本發(fā)明涉及適用于能通過(guò)手指、觸控筆等的接觸輸入信息的輸入顯示裝置等的透光性導(dǎo)電薄膜。

背景技術(shù)：

目前，已知依次具有薄膜基材、形成有網(wǎng)眼狀圖案的金屬布線層和著色層(黑化層)的透光性導(dǎo)電薄膜(專利文獻(xiàn)1)。這樣的透光性導(dǎo)電薄膜由于導(dǎo)電性、彎曲性優(yōu)異而作為代替使用了銦錫氧化物(ITO)的透光性導(dǎo)電薄膜的接觸式傳感器的電極材料受到關(guān)注。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2013-129183號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問(wèn)題

但是，現(xiàn)有的透光性導(dǎo)電薄膜存在金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案仍然會(huì)被接觸式傳感器的使用者視覺辨識(shí)到的問(wèn)題，要求對(duì)這一問(wèn)題進(jìn)行改善。

本發(fā)明的目的在于，提供生產(chǎn)率優(yōu)異、能不發(fā)生金屬布線的斷線而實(shí)現(xiàn)高可靠性、并且不易看到金屬布線層的使用感良好的透光性導(dǎo)電薄膜。

用于解決問(wèn)題的方案

本發(fā)明人等對(duì)透光性導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)著眼于薄膜基材的表面形狀、以及形成于該薄膜基材上的金屬布線層的尺寸及著色層的配置，將它們?cè)O(shè)定為適合的形狀、尺寸及配置，能夠提供生產(chǎn)率優(yōu)異、能不發(fā)生金屬布線的斷線而實(shí)現(xiàn)高可靠性、并且不易視覺辨識(shí)到金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案的透光性導(dǎo)電薄膜。

即，本發(fā)明的主旨如下。

(1)一種透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，其為具有薄膜基材、形成有圖案的金屬布線層和著色層的透光性導(dǎo)電薄膜，前述薄膜基材在形成前述金屬布線層側(cè)的表面具有多個(gè)突起，前述金屬布線層的線寬大于5μm且小于8μm，并且，前述金屬布線層的厚度為0.1μm以上且小于0.5μm，前述著色層形成于前述金屬布線層的視覺辨識(shí)側(cè)的主面、且不形成于前述金屬布線層的側(cè)面。

(2)根據(jù)上述(1)所述的透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，在前述薄膜基材的形成前述金屬布線層側(cè)的表面的俯視圖中，前述突起的外徑大于0且為5μm以下。

(3)根據(jù)上述(1)所述的透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，前述突起的高度小于3μm。

(4)根據(jù)上述(1)所述的透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，前述金屬布線層具有扁平形狀，線寬相對(duì)于厚度的比例為15～50。

(5)根據(jù)上述(1)所述的透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，前述金屬布線層形成為網(wǎng)眼狀。

(6)一種透光性導(dǎo)電薄膜，其特征在于，具備：

在兩側(cè)的表面分別具有多個(gè)突起的薄膜基材、

在前述薄膜基材的一個(gè)表面上形成的第1金屬布線層、

在前述第1金屬布線層上形成的第1著色層、

在前述薄膜基材的另一個(gè)表面上形成的第2著色層、和

在前述第2著色層上形成的第2金屬布線層，

前述第1及第2金屬布線層的線寬大于5μm且小于8μm，并且，前述第1及第2金屬布線層的厚度為0.1μm以上且小于0.5μm，

前述第1著色層層疊于前述第1金屬布線層的與前述薄膜基材處于相反側(cè)的主面，并且不形成于前述第1金屬布線層的側(cè)面，

前述第2著色層層疊于前述第2金屬布線層的前述薄膜基材側(cè)的主面，并且不形成于前述第2金屬布線層的側(cè)面。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，在薄膜基材的表面設(shè)置多個(gè)突起。由此，對(duì)薄膜基材賦予滑動(dòng)性、耐磨性，在將金屬布線層連續(xù)成膜時(shí)，能夠高水平維持品質(zhì)并提高其成膜速度、提高生產(chǎn)率。

此外，金屬布線層設(shè)定成具有規(guī)定的線寬，并且在金屬布線層的視覺辨識(shí)側(cè)的表面設(shè)置用于吸收外部的光線的著色層。由此，能夠防止在薄膜基材上層疊金屬布線層時(shí)由薄膜基材的突起導(dǎo)致的金屬布線的斷線，能夠?qū)崿F(xiàn)高的可靠性。此外，能夠防止網(wǎng)眼狀圖案等的金屬布線層發(fā)亮而被視覺辨識(shí)到，能夠?qū)崿F(xiàn)良好的使用感。

