本發(fā)明屬于物理技術(shù)領(lǐng)域，更進(jìn)一步涉及電磁波技術(shù)領(lǐng)域中的一種三維粗糙目標(biāo)雷達(dá)散射截面的仿真方法。本發(fā)明可用于對(duì)鈍錐、飛機(jī)等三維目標(biāo)的雷達(dá)散射截面進(jìn)行仿真。

背景技術(shù)：

目標(biāo)的電磁散射特征一直都是電磁學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。該方面的研究在遙感、飛行器隱形性能設(shè)計(jì)、雷達(dá)監(jiān)測(cè)以及跟蹤等許多領(lǐng)域都有重要的應(yīng)用。在傳統(tǒng)的研究對(duì)象中，計(jì)算電磁學(xué)的研究目標(biāo)都是光滑的，而對(duì)粗糙目標(biāo)的建模進(jìn)而分析其電磁散射特征的研究很少涉及。

北京農(nóng)業(yè)信息技術(shù)研究中心提出的專利申請(qǐng)“一種基于球B樣條的植物葉片建模方法”(申請(qǐng)日：2010年4月13日，申請(qǐng)?zhí)枺?01010147404.5,公開(kāi)號(hào)：CN 101833787A)中公開(kāi)了一種植物葉片的建模方法。該方法的主要步驟是：第一，對(duì)待建模的葉片進(jìn)行葉脈分析，選取待建模葉片；第二，測(cè)量葉片三維形態(tài)信息，葉片的三維形態(tài)信息包括待建模葉片上至少測(cè)量4個(gè)特征點(diǎn)的位置信息、所述特征點(diǎn)的厚度信息和葉邊緣特征點(diǎn)的位置信息；第三，根據(jù)所述葉片三維形態(tài)信息采用插值型球B樣條進(jìn)行葉脈建模；第四，根據(jù)所述葉片三維形態(tài)信息采用插值型B樣條曲面進(jìn)行葉面建模；第五，將所述葉脈模型與所述葉面模型的特征點(diǎn)位置重合，得到完整的葉片三維模型。該方法具有實(shí)時(shí)性，生成的植物葉片三維模型具有較高的真實(shí)感。

該方法的不足是，只能應(yīng)用于植物葉片的三維建模，與電磁學(xué)中的相關(guān)度太小，無(wú)法應(yīng)用于電磁學(xué)中三維粗糙目標(biāo)的建模。

李昌澤等人在文章“非均勻不穩(wěn)定表面粗糙目標(biāo)的太赫茲波段散射特性分析”(J.Infraed Millim.Waves,Vol.35,No.2,April,2016)提出了一種交互式幾何建模方法，并結(jié)合物理光學(xué)法和等效電流法計(jì)算了正方體、四面體和F117隱形戰(zhàn)斗機(jī)在含有一定粗糙度時(shí)的雷達(dá)散射截面。該方法的主要步驟是：第一，通過(guò)常用的CAD軟件生成目標(biāo)表面，然后利用剖分軟件進(jìn)行網(wǎng)格剖分，將目標(biāo)的表面剖分成若干三角面元，從而獲得目標(biāo)表面造型的面元編號(hào)以及相應(yīng)坐標(biāo)；第二，用隨機(jī)生成的粗糙面模型模擬目標(biāo)表面的粗糙度，生成與目標(biāo)表面相對(duì)應(yīng)的粗糙面元；第三，將目標(biāo)表面的粗糙度引起的起伏作為其對(duì)應(yīng)的光滑表面的法向方向的起伏。對(duì)于二維目標(biāo)，粗糙面元退化為線元模型，其作用區(qū)域?yàn)閮蓚€(gè)坐標(biāo)軸上的投影區(qū)域，需要在這兩個(gè)投影區(qū)域上分別生成兩個(gè)粗糙線元，也就是二維粗糙目標(biāo)表面上某一點(diǎn)的坐標(biāo)是其對(duì)應(yīng)的光滑目標(biāo)在該點(diǎn)坐標(biāo)與兩條粗糙線元坐標(biāo)的疊加；對(duì)于三維目標(biāo)，則需要將三維粗糙目標(biāo)表面上某一點(diǎn)的坐標(biāo)看作其對(duì)應(yīng)光滑目標(biāo)在該點(diǎn)坐標(biāo)與三個(gè)粗糙面元坐標(biāo)的疊加。該方法能夠用于分析規(guī)則目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。

