本發(fā)明涉及一種壓力探測(cè)裝置，尤其涉及一種力學(xué)感應(yīng)裝置及其制造方法。

背景技術(shù)：

通過(guò)在液晶顯示屏(LCD)、有機(jī)發(fā)光顯示屏(OLED)等顯示屏的前方設(shè)置力學(xué)感應(yīng)裝置，力學(xué)感應(yīng)裝置探測(cè)手指在這些顯示屏上的按壓力，從而實(shí)現(xiàn)基于手指按壓力的人機(jī)交互，力學(xué)感應(yīng)裝置一般設(shè)計(jì)為包括透明基板和多個(gè)透明力學(xué)感應(yīng)器件，透明力學(xué)感應(yīng)器件設(shè)置在透明基板上并呈二維分布的。

為了提高透明度和減少厚度，上述這種透明力學(xué)感應(yīng)器件一般設(shè)置為透明的應(yīng)變電阻，透明基板被手指按壓之后產(chǎn)生細(xì)微彎曲而導(dǎo)致應(yīng)變電阻的電阻值變化，根據(jù)應(yīng)變電阻的電阻值變化來(lái)探測(cè)手指的按壓力，應(yīng)變電阻一般由透明導(dǎo)電膜經(jīng)過(guò)光刻、印刷等圖形化工藝制作而成，其中透明導(dǎo)電膜可以是透明氧化物導(dǎo)電膜(如氧化鋅鋁、氧化銦錫)等類型的膜層。

為了便于應(yīng)變電阻與外部的檢測(cè)電路相連接，上述應(yīng)變電阻一般需要通過(guò)一定的透明的引線引出到透明基板的周邊。

然而，當(dāng)手指在透明基板上按壓時(shí)，在上述應(yīng)變電阻與其引線所構(gòu)成的線路中，引線部分的電阻值變化往往會(huì)對(duì)應(yīng)變電阻的電阻值變化的探測(cè)結(jié)果造成干擾，使得無(wú)法準(zhǔn)確地反映出手指在透明基板上某個(gè)點(diǎn)的按壓力度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種力學(xué)感應(yīng)裝置及其制造方法，這種力學(xué)感應(yīng)裝置能夠減少引線部分的電阻值變化對(duì)應(yīng)變電阻的影響，從而使得應(yīng)變電阻能夠更加準(zhǔn)確地反映出手指在透明基板上某個(gè)點(diǎn)的按壓力度，本發(fā)明還提供這種力學(xué)感應(yīng)裝置的制造方法。采用的技術(shù)方案如下：

一種力學(xué)感應(yīng)裝置，包括透明基板以及至少設(shè)置在透明基板第一面的第一應(yīng)變電阻層，應(yīng)變電阻層包括應(yīng)變電阻部和引線部，其特征是：所述應(yīng)變電阻部由透明的高阻導(dǎo)電膜圖形化而成，應(yīng)變電阻部包括多個(gè)應(yīng)變電阻；所述引線部由至少一層透明的低阻導(dǎo)電膜圖形化而成，引線部包括多條第一引線，第一引線與相應(yīng)的應(yīng)變電阻的端部相互重疊而實(shí)現(xiàn)連接；低阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值小于高阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值。

上述透明基板，可以為厚度0.1～1.5mm的透明的玻璃基板、石英基板或塑料基板；上述高阻導(dǎo)電膜和低阻導(dǎo)電膜，可以為透明的氧化物導(dǎo)電薄膜，如氧化鋅鋁、氧化銦錫，經(jīng)過(guò)磁控濺射、蒸鍍等方法制作而成，除此之外，高阻導(dǎo)電膜和低阻導(dǎo)電膜也可以為碳納米管分散層、納米銀線分散層、透明導(dǎo)電聚合物涂層的其中一種經(jīng)過(guò)涂布等方法制作而成，高阻導(dǎo)電膜和低阻導(dǎo)電膜還可以是碳納米管或納米銀線分散在透明導(dǎo)電聚合物中經(jīng)過(guò)涂布等方法制作而成的分散物涂層。上述圖形化方法，可以但不限于蝕刻法、顯影法、印刷法、納米壓印法等方法，以使得上述應(yīng)變電阻呈現(xiàn)為迂回的條狀導(dǎo)電體，以達(dá)到所需的電阻值。上述第一引線可以單獨(dú)由低阻導(dǎo)電膜構(gòu)成，也可以由低阻導(dǎo)電膜與高阻導(dǎo)電膜的夾層所構(gòu)成。

