāng)多個(gè)間隔層中1層的折射率為1.40、1.55或1.70時(shí),與相鄰的間隔層的折射率差為0.006以上、0.007以上或0.008以上時(shí),非常良好。
上述圖2、圖5A~圖5C所示的4個(gè)圖形表示了4層光記錄介質(zhì)內(nèi)共焦點(diǎn)串?dāng)_光的所有的圖形。
在上述實(shí)施例1中,雖然僅針對(duì)與圖11A所示同樣的共焦點(diǎn)串?dāng)_光的圖形進(jìn)行了分析,但是通過(guò)相同的幾何學(xué)的考慮,在與圖11B相當(dāng)?shù)膱D5A的圖形中,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例,可以期待更大的位移量X,從而不需要分析,省略了說(shuō)明。
下面關(guān)于與圖11C相當(dāng)?shù)墓步裹c(diǎn)串?dāng)_光的圖形,如圖5B所示,信號(hào)光和串?dāng)_光作為結(jié)果變成相同的光路,但通過(guò)減少其它的共焦點(diǎn)串?dāng)_,可以減少串?dāng)_整體的影響。
圖5C表示4層光記錄介質(zhì)中共焦點(diǎn)串?dāng)_光的其它圖形。在圖5C的圖形中同樣,與實(shí)施例1相比較,能夠期待更大的位移量X,所以省略了說(shuō)明。
圖6表示取入1次和3次串?dāng)_的所有的作用,計(jì)算綜合C/S比的結(jié)果。此時(shí),記錄層間距離(間隔層厚度)完全相等,3層間隔層的厚度合計(jì)是在0~50微米的范圍內(nèi)變化。
當(dāng)間隔層總厚度為5微米以下時(shí),如圖6所示,1次串?dāng)_的作用占支配地位,但是當(dāng)間隔層總厚度超過(guò)5微米時(shí),來(lái)自3次串?dāng)_的作用占支配地位,而且?guī)缀跬耆怯晒步裹c(diǎn)串?dāng)_引起的,由于實(shí)際的4層光記錄介質(zhì)具有通常50微米左右厚度的間隔層,由串?dāng)_引起的影響幾乎完全是由共焦點(diǎn)3次串?dāng)_引起的。
表1按串?dāng)_的每種圖形示出3次串?dāng)_的作用。此時(shí),間隔層的各厚度為a、b、c,使它們相等都是16.67微米,合計(jì)為50微米。與串?dāng)_的圖形對(duì)應(yīng)的記號(hào)根據(jù)記錄層的反射順序表示,例如將按照L1層→L3層→L2層的順序反射的圖形表示為R132。
表1

在上述實(shí)施例1中,對(duì)串?dāng)_的作用最大的R121作為共焦點(diǎn)而殘存,但是其它的共焦點(diǎn)串?dāng)_可以使其減少。
實(shí)施例2下面對(duì)圖7A~圖7D所示的本發(fā)明實(shí)施例2進(jìn)行說(shuō)明。
該實(shí)施例2的光記錄介質(zhì)30,使第1以及第3間隔層31、33的折射率為n1,使第2間隔層32的折射率為n3(n3<n1)。
在該實(shí)施例2的光記錄介質(zhì)30中,圖7A、圖7B的圖形殘存有共焦點(diǎn)串?dāng)_,但是如果考慮了表1的作用率,圖7A是R231,圖7B是R132,與表示R121的圖7C進(jìn)行比較可知,串?dāng)_的作用率小,比實(shí)施例1更好。
實(shí)施例3下面對(duì)圖8A~圖8D所示的本發(fā)明實(shí)施例3的光記錄介質(zhì)40進(jìn)行說(shuō)明。
該光記錄介質(zhì)40分別將第1間隔層41的折射率設(shè)定為n3,將第2間隔層42和第3間隔層43的折射率設(shè)定為n1(n1>n3)。
在圖8A~圖8D中,雖然在對(duì)L0層16進(jìn)行再現(xiàn)時(shí),可以使所有共焦點(diǎn)串?dāng)_成為非共焦點(diǎn)串?dāng)_,但是如圖8D所示,在對(duì)L1層進(jìn)行再現(xiàn)時(shí)殘存有共焦點(diǎn)串?dāng)_。另一方面,由于降低了其它的共焦點(diǎn)串?dāng)_,作為整體,降低了串?dāng)_。
如果將其與實(shí)施例1的情況進(jìn)行比較,則由于存在一般記錄層越接近光入射面而信號(hào)品質(zhì)越優(yōu)良這樣的事實(shí),認(rèn)為實(shí)施例3比實(shí)施例1更優(yōu)選。
實(shí)施例4下面對(duì)圖9A~圖9D所示的本發(fā)明實(shí)施例4的光記錄介質(zhì)50進(jìn)行說(shuō)明。
該光記錄介質(zhì)50分別將第3間隔層53的折射率設(shè)定為n1,將第2間隔層52的折射率設(shè)定為n2,將第1間隔層51的折射率設(shè)定為n3,并且,n1>n2>n3。
此時(shí),上述折射率n1、n2、n3的差、即n1-n2、n2-n3分別為0.006以上、0.025以下。