該方法的不足之處是：第一，當(dāng)目標(biāo)表面連續(xù)時(shí)，無(wú)法對(duì)目標(biāo)表面進(jìn)行粗糙度的疊加，進(jìn)而無(wú)法生成粗糙目標(biāo)。第二，當(dāng)目標(biāo)為三維目標(biāo)時(shí)，需要用三個(gè)粗糙面元坐標(biāo)的疊加生成三維粗糙目標(biāo)上的點(diǎn)坐標(biāo)，該方法在面元數(shù)目較多的時(shí)候，計(jì)算量太大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于針對(duì)上述三維粗糙目標(biāo)建模方法的不足，提供了一種三維粗糙目標(biāo)建模方法，并借助物理光學(xué)法計(jì)算其雷達(dá)散射截面。通過(guò)借鑒二維粗糙面的建模方法和理論，將其應(yīng)用到三維粗糙目標(biāo)的建模中，進(jìn)而分析其電磁散射特征。該方法方便易行，具有較好的模型普適性，并且計(jì)算速度更快。

實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明具體步驟如下：

(1)分割目標(biāo)：

(1a)將三維光滑目標(biāo)沿著其外表面分割成由三維光滑目標(biāo)的外形確定的多個(gè)部分，得到對(duì)應(yīng)的多個(gè)子光滑目標(biāo)；

(1b)分別將每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面剖分成最大邊長(zhǎng)不超過(guò)入射波波長(zhǎng)1/10的三角面元，得到子光滑目標(biāo)的面元拓?fù)湫畔⒑凸?jié)點(diǎn)坐標(biāo)；

(2)子光滑目標(biāo)投影：

(2a)將每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面投影到一個(gè)合適的坐標(biāo)平面內(nèi)，得到與每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面相應(yīng)的投影區(qū)域；

(2b)在投影區(qū)域內(nèi)任選一點(diǎn)p₁，在子光滑目標(biāo)上選取一個(gè)與所選點(diǎn)對(duì)應(yīng)的點(diǎn)p₂，將投影區(qū)域內(nèi)的點(diǎn)p₁的坐標(biāo)作為鍵，將子光滑目標(biāo)上的點(diǎn)p₂的坐標(biāo)作為該鍵的值，用p₁坐標(biāo)確定的鍵和p₂坐標(biāo)確定的鍵值構(gòu)成一個(gè)鍵值對(duì)；

(2c)判斷所有子目標(biāo)的投影區(qū)域內(nèi)是否選取完所有的點(diǎn)，若是，則執(zhí)行步驟(3)，否則，執(zhí)行步驟(2b)；

(3)生成二維粗糙面：

(3a)任選一個(gè)投影區(qū)域，采用MonteCarlo算法，生成覆蓋所選投影區(qū)域的二維粗糙面；

(3b)判斷是否選取完子目標(biāo)的所有投影區(qū)域，若是，則執(zhí)行步驟(3c),否則，執(zhí)行步驟(3a)；

(3c)在投影區(qū)域上任選一個(gè)點(diǎn)p₁，在二維粗糙面內(nèi)選取一個(gè)與所選點(diǎn)對(duì)應(yīng)的點(diǎn)p₃，將p₃的坐標(biāo)作為鍵，將p₁的坐標(biāo)作為該鍵的值，用p₁坐標(biāo)確定的鍵和p₃坐標(biāo)確定的鍵值構(gòu)成一個(gè)鍵值對(duì)；

(3d)判斷子目標(biāo)的投影區(qū)域上是否選取完所有的點(diǎn)，若是，則執(zhí)行步驟(3e)，否則，執(zhí)行步驟(3c)；

(3e)在二維粗糙面內(nèi)任選一點(diǎn)p₃，將p₂的坐標(biāo)作為鍵，將p₃的坐標(biāo)作為該鍵的值，用p₂坐標(biāo)確定的鍵和p₃坐標(biāo)確定的鍵值構(gòu)成一個(gè)鍵值對(duì)；