進(jìn)而，金屬布線層的厚度比現(xiàn)有技術(shù)的金屬布線層更薄，為0.1μm以上且小于0.5μm。通過(guò)設(shè)定為這樣的結(jié)構(gòu)，在外部的光線從傾斜方向?qū)ν腹庑詫?dǎo)電薄膜入射時(shí)，金屬布線層的側(cè)面不發(fā)亮，能夠使金屬布線層更難被視覺辨識(shí)到。此外，由于在金屬布線層的側(cè)面不設(shè)置著色層，因此，不需要在金屬布線層的側(cè)面形成著色層的工序，透光性導(dǎo)電薄膜的生產(chǎn)率優(yōu)異。

尤其是在薄膜基材的兩側(cè)的表面分別形成有金屬布線層時(shí)，能夠防止兩面的金屬布線層的斷線，并且防止兩面的金屬布線層被視覺辨識(shí)到，能夠獲得更顯著的效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式的透光性導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)的示意性截面圖。

圖2是圖1的透光性導(dǎo)電薄膜的局部放大圖，(a)是俯視圖、(b)是沿(a)的線A-A的截面圖。

圖3是表示圖1的透光性導(dǎo)電薄膜的變形例的截面圖。

圖4是表示圖1的透光性導(dǎo)電薄膜的其它變形例的截面圖。

具體實(shí)施方式

以下，邊參照附圖邊對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

圖1是表示本實(shí)施方式的透光性導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)的示意圖。需要說(shuō)明的是，圖1中的各結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度、寬度或者厚度僅是其中一例，本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜中的各結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度、寬度或者厚度不限定于圖1的長(zhǎng)度、寬度或者厚度。

如圖1所示，本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜至少依次具備：薄膜基材11、形成有網(wǎng)眼狀圖案的金屬布線層12和著色層13。具體而言，薄膜基材11如圖2的(a)、(b)所示，在形成金屬布線層12側(cè)的表面11a上具有多個(gè)突起31。此外，構(gòu)成金屬布線層12的各布線在薄膜基材的表面11a之上及突起31的表面31a之上這兩者上連續(xù)地形成。金屬布線層12的線寬大于5μm且為8μm以下，金屬布線層的厚度為0.1μm以上且小于0.5μm。此外，還具有如下的特征：著色層13層疊于金屬布線層12的視覺辨識(shí)側(cè)A的主面12a、且不形成于金屬布線層12的側(cè)面12b。

透光性導(dǎo)電薄膜中，具有金屬布線層側(cè)的表面電阻率優(yōu)選為0.1Ω/□～400Ω/□、更優(yōu)選為0.1Ω/□～100Ω/□、特別優(yōu)選為1Ω/□～60Ω/□。透光性導(dǎo)電薄膜1的透射率優(yōu)選為80％以上、更優(yōu)選為85％以上。

本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜只要依次具有薄膜基材、金屬布線層及著色層，就可以在各層間包含其它層。例如，透光性導(dǎo)電薄膜可以在薄膜基材和金屬布線層之間配置用于提高密合性的密合性樹脂層，還可以在薄膜基材的兩側(cè)配置金屬布線層、著色層。

(薄膜基材)

本發(fā)明中使用的薄膜基材用于支撐金屬布線層。該薄膜基材可以為單層、也可以為多層。薄膜基材的厚度從透明性、處理性的觀點(diǎn)考慮優(yōu)選為20μm～200μm。

上述薄膜基材在形成金屬布線層側(cè)的表面具有多個(gè)突起。通過(guò)在薄膜基材的表面設(shè)置多個(gè)突起，能夠?qū)Ρ∧せ馁x予滑動(dòng)性、耐磨性，在將金屬布線層連續(xù)成膜時(shí)，能夠高水平維持品質(zhì)并提高其成膜速度、提高生產(chǎn)率。

關(guān)于突起，在薄膜基材的形成金屬布線層側(cè)的表面的俯視圖中，其外徑D大于0且為5μm以下、優(yōu)選為0.5μm～3μm。突起的外徑例如可以通過(guò)以規(guī)定倍率對(duì)薄膜基材的形成金屬布線層側(cè)的表面進(jìn)行圖像觀察來(lái)測(cè)定。外徑D大于5μm時(shí)，存在金屬布線在薄膜基材的表面和突起表面的邊界部附近斷線的可能性。

