技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，先建立包含有所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層和所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層的圖形庫(kù)，然后將所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層與版圖的原始設(shè)計(jì)的每一區(qū)域完全匹配成功的該基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層，與所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層作異或運(yùn)算，得到差異以及對(duì)應(yīng)的差異值，對(duì)上述差異中大于可接受差異值的進(jìn)行歸類(lèi)，減少差異種類(lèi)，這樣就可以將數(shù)以千萬(wàn)級(jí)的差異歸納為幾種或者數(shù)十種差異，大大提升了版圖設(shè)計(jì)修正工作在重復(fù)區(qū)域修正一致性檢查工作準(zhǔn)確性與效率。

技術(shù)研發(fā)人員：朱忠華;闞歡;魏芳;朱駿;張旭升
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.21
技術(shù)公布日：2017.07.25