而且,這些第1~第3間隔層51~53中1層的折射率為1.40、1.55或1.70時(shí),與相鄰的間隔層的折射率差設(shè)定為0.006以上、0.007以上或0.008以上。
如圖9A~圖9D所示,在該實(shí)施例4的光記錄介質(zhì)50中,能夠使對(duì)4層光記錄介質(zhì)進(jìn)行再現(xiàn)時(shí)的所有的共焦點(diǎn)串?dāng)_成為非共焦點(diǎn)。另一方面,由于按每個(gè)光透過(guò)性間隔層改變其材料的折射率,所以雖然制造上成本增大,但是在大批量生產(chǎn)階段,在間隔層上使用多種材料并沒(méi)有顯著地增大成本。
實(shí)施例5下面對(duì)圖10A~圖10D所示的本發(fā)明實(shí)施例5的光記錄介質(zhì)60進(jìn)行說(shuō)明。
該光記錄介質(zhì)60分別將第3間隔層63的折射率設(shè)定為n1,將第2間隔層62的折射率設(shè)定為n3,將第1間隔層61的折射率設(shè)定為n2,而且,n1>n2>n3。
此時(shí),上述折射率n1、n2、n3的差、即n1-n2、n2-n3分別為0.006以上、0.025以下。
在該實(shí)施例5的情況下,能夠使對(duì)4層光記錄介質(zhì)進(jìn)行再現(xiàn)時(shí)的所有的共焦點(diǎn)串?dāng)_成為非共焦點(diǎn)。
另外,上述各個(gè)實(shí)施例的光記錄介質(zhì),雖然記錄層形成為4層,但是本發(fā)明并不局限于此,本發(fā)明一般能夠適用于至少具有3層記錄層的光記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì),其是在基板和光透過(guò)性蓋層之間,從基板側(cè)起至少將L0層、L1層、L2層的3層記錄層和各個(gè)記錄層之間的光透過(guò)性間隔層疊層而形成,其特征在于,上述多個(gè)光透過(guò)性間隔層中至少1層具有與其它光透過(guò)性間隔層不同的折射率。
2.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述記錄層從上述基板側(cè)起為L(zhǎng)0層、L1層、L2層、L3層的4層結(jié)構(gòu),上述L1層和L2層之間的光透過(guò)性間隔層具有與其它光透過(guò)性間隔層不同的折射率。
3.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層設(shè)置為3層以上,通過(guò)各個(gè)記錄層而相鄰的至少3層光透過(guò)性間隔層以具有相互不同的折射率、而且折射率按順序增大的方式配置。
4.如權(quán)利要求2所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層設(shè)置為3層以上,通過(guò)各個(gè)記錄層而相鄰的至少3層光透過(guò)性間隔層以具有相互不同的折射率、而且折射率按順序增大的方式配置。
5.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層之間的折射率差為0.006以上、0.025以下。
6.如權(quán)利要求2所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層之間的折射率差為0.006以上、0.025以下。
7.如權(quán)利要求3所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層之間的折射率差為0.006以上、0.025以下。
8.如權(quán)利要求4所述的光記錄介質(zhì),其特征在于,上述光透過(guò)性間隔層之間的折射率差為0.006以上、0.025以下。
全文摘要
記錄層為3層以上的作為多層光記錄介質(zhì)的光記錄介質(zhì),具有L0層、L1層、L2層和L3層、和在這些層之間的第1~第3光透過(guò)性間隔層,相對(duì)于第1和第2光透過(guò)性間隔層的折射率n1,第3光透過(guò)性間隔層的折射率n3具有下述關(guān)系,即n3<n1,能夠減少再現(xiàn)時(shí)串?dāng)_光的影響。
文檔編號(hào)G11B7/257GK1770286SQ20051009669
公開(kāi)日2006年5月10日 申請(qǐng)日期2005年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月31日
發(fā)明者塚越拓哉, 三島康兒, 由德大介 申請(qǐng)人:Tdk股份有限公司
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