摒棄現(xiàn)有技術(shù)中應(yīng)變電阻部和引線部由同一透明導(dǎo)電膜圖形化而成的設(shè)計(jì)思路，將應(yīng)變電阻層拆分為應(yīng)變電阻部、引線部?jī)刹糠?，其中，?yīng)變電阻部由透明的高阻導(dǎo)電膜圖形化而成，而引線部由至少一層透明的低阻導(dǎo)電膜圖形化而成，然后在端部疊置而實(shí)現(xiàn)應(yīng)變電阻與第一引線的連接，從而使得第一引線的電阻值相對(duì)較低，當(dāng)?shù)谝灰€的電阻值較低時(shí)，受手指按壓時(shí)，第一引線的電阻值變化量也較低，從而減少第一引線的電阻值變化對(duì)應(yīng)變電阻的電阻值變化的干擾，從而使得應(yīng)變電阻能夠更加準(zhǔn)確地反映出手指在透明基板上某個(gè)點(diǎn)的按壓力度。

作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述低阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值小于50歐姆/方，所述高阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值大于300歐姆/方。

上述方塊電阻，指在導(dǎo)電膜上切割出任意一個(gè)(相比于膜厚足夠大的)正方形區(qū)域，其對(duì)邊之間的電阻值。

作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述低阻導(dǎo)電膜設(shè)置在所述透明基板上，低阻導(dǎo)電膜上設(shè)有多個(gè)用于設(shè)置所述應(yīng)變電阻的空洞區(qū)，所述高阻導(dǎo)電膜覆蓋在低阻導(dǎo)電膜上并覆蓋空洞區(qū)，低阻導(dǎo)電膜和高阻導(dǎo)電膜均為氧化物透明導(dǎo)電薄膜。低阻導(dǎo)電膜先于高阻導(dǎo)電膜設(shè)置在透明基板上，并在低阻導(dǎo)電膜上預(yù)留空洞區(qū)，高阻導(dǎo)電膜覆蓋在空洞區(qū)上后形成應(yīng)變電阻，而引線部則由低阻導(dǎo)電膜與高阻導(dǎo)電膜相互疊加構(gòu)成，引線部不需要采用絕緣層做保護(hù)，省去了低阻導(dǎo)電膜與高阻導(dǎo)電膜之間的絕緣層，其制造成本更低。

作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述低阻導(dǎo)電膜設(shè)置在所述透明基板上，低阻導(dǎo)電膜上設(shè)有多個(gè)用于設(shè)置所述應(yīng)變電阻的空洞區(qū)，所述高阻導(dǎo)電膜覆蓋在低阻導(dǎo)電膜上并覆蓋空洞區(qū)，低阻導(dǎo)電膜為氧化物透明導(dǎo)電薄膜，高阻導(dǎo)電膜為碳納米管分散層、納米銀線分散層、透明導(dǎo)電聚合物涂層、分散物涂層的其中之一，分散物涂層為碳納米管或納米銀線分散在透明導(dǎo)電聚合物中經(jīng)過(guò)涂布等方法制作而成。低阻導(dǎo)電膜先于高阻導(dǎo)電膜設(shè)置在透明基板上，并在低阻導(dǎo)電膜上預(yù)留空洞區(qū)，高阻導(dǎo)電膜覆蓋在空洞區(qū)上后形成應(yīng)變電阻，而引線部則由低阻導(dǎo)電膜與高阻導(dǎo)電膜可相互疊加構(gòu)成，引線部不需要采用絕緣層做保護(hù)，省去了低阻導(dǎo)電膜與高阻導(dǎo)電膜之間的絕緣層，其制造成本更低，而高阻導(dǎo)電膜采用碳納米管分散層、納米銀線分散層、透明導(dǎo)電聚合物涂層、分散物涂層的其中之一，這些材料雖然電阻率較高，但一般具有更低的溫度電阻系數(shù)，使得在溫度變化時(shí)，引線部的電阻變化很少，不會(huì)影響到應(yīng)變電阻部的探測(cè)結(jié)果。

