本發(fā)明涉及可制造性圖形設(shè)計(jì)領(lǐng)域，特別涉及一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法。

背景技術(shù)：

一般來(lái)說(shuō)，集成電路版圖設(shè)計(jì)中設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)均含有重復(fù)性很強(qiáng)的設(shè)計(jì)，例如邏輯芯片的存儲(chǔ)區(qū)，攝像芯片的感光區(qū)。為了能保證集成電路工作中信號(hào)能保持一致，則必須要求所有圖形每次經(jīng)過(guò)光學(xué)鄰近效應(yīng)處理后所有的圖形的版圖數(shù)據(jù)仍然能同時(shí)保持高度的統(tǒng)一性。

由于設(shè)計(jì)本身或者光學(xué)鄰近效應(yīng)修正軟件的錯(cuò)誤較容易導(dǎo)致重復(fù)圖形的修正結(jié)果不一致。隨著集成電路工藝節(jié)點(diǎn)的不斷推進(jìn)，重復(fù)圖形的修正差異對(duì)集成電路的差異影響也越來(lái)越大，同時(shí)重復(fù)圖形的數(shù)量也越來(lái)越大。目前檢查的工作主要通過(guò)工程師簡(jiǎn)單的檢查，但工程師很難確定數(shù)以千萬(wàn)的圖形是否每次都一致。同時(shí)，許多差異完全可以歸納為同一差異，完全檢查消耗大量時(shí)間。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，用于將版圖檢查時(shí)數(shù)以千萬(wàn)的差異歸納為幾種或者數(shù)十種差異，提升版圖設(shè)計(jì)修正工作在重復(fù)區(qū)域修正一致性檢查工作準(zhǔn)確性與效率。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，包括以下步驟：

步驟一：提供一版圖的原始設(shè)計(jì)，選取任意一個(gè)最小單元圖形作為基準(zhǔn)圖形，每個(gè)基準(zhǔn)圖形包括該最小單元圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層以及所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層，截取所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層和所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層存入圖形庫(kù)中；

步驟二：將所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層與版圖的原始設(shè)計(jì)的每一區(qū)域進(jìn)行匹配，若完全匹配成功，則找出該基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層，與所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層作異或運(yùn)算，得到差異以及對(duì)應(yīng)的差異值；

步驟三：設(shè)定可接受差異值，在步驟二中得到的差異值中選取大于所述可接受差異值的差異，將選取得到的差異屬于同一類的進(jìn)行歸類，減少差異的種類。

作為優(yōu)選，步驟一中對(duì)版圖的原始設(shè)計(jì)進(jìn)行篩選后進(jìn)行基準(zhǔn)圖形的選取。

作為優(yōu)選，篩選方法為將版圖的原始設(shè)計(jì)中含有重復(fù)單元的區(qū)域篩選出進(jìn)行基準(zhǔn)圖形的選取。

作為優(yōu)選，篩選方法為將曝光時(shí)光源照射在版圖上，去除照射時(shí)光源的光學(xué)半徑在版圖上形成的環(huán)狀帶區(qū)域。

作為優(yōu)選，所述光學(xué)半徑范圍為0μm～2μm。

作為優(yōu)選，步驟三中所述可接受差異值范圍為0～0.001μm。

作為優(yōu)選，步驟三中設(shè)置圖形歸類尺寸，所述圖形歸類尺寸介于最小單元圖形的尺寸的一半至一倍之間。

作為優(yōu)選，步驟二中不能完全匹配成功則解釋為由自身存在的設(shè)計(jì)差異造成的修正結(jié)果。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，先建立包含有所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層和所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層的圖形庫(kù)，然后將所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層與版圖的原始設(shè)計(jì)的每一區(qū)域完全匹配成功的該基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層，與所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層作異或運(yùn)算，得到差異以及對(duì)應(yīng)的差異值，對(duì)上述差異中大于可接受差異值的進(jìn)行歸類，減少差異種類，這樣就可以將數(shù)以千萬(wàn)級(jí)的差異歸納為幾種或者數(shù)十種差異，大大提升了版圖設(shè)計(jì)修正工作在重復(fù)區(qū)域修正一致性檢查工作準(zhǔn)確性與效率，該方法的檢查準(zhǔn)確性為100％，無(wú)任何檢查遺漏。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明提供的修正一致性檢查方法流程圖；

圖2為本發(fā)明提供的重復(fù)單元修正一致性檢查的區(qū)域劃分；

圖3(a)～(f)為本發(fā)明提供的重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正區(qū)域示例；