關(guān)于突起的高度，以薄膜基材的平坦的表面為基準(zhǔn)，優(yōu)選大于0且為3μm以下、更優(yōu)選為0.1μm～2μm。

關(guān)于突起的形狀，在本實(shí)施方式中為大致圓頂型，薄膜基材的面方向截面為大致圓形、厚度方向截面為大致半圓形(圖2)。其中，本發(fā)明的突起只要能賦予薄膜基材以滑動(dòng)性、耐磨性、并且能連續(xù)且高速地成膜高品質(zhì)的金屬布線層，也可以為圓頂型以外的其它形狀。

作為在薄膜基材上設(shè)置突起的手段，可以列舉出：在該薄膜基材的內(nèi)部分散潤(rùn)滑劑的方法，在薄膜表面涂布分散有很多顆粒的粘結(jié)劑(binder)的方法等。

構(gòu)成薄膜基材的薄膜優(yōu)選透明性和耐熱性優(yōu)異的聚合物薄膜。上述聚合物薄膜例如為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚環(huán)烯烴薄膜、聚碳酸酯薄膜、或聚砜薄膜。這樣的聚合物薄膜可以從例如三菱樹脂株式會(huì)社、帝人杜邦薄膜株式會(huì)社、Zeon Corporation、帝人化成株式會(huì)社等獲得。

(金屬布線層)

本發(fā)明使用的金屬布線層為了賦予透光性而形成為例如網(wǎng)眼狀圖案。對(duì)上述金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案沒有特別限定，例如為正方形格子、菱形格子、或多邊形格子。

用于形成上述金屬布線層的材料只要具有導(dǎo)電性就沒有限定，優(yōu)選為銀、銅或它們的合金，更優(yōu)選為銅。

上述金屬布線層的線寬大于5μm且小于8μm、優(yōu)選大于5.5μm且為7μm以下。為這樣的線寬范圍時(shí)，能夠防止由薄膜基材的突起引起的斷線。線寬為5μm以下時(shí)，雖然不易視覺辨識(shí)到金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案，但薄膜基材的突起會(huì)導(dǎo)致金屬布線發(fā)生斷線的頻率變高，大量生產(chǎn)時(shí)，品質(zhì)及可靠性變低。另一方面，線寬為8μm以上時(shí)，能明顯地視覺辨識(shí)到金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案。

金屬布線層的厚度為0.1μm以上且小于0.5μm、優(yōu)選大于0.1μm且為0.4μm以下、更優(yōu)選為0.15μm～0.35μm。金屬布線層通過(guò)將其厚度設(shè)定為例如小于2μm，能夠進(jìn)一步防止視覺辨識(shí)到網(wǎng)眼狀圖案。對(duì)于這樣的結(jié)構(gòu)而言，在外部的光線從傾斜方向?qū)ν腹庑詫?dǎo)電薄膜入射時(shí)，金屬布線層的側(cè)面不發(fā)亮而不易被看到。此外，由于未在金屬布線層的側(cè)面設(shè)置著色層，因此，不需要在金屬布線層的側(cè)面形成著色層的工序，透光性導(dǎo)電薄膜的生產(chǎn)率優(yōu)異。

本發(fā)明的金屬布線層的特征在于具有扁平形狀，線寬相對(duì)于厚度的比例(線寬/厚度)優(yōu)選為10以上且小于80、更優(yōu)選為15～50。滿足這樣的關(guān)系的透光性導(dǎo)電薄膜的生產(chǎn)率優(yōu)異、不發(fā)生金屬布線的斷線、并且不易視覺辨識(shí)到金屬布線層的網(wǎng)眼狀圖案。

對(duì)于金屬布線層的截面積，為了得到觸摸面板傳感器所必需的導(dǎo)電性，優(yōu)選為0.5μm²～4μm²、更優(yōu)選為0.5μm²～3.2μm²、特別優(yōu)選為0.5μm²～2.5μm²。

對(duì)于金屬布線層的間距，為了得到充分的透光性，優(yōu)選為200μm～800μm、更優(yōu)選為350μm～650μm。金屬布線層的開口率優(yōu)選為95％～99％、更優(yōu)選為96％～99％。

作為形成上述金屬布線層的方法，例如使用如下的方法：在薄膜基材的整個(gè)表面成膜金屬層之后，在金屬層上層疊規(guī)定的抗蝕圖案(resist pattern)，通過(guò)蝕刻(etching)，以形成為網(wǎng)眼狀的金屬布線層的方式將不需要的區(qū)域的金屬層去除之后，將抗蝕層剝離。成膜上述金屬層的方法例如為濺射(spattering)法、鍍覆(plating)法、或它們的組合。