作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，還包括觸摸感應(yīng)層，所述觸摸感應(yīng)層包括觸摸感應(yīng)電極及第二引線，所述觸摸感應(yīng)電極通過(guò)第二引線引出，觸摸感應(yīng)電極和第二引線至少由所述低阻導(dǎo)電膜圖形化而成。觸摸感應(yīng)層一般可根據(jù)電容式觸摸感應(yīng)原理，更加準(zhǔn)確的感應(yīng)到手指的位置，由此，上述設(shè)計(jì)將觸摸感應(yīng)層與用于力學(xué)感應(yīng)的第一應(yīng)變電阻層合在一起制作，使得在組成最終的器件時(shí)，不需要另外設(shè)置一層觸摸感應(yīng)層，而觸摸感應(yīng)層能夠更加準(zhǔn)確地探測(cè)手指的位置，因而可以通過(guò)手指的位置信息對(duì)力學(xué)感應(yīng)信息進(jìn)行修正，使得探測(cè)結(jié)果更加準(zhǔn)確。

作為本發(fā)明進(jìn)一步的優(yōu)選方案，還包括絕緣層，所述高阻導(dǎo)電膜、絕緣層、低阻導(dǎo)電膜依次設(shè)置在所述透明基板上，所述第一引線、第二引線至少由低阻導(dǎo)電膜圖形化而成，并且第一引線、第二引線均與所述應(yīng)變電阻之間相隔著絕緣層。上述絕緣層可以為圖形化的透明樹(shù)脂層(如光敏樹(shù)脂，經(jīng)過(guò)涂布、曝光顯影而成)或油墨層(如透明油墨，經(jīng)過(guò)印刷而成)，絕緣層可以覆蓋整片透明基板而僅在高阻導(dǎo)電膜、低阻導(dǎo)電膜需要導(dǎo)通的位置留出通孔，或者，絕緣層僅僅覆蓋由高阻導(dǎo)電膜形成的應(yīng)變電阻部。第一引線、第二引線均與應(yīng)變電阻之間相隔著絕緣層，即是說(shuō)，第一引線、第二引線均可通過(guò)絕緣層跨過(guò)應(yīng)變電阻布置而成，使得第一引線、第二引線設(shè)置得更寬，有利于進(jìn)一步減少引線的電阻。

作為本發(fā)明更進(jìn)一步的優(yōu)選方案，還包括第二應(yīng)變電阻層，第二應(yīng)變電阻層設(shè)置在所述透明基板的第二面上，第二應(yīng)變電阻層與所述第一應(yīng)變電阻層具有一致的圖形。第二感應(yīng)層的應(yīng)變電阻，可以與第一感應(yīng)層的應(yīng)變電阻相互構(gòu)成電橋，通過(guò)電橋，可以使得力學(xué)感應(yīng)探測(cè)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。

一種透明力學(xué)感應(yīng)裝置的制造方法，其特征是，至少在透明基板的第一面實(shí)施以下步驟：

(1)、設(shè)置一層透明的低阻導(dǎo)電膜，并在低阻導(dǎo)電膜上設(shè)置多個(gè)空洞區(qū)；

(2)、進(jìn)一步在低阻導(dǎo)電膜上設(shè)置一層連續(xù)透明的高阻導(dǎo)電膜，使得在空洞區(qū)之外，高阻導(dǎo)電膜和低阻導(dǎo)電膜相互重疊，而空洞區(qū)之內(nèi)僅有高阻導(dǎo)電膜，高阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值高于低阻導(dǎo)電膜的方塊電阻值；