(3f)將p₃在Z方向軸上的分量作為p₂的外法向量增量，生成三維粗糙目標(biāo)在p₂處的外法向量；

(3g)結(jié)合子光滑目標(biāo)上p₂的坐標(biāo)和p₂的外法向量，生成三維粗糙目標(biāo)在p₂處的點(diǎn)坐標(biāo)；

(3i)判斷二維粗糙面內(nèi)是否選取完所有的點(diǎn)，若是，執(zhí)行步驟(4)，否則，執(zhí)行步驟(3e)；

(4)生成三維粗糙目標(biāo)：

利用三維粗糙目標(biāo)上的點(diǎn)坐標(biāo)，計(jì)算所有三角面元的外法向量；

(5)獲得三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面：

利用物理光學(xué)法，計(jì)算三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)：

第一，本發(fā)明在生成三維粗糙目標(biāo)的過(guò)程中，采用二維粗糙面的生成方法模擬三維粗糙目標(biāo)表面的粗糙度，克服了現(xiàn)有技術(shù)只能應(yīng)用于植物葉片的三維建模，與電磁學(xué)中的相關(guān)度太小的缺點(diǎn)，使得本發(fā)明采用的三維粗糙目標(biāo)的生成方法更適合電磁波技術(shù)領(lǐng)域。

第二，本發(fā)明在生成三維粗糙目標(biāo)的過(guò)程中，將三維光滑目標(biāo)沿著其外表面分割成由三維光滑目標(biāo)的外形確定的多個(gè)部分，得到對(duì)應(yīng)的多個(gè)子光滑目標(biāo)，使得三維光滑目標(biāo)的外表面不再閉合、連續(xù)，克服了當(dāng)目標(biāo)表面連續(xù)時(shí)，無(wú)法對(duì)目標(biāo)表面進(jìn)行粗糙度的疊加，進(jìn)而無(wú)法生成粗糙目標(biāo)的缺點(diǎn)，使得本發(fā)明對(duì)模型適用范圍更高。

第三，本發(fā)明在生成三維粗糙目標(biāo)的過(guò)程中，只需將每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面投影到一個(gè)合適的坐標(biāo)平面內(nèi)，減少了投影次數(shù)，克服了現(xiàn)有技術(shù)當(dāng)目標(biāo)為三維目標(biāo)時(shí)，需要用三個(gè)粗糙面元坐標(biāo)的疊加生成三維粗糙目標(biāo)上的點(diǎn)坐標(biāo)的缺點(diǎn)，使得本發(fā)明計(jì)算量更小，計(jì)算速度更快。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的流程圖；

圖2為本發(fā)明在不同均方根高度的條件下，三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面隨散射角變化的曲線圖；

圖3為本發(fā)明在不同相關(guān)長(zhǎng)度的條件下，三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面隨散射角變化的曲線圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的描述。

參照附圖1，本發(fā)明的具體步驟如下。

步驟1，分割目標(biāo)。

將三維光滑目標(biāo)沿著其外表面分割成由三維光滑目標(biāo)的外形確定的多個(gè)部分，得到對(duì)應(yīng)的多個(gè)子光滑目標(biāo)。

所述的分割成由三維光滑目標(biāo)的外形確定的多個(gè)部分是指：

若三維光滑目標(biāo)是由多個(gè)幾何體構(gòu)成的組合體時(shí)，沿著該三維光滑目標(biāo)上所有的相鄰幾何體之間的連接面，用每個(gè)連接面上任意不共線的三點(diǎn)確定一個(gè)平面，用所確定的平面分別將該目標(biāo)分割成多個(gè)部分。

若三維光滑目標(biāo)不是組合體時(shí)，沿著組成該三維光滑目標(biāo)外表面的每個(gè)面，用每?jī)蓚€(gè)相鄰面的交線上任意不共線的三點(diǎn)確定一個(gè)平面，用所確定的平面分別將該目標(biāo)分割成多個(gè)部分。