圖4為本發(fā)明提供的原始設(shè)計(jì)中最小單元圖形示例圖；

圖5為本發(fā)明提供的圖4中的圖形被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正后的示例圖；

圖6(a)～(f)為本發(fā)明提供的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查示例圖；

圖7(a)和(b)為本發(fā)明提供的差異結(jié)構(gòu)歸類示意圖。

本發(fā)明圖示：201-環(huán)狀區(qū)域、202-篩選出的區(qū)域、601～603-差異。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說(shuō)明。

請(qǐng)參照?qǐng)D1，本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，包括以下步驟：

步驟一：提供一版圖的原始設(shè)計(jì)，對(duì)該版圖需要操作的區(qū)域進(jìn)行篩選，首先篩選出原始設(shè)計(jì)中含有重復(fù)單元的區(qū)域，然后將曝光時(shí)的曝光光源照射在版圖上，由于光源存在有光學(xué)半徑d，一般范圍為0μm～2μm，那么投影在版圖上會(huì)形成由光學(xué)半徑d造成的環(huán)狀區(qū)域201，去除該環(huán)狀區(qū)域201，并將去除環(huán)狀區(qū)域201后剩余的區(qū)域作為需要操作的區(qū)域。

在上述篩選出的區(qū)域中選取任意一個(gè)最小單元圖形作為基準(zhǔn)圖形，如圖4所示，每個(gè)基準(zhǔn)圖形包括該最小單元圖形進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)修正前后的數(shù)據(jù)，也就是該最小單元圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層a以及所述原始設(shè)計(jì)層a被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層b，如圖5所示，截取所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層a作為運(yùn)行匹配層集a，截取所有圖層b定義為結(jié)果標(biāo)記層集b，將運(yùn)行匹配層集a和結(jié)果標(biāo)記層集b存入圖形庫(kù)中；

步驟二：將所述圖形庫(kù)中運(yùn)行匹配層集a內(nèi)所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層a與版圖的原始設(shè)計(jì)的每一區(qū)域進(jìn)行匹配，也就是和光學(xué)鄰近效應(yīng)修正前的版圖的原始設(shè)計(jì)進(jìn)行匹配，若完全匹配成功，則說(shuō)明兩者即為重復(fù)設(shè)計(jì)圖形，則找出該重復(fù)設(shè)計(jì)圖形對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)圖形的原始設(shè)計(jì)層a對(duì)應(yīng)的被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層b，將其與所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層a被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層b作異或運(yùn)算，得到差異以及對(duì)應(yīng)的差異值，比如，可將圖5中的圖形與圖3(a)～(f)中每一個(gè)圖形進(jìn)行異或運(yùn)算，就可得到差異為圖6(b)中的差異602、圖6(d)中的差異601、圖6(f)中的差異603，每個(gè)差異皆對(duì)應(yīng)一個(gè)差異值；

若不能完全匹配成功，則將兩者的差別解釋為由于自身設(shè)計(jì)差異造成的修正結(jié)果；

步驟三：設(shè)定可接受差異值，一般范圍在0～0.001μm，選取步驟二中大于所述可接受差異值的差異值，設(shè)置圖形歸類尺寸，所述圖形歸類尺寸介于圖4所示的最小單元圖形的尺寸的一半至最小單元圖形的尺寸的一倍之間，將上述差異值對(duì)應(yīng)的差異按照?qǐng)D形歸類尺寸進(jìn)行歸類，減少差異的種類，最終形成圖7(a)和圖7(b)兩個(gè)種類，從而提升版圖設(shè)計(jì)修正工作在重復(fù)區(qū)域修正一致性檢查工作準(zhǔn)確性與效率。

本發(fā)明提供一種版圖重復(fù)單元光學(xué)鄰近效應(yīng)修正一致性檢查方法，先建立包含有所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層和所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層的圖形庫(kù)，然后將所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的原始設(shè)計(jì)層與版圖的原始設(shè)計(jì)的每一區(qū)域完全匹配成功的該基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層，與所述圖形庫(kù)中所有所述基準(zhǔn)圖形對(duì)應(yīng)的所述原始設(shè)計(jì)層被光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的圖層作異或運(yùn)算，得到差異以及對(duì)應(yīng)的差異值，對(duì)上述差異中大于可接受差異值的進(jìn)行歸類，減少差異種類，這樣就可以將數(shù)以千萬(wàn)級(jí)的差異歸納為幾種或者數(shù)十種差異，大大提升了版圖設(shè)計(jì)修正工作在重復(fù)區(qū)域修正一致性檢查工作準(zhǔn)確性與效率，該方法的檢查準(zhǔn)確性為100％，無(wú)任何檢查遺漏。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包括這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。