(3)、對(duì)所述高阻導(dǎo)電膜和低阻導(dǎo)電膜同時(shí)進(jìn)行圖形化，以在空洞區(qū)之內(nèi)形成構(gòu)成應(yīng)變電阻部的多個(gè)應(yīng)變電阻，而在空洞區(qū)之外形成構(gòu)成引線部的多條第一引線，使得應(yīng)變電阻僅由高阻導(dǎo)電膜構(gòu)成，而第一引線由低阻導(dǎo)電膜、高阻導(dǎo)電膜重疊而成。

上述制造方法中，低阻導(dǎo)電膜先于高阻導(dǎo)電膜進(jìn)行設(shè)置，低阻導(dǎo)電膜僅需留出孔洞區(qū)，可以采用精度較低的圖形化方法，其制作成本更低。

一種透明力學(xué)感應(yīng)裝置的制造方法，其特征是，至少在透明基板的第一面實(shí)施以下步驟：

(1)、設(shè)置一層透明的高阻導(dǎo)電膜，并將高阻導(dǎo)電膜圖形化為構(gòu)成應(yīng)變電阻部的多個(gè)應(yīng)變電阻；

(2)、在高阻導(dǎo)電膜上設(shè)置一層透明的絕緣層，絕緣層至少覆蓋在應(yīng)變電阻之上且需要露出應(yīng)變電阻的端部；

(3)、在絕緣層上再設(shè)置一層透明的低阻導(dǎo)電膜，并將低阻導(dǎo)電膜圖形化為構(gòu)成引線部的多條第一引線，第一引線的端部與露出在絕緣層外面的應(yīng)變電阻端部相重疊而構(gòu)成連接。

作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，在所述步驟(3)中，還將低阻導(dǎo)電膜圖形化為構(gòu)成觸摸感應(yīng)層的觸摸感應(yīng)電極和第二引線。

上述制造方法中，將觸摸感應(yīng)層與用于力學(xué)感應(yīng)的第一應(yīng)變電阻層合在一起制作，使得在組成最終的器件時(shí)，不需要另外設(shè)置一層觸摸感應(yīng)層，而觸摸感應(yīng)層能夠更加準(zhǔn)確地探測(cè)手指的位置，因而可以通過(guò)手指的位置信息對(duì)力學(xué)感應(yīng)信息進(jìn)行修正，使得探測(cè)結(jié)果更加準(zhǔn)確。另外，進(jìn)一步地，第一引線、第二引線均與應(yīng)變電阻之間相隔著絕緣層，即是說(shuō)，第一引線、第二引線均可通過(guò)絕緣層跨過(guò)應(yīng)變電阻布置而成，使得第一引線、第二引線設(shè)置得更寬，有利于進(jìn)一步減少引線的電阻。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn)：

這種力學(xué)感應(yīng)裝置，將應(yīng)變電阻層拆分為應(yīng)變電阻部、引線部?jī)刹糠?，其中，?yīng)變電阻部由透明的高阻導(dǎo)電膜圖形化而成，而引線部由至少一層透明的低阻導(dǎo)電膜圖形化而成，然后在端部疊置而實(shí)現(xiàn)應(yīng)變電阻與第一引線的連接，從而使得第一引線的電阻值相對(duì)較低，當(dāng)?shù)谝灰€的電阻值較低時(shí)，受手指按壓時(shí)，第一引線的電阻值變化量也較低，從而減少第一引線的電阻值變化對(duì)應(yīng)變電阻的電阻值變化的干擾，從而使得應(yīng)變電阻能夠更加準(zhǔn)確地反映出手指在透明基板上某個(gè)點(diǎn)的按壓力度。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例一的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例一的層狀分解圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例一中應(yīng)變電阻部與引線部連接的示意圖，以及應(yīng)變電阻圖形化為迂回條狀導(dǎo)電體的示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例一制造過(guò)程的示意圖及層狀結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例二的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例二層狀分解圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例二制造過(guò)程的示意圖及層狀結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8是本發(fā)明實(shí)施例二中應(yīng)變電阻部與引線部連接的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式做進(jìn)一步的說(shuō)明。