(著色層)

本發(fā)明中使用的著色層通過(guò)層疊于金屬布線層的視覺辨識(shí)側(cè)的表面，能夠吸收外部的光線，從而防止網(wǎng)眼狀圖案發(fā)亮而被視覺辨識(shí)到。本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜由于金屬布線層的厚度薄，因而不需要在金屬布線層的側(cè)面形成著色層。因此，透光性導(dǎo)電薄膜的生產(chǎn)率優(yōu)異。

上述著色層可以為單層、也可以為多層。該著色層的總厚度優(yōu)選為5nm～2μm、更優(yōu)選為10nm～1μm、特別優(yōu)選為10nm～60nm。著色層的線寬基本上與金屬布線層相同，例如大于5μm且小于8μm、優(yōu)選大于5.5μm且為7μm以下。

著色層的色調(diào)優(yōu)選為黑色或深灰色。為此，有時(shí)將著色層稱為黑化層、將設(shè)置黑化層稱為黑化處理。

用于形成著色層的材料只要會(huì)吸收外部的光線就沒有特別限定，例如可以使用日本特開2008-25025號(hào)公報(bào)中記載的利用鍍覆法形成的黑化層(黑色銅、或黑色鎳)、日本特開2013-129183號(hào)公報(bào)中記載的利用濺射法形成的黑化層(氧化銅、氮化銅、氮化鎳、或氧化鎳)。

作為僅在金屬布線層的圖案辨識(shí)側(cè)的表面形成上述著色層的著色層形成方法，根據(jù)層疊結(jié)構(gòu)，可以列舉出以下的方法。為圖1的結(jié)構(gòu)時(shí)，上述著色層形成方法例如為如下的方法：在薄膜基材的整個(gè)表面通過(guò)鍍覆法成膜金屬層后，對(duì)金屬層的表面，通過(guò)鍍覆法進(jìn)行黑化處理，從而形成著色層，其后，同時(shí)對(duì)金屬層和著色層進(jìn)行蝕刻的方法(第1制法)。本制法由于能夠在生成金屬層后緊接著進(jìn)行黑化處理，因此，能夠縮短制造時(shí)間、降低成本，還能夠減少環(huán)境負(fù)荷。

如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，在薄膜基材11的表面11a上設(shè)置有多個(gè)突起31。由此，能夠?qū)Ρ∧せ?1賦予滑動(dòng)性、耐磨性，在連續(xù)地成膜金屬布線層12時(shí)，能夠高水平地維持品質(zhì)并提高其成膜速度、提高生產(chǎn)率。此外，金屬布線層12設(shè)定為具有規(guī)定的線寬，并且，在金屬布線層12的視覺辨識(shí)側(cè)A的主面12a設(shè)置有用于吸收外部的光線的著色層13。由此，在薄膜基材11上層疊金屬布線層12時(shí)，能夠防止由薄膜基材11的突起31引起的金屬布線的斷線，此外，能夠防止網(wǎng)眼狀圖案等的金屬布線層12發(fā)亮而被視覺辨識(shí)到，能夠?qū)崿F(xiàn)良好的使用感。進(jìn)而，金屬布線層12的厚度小于0.5μm。通過(guò)設(shè)定為這樣的結(jié)構(gòu)，在外部的光線從傾斜方向?qū)ν腹庑詫?dǎo)電薄膜入射時(shí)，金屬布線層12的側(cè)面12b不發(fā)亮，能夠使網(wǎng)眼狀圖案更難被視覺辨識(shí)到。此外，由于未在金屬布線層12的側(cè)面12b設(shè)置著色層，因此，不需要在金屬布線層12的側(cè)面12b形成著色層的工序，透光性導(dǎo)電薄膜的生產(chǎn)率優(yōu)異。

需要說(shuō)明的是，在圖1中，金屬布線層雖然形成于薄膜基材的視覺辨識(shí)側(cè)的表面，但也可以代替這種情況而形成于薄膜基材的顯示裝置側(cè)的表面。