若三維光滑目標(biāo)是正方體時(shí)，可以沿著組成該正方體外表面的六個(gè)正方形，用每個(gè)正方形上任意不共線的三個(gè)點(diǎn)所確定的平面，分別將該正方體切割，得到六個(gè)子光滑面；若三維光滑目標(biāo)是鈍錐，可以在錐頭與錐臺(tái)的連接面以及錐臺(tái)與底面的連接面處，用每個(gè)連接面上任意不共線的三點(diǎn)所確定的平面，分別將該鈍錐切割成錐頭、錐底、錐臺(tái)三個(gè)部分。

分別對(duì)每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面進(jìn)行三角面元剖分，得到子光滑目標(biāo)的面元拓?fù)湫畔⒑凸?jié)點(diǎn)坐標(biāo)。

步驟2，子光滑目標(biāo)投影。

(2a)將每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面投影到一個(gè)合適的坐標(biāo)平面內(nèi)，得到與每個(gè)子光滑目標(biāo)的外表面相應(yīng)的投影區(qū)域。

所述的合適的坐標(biāo)平面是指按照以下步驟選取的坐標(biāo)平面：

第一步，計(jì)算子光滑目標(biāo)上由分割而形成的所有截面的外法向量的均值。

第二步，將坐標(biāo)平面的法向量與外法向量均值夾角最小或最大的坐標(biāo)平面，作為合適的坐標(biāo)平面。

第三步，對(duì)于外法向量均值為0時(shí)，選擇任一坐標(biāo)平面作為合適的坐標(biāo)平面。

(2b)在投影區(qū)域內(nèi)任選一點(diǎn)，建立所選點(diǎn)與該點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子光滑目標(biāo)上的點(diǎn)位置坐標(biāo)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。

(2c)判斷投影區(qū)域內(nèi)是否選取完所有的點(diǎn)，若是，則執(zhí)行步驟3，否則，執(zhí)行步驟(2b)。

步驟3，生成二維粗糙面。

(3a)采用MonteCarlo算法，對(duì)每個(gè)投影區(qū)域分別生成所覆蓋相應(yīng)的投影區(qū)域的二維粗糙面。

所述的MonteCarlo算法生成二維粗糙面的具體步驟如下：

第一步，按照下式，計(jì)算二維粗糙面的高斯功率譜：

$P(k_x,k_y)={\mathrm{\δ}}^2\frac{l_x{l}_y}{4\mathrm{\π}}\exp (-\frac{k_x^2{l}_x^2+k_y^2{l}_y^2}{4})$

其中，P(k_x,k_y)表示二維粗糙面的高斯功率譜，k_x和k_y分別表示二維粗糙面的x軸和y軸上的離散采樣波數(shù)，δ表示二維粗糙面高度起伏均方根值，l_x和l_y分別表示二維粗糙面的x軸和y軸方向上的相關(guān)長(zhǎng)度，π表示圓周率，exp表示自然底數(shù)操作。

第二步，按照下式，計(jì)算二維粗糙面的高度譜的隨機(jī)系數(shù)：

其中，randN表示二維粗糙面的高度譜的隨機(jī)系數(shù)，D(0,1)表示符合均值為0且方差為1的正態(tài)分布的一個(gè)隨機(jī)數(shù)，i表示虛數(shù)單位，m_k和n_k分別表示二維粗糙面的x軸和y軸上第k個(gè)采樣點(diǎn)的序號(hào)，M和N分別表示二維粗糙面的x軸和y軸上的采樣點(diǎn)個(gè)數(shù)。

第三步，按照下式，計(jì)算二維粗糙面的高度譜：

其中，表示二維粗糙面的高度譜，和分別表示二維粗糙面的離散采樣波數(shù)，π表示圓周率，L_x和L_y分別表示二維粗糙面在x軸和y軸上的長(zhǎng)度，表示二維粗糙面的高斯功率譜，表示乘操作，randN表示二維粗糙面的高度譜的隨機(jī)系數(shù)。