實(shí)施例一

如圖1、2、3、4所示，這種力學(xué)感應(yīng)裝置一種力學(xué)感應(yīng)裝置，包括透明基板1以及設(shè)置在透明基板1第一面的第一應(yīng)變電阻層2，第一應(yīng)變電阻層2包括應(yīng)變電阻部3和引線部4，應(yīng)變電阻部3由透明的高阻導(dǎo)電膜5圖形化而成，應(yīng)變電阻部3包括多個(gè)應(yīng)變電阻301，如圖3所示，應(yīng)變電阻301圖形化為迂回條狀導(dǎo)電體；引線部4由透明的低阻導(dǎo)電膜6圖形化而成，引線部4包括多條第一引線401，第一引線401與相應(yīng)的應(yīng)變電阻301的端部相互重疊而實(shí)現(xiàn)連接；上述低阻導(dǎo)電膜6上設(shè)有多個(gè)用于設(shè)置應(yīng)變電阻301的空洞區(qū)601，高阻導(dǎo)電膜5覆蓋在低阻導(dǎo)電膜6上并覆蓋空洞區(qū)601；低阻導(dǎo)電膜6的方塊電阻值小于高阻導(dǎo)電膜5的方塊電阻值，更具體的，低阻導(dǎo)電膜6的方塊電阻值為40歐姆/方（小于50歐姆/方都可以），高阻導(dǎo)電膜5的方塊電阻值為400歐姆/方（大于300歐姆/方都可以）。

這種力學(xué)感應(yīng)裝置，還包括第二應(yīng)變電阻層9，第二應(yīng)變電阻層9設(shè)置在透明基板1的第二面上，第二應(yīng)變電阻層9與第一應(yīng)變電阻層2具有一致的圖形。

上述低阻導(dǎo)電膜5和高阻導(dǎo)電膜6均為氧化物透明導(dǎo)電薄膜；或者，低阻導(dǎo)電膜5為氧化物透明導(dǎo)電薄膜，而高阻導(dǎo)電膜6為碳納米管分散層、納米銀線分散層、透明導(dǎo)電聚合物涂層、分散物涂層的其中之一，分散物涂層為碳納米管或納米銀線分散在透明導(dǎo)電聚合物中經(jīng)過(guò)涂布等方法制作而成。

如圖4的圖4a～圖4d所示，這種透明力學(xué)感應(yīng)裝置的制造方法，包括在透明基板1的第一面實(shí)施以下步驟：

(1)、設(shè)置一層透明的低阻導(dǎo)電膜6，并在低阻導(dǎo)電膜6上設(shè)置多個(gè)空洞區(qū)601；

(2)、進(jìn)一步在低阻導(dǎo)電膜6上設(shè)置一層連續(xù)透明的高阻導(dǎo)電膜5，使得在空洞區(qū)601之外，高阻導(dǎo)電膜5和低阻導(dǎo)電膜6相互重疊，而空洞區(qū)601之內(nèi)僅有高阻導(dǎo)電膜5，高阻導(dǎo)電膜5的方塊電阻值高于低阻導(dǎo)電膜6的方塊電阻值；

(3)、對(duì)高阻導(dǎo)電膜5和低阻導(dǎo)電膜6同時(shí)進(jìn)行圖形化，以在空洞區(qū)601之內(nèi)形成構(gòu)成應(yīng)變電阻部3的多個(gè)應(yīng)變電阻301，而在空洞區(qū)601之外形成構(gòu)成引線部4的多條第一引線401，使得應(yīng)變電阻301僅由高阻導(dǎo)電膜5構(gòu)成，而第一引線401由低阻導(dǎo)電膜6、高阻導(dǎo)電膜5重疊而成。

另外，在上述步驟（3）之后，還進(jìn)行步驟（4）：在透明基板1的第二面上設(shè)置第二應(yīng)變電阻層9，第二應(yīng)變電阻層9與第一應(yīng)變電阻層2具有一致的圖形。