具體而言，如圖3所示，透光性導(dǎo)電薄膜依次具有：薄膜基材11、形成有網(wǎng)眼狀圖案的著色層23和金屬布線層22。并且，薄膜基材11在形成金屬布線層22側(cè)、即在視覺辨識(shí)側(cè)A的相反側(cè)B(透光性導(dǎo)電薄膜以接觸式傳感器的方式層疊于顯示裝置來(lái)使用時(shí)為顯示裝置側(cè))的表面11b具有多個(gè)突起(未圖示)。金屬布線層22的線寬及厚度與圖1的金屬布線層12相同。著色層23層疊于金屬布線層22的辨識(shí)側(cè)A的主面22a，與圖1的結(jié)構(gòu)同樣地，具有不形成于金屬布線層22的側(cè)面22b的特征。

為圖3的結(jié)構(gòu)時(shí)，作為著色層形成方法，例如可以列舉出如下的方法：在成膜金屬層之前的薄膜基材上，通過(guò)濺射法成膜著色層，之后，在該著色層的表面通過(guò)濺射法成膜金屬層，其后，同時(shí)對(duì)著色層和金屬層進(jìn)行蝕刻的方法(第2制法)。本制法也能夠在生成金屬層之后緊接著進(jìn)行黑化處理，因此，也能夠縮短制造時(shí)間、降低成本，還能夠減少環(huán)境負(fù)擔(dān)。

如上所述，圖3所示的結(jié)構(gòu)也能夠發(fā)揮與圖1的形態(tài)同樣的效果。

此外，金屬布線層也可以形成于薄膜基材的兩面。該情況下，本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜在各金屬布線層的視覺辨識(shí)側(cè)的表面層疊著色層。

具體而言，如圖4所示，透光性導(dǎo)電薄膜具備：在兩側(cè)的表面11a、11b上分別具有多個(gè)突起(未圖示)的薄膜基材11，在該薄膜基材的一個(gè)表面11a上形成的金屬布線層12(第1金屬布線層)，在金屬布線層12上形成的著色層13(第1著色層)，在薄膜基材11的另一個(gè)表面11b上形成的著色層23(第2著色層)和在著色層23上形成的金屬布線層22(第2金屬布線層)。

金屬布線層12、22的線寬分別大于5μm且小于8μm，并且，金屬布線層12、22的厚度分別為0.1μm以上且小于0.5μm。此外，著色層13層疊于金屬布線層12的與薄膜基材11處于相反側(cè)的主面12a、且不形成于金屬布線層12的側(cè)面12b。進(jìn)而，著色層23層疊于金屬布線層22的薄膜基材11側(cè)的主面22a、且不形成于金屬布線層22的側(cè)面22b。根據(jù)圖4所示的結(jié)構(gòu)，能夠更顯著地獲得上述效果。

以上對(duì)本實(shí)施方式的透光性導(dǎo)電薄膜進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明不限定于前述實(shí)施方式，可以基于本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思進(jìn)行各種變形和變更。

實(shí)施例

以下對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。

[實(shí)施例]

在厚度50μm的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的表面涂布分散有許多顆粒(綜研化學(xué)株式會(huì)社制造、商品名“MX180-TA”)的粘結(jié)劑(DI公司制造、商品名“ELS888”)，制作在表面具有多個(gè)突起(以薄膜基材的平坦的表面為基準(zhǔn)，高度為1.2μm)的薄膜基材。然后，在薄膜基材的涂布了粘結(jié)劑的表面，通過(guò)DC濺射法成膜厚度80nm的銅層，形成層疊體。

然后，將該層疊體浸漬在電鍍銅浴中，通過(guò)將電流密度設(shè)為20A/dm²的電鍍法使銅層的厚度增加，使銅層的總厚度為200nm(0.2μm)。在該階段析出的金屬為褐色。其后，將電流密度變更為50A/dm²，繼續(xù)進(jìn)行鍍覆，在銅層的表面層疊由黑色銅形成的著色層。將具備薄膜基材、銅層及著色層的層疊體從鍍覆浴中取出，水洗并干燥。

接著，在黑化層的表面層疊規(guī)定的抗蝕圖案，通過(guò)蝕刻法將不需要的區(qū)域的銅層及著色層同時(shí)去除，之后將抗蝕層剝離，形成在最表面具有著色層的線寬6μm、間距450nm、厚度0.2μm、開口率97％的正方形格子狀(網(wǎng)眼狀)的金屬布線層。由此得到的透光性導(dǎo)電薄膜的透射率為88％、表面電阻率為3Ω/□。

[比較例1]

變更鍍覆時(shí)間，使金屬布線層的厚度為2μm，除此以外，利用與實(shí)施例同樣的方法制作透光性導(dǎo)電薄膜。

[比較例2]