第四步，按照下式，計(jì)算二維粗糙面的高度譜的二維傅里葉變換：

$f(x_m,y_n)=\frac{1}{L_x{L}_y}\underset{m_k}{\Σ}\underset{n_k}{\Σ}F(k_{m_k},k_{n_k})\exp \left(i\right(k_{m_k}{x}_m+k_{n_k}{y}_n\left)\right)$

其中，f(x_m,y_n)表示二維粗糙面上p(x_m,y_n)點(diǎn)處的高度起伏，x_m和y_n分別表示二維粗糙面的x軸和y軸上的采樣點(diǎn)坐標(biāo)值，L_x和L_y分別表示二維粗糙面在x軸和y軸上的長(zhǎng)度,∑表示求和操作，m_k表示二維粗糙面的x軸上第k個(gè)采樣點(diǎn)的序號(hào)，其取值范圍為[-M/2+1,M/2]，n_k表示二維粗糙面的y軸上第k個(gè)采樣點(diǎn)的序號(hào)，其取值范圍為[-N/2+1,N/2]，M和N分別表示二維粗糙面的x軸和y軸上的采樣點(diǎn)個(gè)數(shù)，表示二維粗糙面的高度譜，和分別表示二維粗糙面的離散采樣波數(shù)，exp表示自然底數(shù)操作，i表示虛數(shù)單位。

(3b)判斷是否選取完子目標(biāo)的所有投影區(qū)域，若是，則執(zhí)行步驟(3c),否則，執(zhí)行步驟(3a)。

(3c)在投影區(qū)域上任選一個(gè)點(diǎn)p₁，在二維粗糙面內(nèi)選取一個(gè)與所選點(diǎn)對(duì)應(yīng)的點(diǎn)p₃，將p₃的坐標(biāo)作為鍵，將p₁的坐標(biāo)作為該鍵的值，用p₁坐標(biāo)確定的鍵和p₃坐標(biāo)確定的鍵值構(gòu)成一個(gè)鍵值對(duì)。

(3d)判斷子目標(biāo)的投影區(qū)域上是否選取完所有的點(diǎn)，若是，則執(zhí)行步驟(3e)，否則，執(zhí)行步驟(3c)。

(3e)在二維粗糙面內(nèi)任選一點(diǎn)p₃，將p₂的坐標(biāo)作為鍵，將p₃的坐標(biāo)作為該鍵的值，用p₂坐標(biāo)確定的鍵和p₃坐標(biāo)確定的鍵值構(gòu)成一個(gè)鍵值對(duì)。

(3f)將p₃在Z方向軸上的分量作為p₂的外法向量增量，生成三維粗糙目標(biāo)在p₂處的外法向量。

所述的生成三維光滑目標(biāo)上點(diǎn)的外法向量是由下式計(jì)算得到的：

${\stackrel{\→}{V}}_j=\frac{\underset{a=1}{\overset{u}{\Σ}}{\hat{v}}_a}{u}$

其中，表示三維光滑目標(biāo)上第j個(gè)點(diǎn)的外法向量，u表示與三維光滑目標(biāo)上第j個(gè)點(diǎn)相鄰的三角面元個(gè)數(shù)，∑表示求和操作，a表示與三維光滑目標(biāo)上第j個(gè)點(diǎn)相鄰的第a個(gè)三角面元，為與該點(diǎn)相鄰的第a個(gè)三角面元的單位外法向量。

(3g)結(jié)合子光滑目標(biāo)上p₂的坐標(biāo)和p₂的外法向量，生成三維粗糙目標(biāo)在p₂處的點(diǎn)坐標(biāo)。

(3i)判斷二維粗糙面內(nèi)是否選取完所有的點(diǎn)，若是，執(zhí)行步驟4，否則，執(zhí)行步驟(3e)。

步驟4，生成三維粗糙目標(biāo)。

利用三維粗糙目標(biāo)上的點(diǎn)坐標(biāo)，計(jì)算所有三角面元的外法向量。

步驟5，獲得三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。

利用物理光學(xué)法，計(jì)算三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面。

所述的利用物理光學(xué)法，計(jì)算三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面的具體步驟如下：