實(shí)施例二

如圖5、6、7、8所示，這種力學(xué)感應(yīng)裝置，包括透明基板1′以及設(shè)置在透明基板1′第一面的第一應(yīng)變電阻層2′，第一應(yīng)變電阻層2′包括應(yīng)變電阻部3′和引線部4′，應(yīng)變電阻部3′由透明的高阻導(dǎo)電膜5′圖形化而成，應(yīng)變電阻部3′包括多個(gè)應(yīng)變電阻301′；引線部4′由透明的低阻導(dǎo)電膜6′圖形化而成，引線部4′包括多條第一引線401′，第一引線401′與相應(yīng)的應(yīng)變電阻301′的端部相互重疊而實(shí)現(xiàn)連接；低阻導(dǎo)電膜6′的方塊電阻值小于高阻導(dǎo)電膜5′的方塊電阻值，更具體的，低阻導(dǎo)電膜6′的方塊電阻值為40歐姆/方（小于50歐姆/方都可以），高阻導(dǎo)電膜5′的方塊電阻值為400歐姆/方（大于300歐姆/方都可以）。

這種力學(xué)感應(yīng)裝置，還包括絕緣層7′、觸摸感應(yīng)層8′，上述高阻導(dǎo)電膜5′、絕緣層7′、低阻導(dǎo)電膜6′依次設(shè)置在透明基板1′上，觸摸感應(yīng)層8′包括觸摸感應(yīng)電極801′及第二引線802′，觸摸感應(yīng)電極801′通過(guò)第二引線802′引出，并且觸摸感應(yīng)電極801′和第二引線802′均由低阻導(dǎo)電膜6′圖形化而成，并且第一引線401′、第二引線802′均與應(yīng)變電阻301′之間相隔著絕緣層7′，絕緣層7′上設(shè)有多個(gè)通孔701′以露出應(yīng)變電阻301′的端部，第一引線401′通過(guò)通孔701′與應(yīng)變電阻301′的端部連接。

上述應(yīng)變電阻部3′及引線部4′的設(shè)置最終形成第一應(yīng)變電阻層2′，另外，在透明基板1′的第二面上設(shè)置第二應(yīng)變電阻層9′，第二應(yīng)變電阻層9′與第一應(yīng)變電阻層2′具有一致的圖形。

如圖7的圖7a～圖7f所示，這種透明力學(xué)感應(yīng)裝置的制造方法，包括在透明基板1′的第一面實(shí)施以下步驟：

(1)、設(shè)置一層透明的高阻導(dǎo)電膜5′，并將高阻導(dǎo)電膜5′圖形化為構(gòu)成應(yīng)變電阻部3′的多個(gè)應(yīng)變電阻301′；

(2)、在高阻導(dǎo)電膜5′上設(shè)置一層透明的絕緣層7′，絕緣層7′至少覆蓋在應(yīng)變電阻301′之上，并且絕緣層7′上設(shè)有多個(gè)通孔701′以露出應(yīng)變電阻301′的端部；

(3)、在絕緣層7′上再設(shè)置一層透明的低阻導(dǎo)電膜6′，并將低阻導(dǎo)電膜6′圖形化為構(gòu)成引線部4′的多條第一引線401′，同時(shí)，將低阻導(dǎo)電膜6′圖形化為構(gòu)成觸摸感應(yīng)層8′的觸摸感應(yīng)電極801′和第二引線802′，第一引線401′的端部通過(guò)絕緣層7′上的通孔701′與應(yīng)變電阻301′端部相重疊而構(gòu)成連接，第一引線401′、第二引線802′均與應(yīng)變電阻301′之間相隔著絕緣層7′。

上述應(yīng)變電阻部3′及引線部4′的設(shè)置最終形成第一應(yīng)變電阻層2′，另外，在上述步驟（3）之后，還進(jìn)行步驟（4）：在透明基板1′的第二面上設(shè)置第二應(yīng)變電阻層9′，第二應(yīng)變電阻層9′與第一應(yīng)變電阻層2′具有一致的圖形。

此外，需要說(shuō)明的是，本說(shuō)明書(shū)中所描述的具體實(shí)施例，其各部分名稱等可以不同，凡依本發(fā)明專利構(gòu)思所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效或簡(jiǎn)單變化，均包括于本發(fā)明專利的保護(hù)范圍內(nèi)。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離本發(fā)明的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書(shū)所定義的范圍，均應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。