變更鍍覆時(shí)間及抗蝕圖案，使金屬布線層的線寬為10μm、厚度為2μm，除此以外，利用與實(shí)施例同樣的方法制作透光性導(dǎo)電薄膜。

[比較例3]

變更抗蝕圖案，使金屬布線層的線寬為8μm，除此以外，利用與實(shí)施例同樣的方法制作透光性導(dǎo)電薄膜。

[比較例4]

變更抗蝕圖案，使金屬布線層的線寬為3μm，除此以外，利用與實(shí)施例同樣的方法制作透光性導(dǎo)電薄膜。

接著，如下操作來(lái)測(cè)定·評(píng)價(jià)實(shí)施例及比較例的透光性導(dǎo)電薄膜。

(金屬布線層的線寬及間距的測(cè)定)

使用顯微鏡(奧林巴斯株式會(huì)社制造、裝置名“MX61L”)來(lái)拍攝顯微鏡照片，基于拍攝的照片實(shí)際測(cè)量各值。

(金屬布線層的厚度的測(cè)定)

切取利用上述方法制得的透光性導(dǎo)電薄膜的一部分，利用樹脂澆注成型，使用顯微鏡(日立制作所株式會(huì)社制造、裝置名“HF2000”觀察截面，實(shí)際測(cè)量各值。

(開口率的計(jì)算)

在將金屬布線層的間距設(shè)定為從在單元圖案中鄰接配置的2個(gè)布線的一個(gè)的中心到另一個(gè)中心的長(zhǎng)度、并且將網(wǎng)眼空間的長(zhǎng)度設(shè)定為由上述間距減去上述布線的線寬而得到的值的情況下，由“(開口率)＝{(網(wǎng)眼空間長(zhǎng)度/間距)²}×100”式求出。

(透射率的測(cè)定)

使用雙光束分光光度計(jì)(日立制作所株式會(huì)社制造、裝置名“U4100”)測(cè)定400～700nm的透射率，求出其平均值。

(金屬布線的斷線的評(píng)價(jià))

使用放大鏡肉眼觀察制得的透光性導(dǎo)電薄膜的整個(gè)面，確認(rèn)有無(wú)斷線。

(網(wǎng)眼狀圖案的視覺辨識(shí)防止性的評(píng)價(jià))

在三波長(zhǎng)發(fā)光型熒光燈的光源下目視觀察制得的透光性導(dǎo)電薄膜，確認(rèn)能否從正面方向及斜向兩個(gè)方向視覺辨識(shí)到網(wǎng)眼狀圖案，將不能視覺辨識(shí)到網(wǎng)眼狀圖案的情況記為良好、將能清楚視覺辨識(shí)到網(wǎng)眼狀圖案的情況記為不良。

將如上操作進(jìn)行測(cè)定·評(píng)價(jià)的結(jié)果示于表1。

[表1]

由表1的結(jié)果可知，實(shí)施例中，金屬布線層的線寬為6μm、且金屬布線層的厚度為0.2μm、從正面方向及斜向任意方向均看不到網(wǎng)眼狀圖案，并且也未確認(rèn)到金屬布線的斷線。

而比較例1中，金屬布線層的線寬為6μm、且厚度為2μm，雖然未確認(rèn)到金屬布線的斷線，但是從斜向觀察時(shí)看到了網(wǎng)眼狀圖案。

比較例2中，金屬布線層的線寬為10μm、且厚度為2μm，雖然未確認(rèn)到金屬布線的斷線，但是從正面方向及斜向兩個(gè)方向觀察時(shí)，看到了網(wǎng)眼狀圖案。

比較例3中，金屬布線層的線寬為8μm、且厚度為0.2μm，雖然未確認(rèn)到金屬布線的斷線，但是從正面方向觀察時(shí)看到了網(wǎng)眼狀圖案。

比較例4中，金屬布線層的線寬為3μm、且厚度為0.2μm，雖然未看到網(wǎng)眼狀圖案，但是確認(rèn)到金屬布線的斷線。

產(chǎn)業(yè)上的可利用性

本發(fā)明的透光性導(dǎo)電薄膜適宜作為接觸式傳感器的電極材料。作為接觸式傳感器，優(yōu)選為智能手機(jī)、平板終端(Slate PC)等便攜式終端中使用的靜電電容方式接觸式傳感器。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

11 薄膜基材

11a 表面

11b 表面

12 金屬布線層

12a 主面

12b 側(cè)面

13 著色層

22 金屬布線層

22a 主面

22b 側(cè)面

23 著色層

31 突起

31a 表面