第1步，按照下式，計(jì)算中間變量：

$I=\underset{S}{\∫}\hat{r}\×\{\hat{r}\×\[\left(\hat{n}\right(r^{\′})\·{\hat{E}}_0)\hat{k}-\left(\hat{n}\right(r^{\′})\·\hat{k}){\hat{E}}_0\]\}{e}^{-{\mathrm{ik}}_0(-\hat{r}+\hat{k})\·r^{\′}}ds$

其中，I表示中間變量，∫表示面積分操作，S表示三維粗糙目標(biāo)的表面，表示觀察點(diǎn)的單位矢量，表示三維粗糙目標(biāo)上三角面元的單位外法向量，r′表示三維粗糙目標(biāo)上單位點(diǎn)源矢量，表示單位入射電場(chǎng)矢量，表示單位入射波矢量，i表示虛數(shù)單位，e表示自然底數(shù)操作，k₀表示入射波波數(shù)。

第2步，按照下式，計(jì)算三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面：

$\mathrm{\σ}=\frac{4\mathrm{\π}}{{\mathrm{\λ}}^2}\left|I^2\right|$

其中，σ表示三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面，π表示圓周率，λ表示入射波波長(zhǎng)，表示取模操作，I表示中間變量。

下面通過(guò)仿真對(duì)本發(fā)明的效果做進(jìn)一步說(shuō)明。

1.仿真條件：

本發(fā)明中的仿真實(shí)驗(yàn)中采用的計(jì)算雷達(dá)散射截面的三維光滑鈍錐模型的參數(shù)如下：鈍錐高度h＝1.30m,錐頭半徑r_h＝0.15m,底部半徑r_b＝0.36m,錐頂半角α＝9°,鈍錐材料為PEC。

入射電磁波參數(shù)如下：電磁波頻率f＝150GHz,入射波矢入射電場(chǎng)為其中,θ_i為入射角，其取值為30°。其數(shù)值為波矢與Z軸負(fù)方向的夾角。如果該夾角為順時(shí)針，那么θ_i取正值；如果為逆時(shí)針，取負(fù)值。

2.仿真內(nèi)容：

利用物理光學(xué)法，計(jì)算了相同相關(guān)長(zhǎng)度不同均方根高度的情況下三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面，以及相同均方根高度不同相關(guān)長(zhǎng)度的情況下三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面和三維光滑鈍錐的雷達(dá)散射截面。

3.仿真效果分析：

圖2是在不同均方根高度的條件下，三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面隨散射角變化的曲線。其中，圖2中的橫坐標(biāo)表示散射角，縱坐標(biāo)表示三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面。圖2中以方形標(biāo)示的曲線表示均方根高度δ＝0.5mm時(shí)，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。圖2中以圓圈標(biāo)示的曲線表示均方根高度δ＝0.5mm時(shí)，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。圖2中以三角形標(biāo)示的曲線，表示三維光滑鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。

比較圖2中的三條曲線可以看出，利用本發(fā)明的方法計(jì)算得到的結(jié)果表明，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面與均方根高度成正比，二者之間的關(guān)系非常明確，能夠更直接且清晰地反映粗糙度參數(shù)對(duì)三維鈍錐雷達(dá)散射截面的影響。

圖3是在不同相關(guān)長(zhǎng)度的條件下，三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面隨散射角變化的曲線。其中，圖3中的橫坐標(biāo)表示散射角，縱坐標(biāo)表示三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面。圖3中以方形標(biāo)示的曲線表示相關(guān)長(zhǎng)度l_c＝0.5mm時(shí)，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。圖3中以圓圈標(biāo)示的曲線表示相關(guān)長(zhǎng)度l_c＝5.0mm時(shí)，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。圖3中以三角形標(biāo)示的曲線表示相關(guān)長(zhǎng)度l_c＝10mm時(shí)，三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面的曲線。

比較圖3中的三條曲線可以看出，利用本發(fā)明的方法計(jì)算得到的結(jié)果表明三維粗糙鈍錐的雷達(dá)散射截面與相關(guān)長(zhǎng)度關(guān)聯(lián)不大，相關(guān)長(zhǎng)度對(duì)三維粗糙目標(biāo)的雷達(dá)散射截面影響很小。