本發(fā)明涉及工業(yè)金屬加工領(lǐng)域，具體涉及一種機(jī)械設(shè)備防護(hù)系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

目前，在只能制造的大環(huán)境下，金屬的加工尤為重要。金屬在加工過(guò)程中，金屬屑及冷卻液在高速運(yùn)轉(zhuǎn)的機(jī)器作用下四處飛濺，金屬液也具有化學(xué)性能，久而久之，金屬屑及冷卻液會(huì)在設(shè)備周圍堆積成污垢，導(dǎo)致設(shè)備需要經(jīng)常進(jìn)行清潔，但是在設(shè)備的某些死角很難進(jìn)行清潔，時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)對(duì)設(shè)備的制造精度、壽命、剛性和穩(wěn)定性，尤其是需要精加工的大型設(shè)備造成很大的影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足，本發(fā)明的目的在于提供一種機(jī)械設(shè)備防護(hù)系統(tǒng)，本發(fā)明能夠?qū)庸わw濺出來(lái)的金屬屑進(jìn)行收集，防止金屬屑和冷卻液飛濺至設(shè)備的死角中，減少金屬屑在設(shè)備中的殘留。

本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)實(shí)現(xiàn)的：

一種機(jī)械設(shè)備防護(hù)系統(tǒng)，包括裝夾設(shè)備、圍繞于裝夾設(shè)備的防護(hù)罩和用于監(jiān)控系統(tǒng)內(nèi)部情況并實(shí)施控制的監(jiān)控裝置，所述裝夾設(shè)備包括用于夾持金屬的機(jī)械手和用于驅(qū)動(dòng)機(jī)械手的電機(jī)，所述裝夾設(shè)備設(shè)于所述系統(tǒng)的中央位置；所述防護(hù)罩的中部設(shè)有磁體，所述磁體緊貼于所述防護(hù)罩的內(nèi)壁；所述防護(hù)罩的下方還設(shè)有排屑槽。

其中，所述磁體外套設(shè)有軟膠管，所述軟膠管緊貼于防護(hù)罩的內(nèi)壁。

其中，所述軟膠管的上側(cè)和下側(cè)垂直于水平面依次排布有通孔，所述通孔的形狀為圓形。

其中，所述通孔的數(shù)量為20至100個(gè)。

其中，所述軟膠管的材料為pvc材質(zhì)。

其中，所述監(jiān)控裝置包括控制器和感應(yīng)器，所述控制器用于控制裝夾設(shè)備和磁體的開關(guān)，所述感應(yīng)器設(shè)于防護(hù)罩內(nèi)并位于磁體上方，所述控制器與感應(yīng)器、裝夾設(shè)備、磁體電性連接。

其中，所述感應(yīng)器的數(shù)量為二，所述感應(yīng)器均設(shè)于防護(hù)罩的兩側(cè)。

其中，所述防護(hù)罩的內(nèi)壁表面涂有防腐涂層。

其中，所述磁體為電磁鐵。

本發(fā)明的有益效果：

本發(fā)明的中機(jī)械設(shè)備防護(hù)系統(tǒng)，該系統(tǒng)的裝夾設(shè)備導(dǎo)通有離子電流，由于靜電效應(yīng)，金屬屑往外飛濺附上正電荷或者負(fù)電荷；圍繞于裝夾設(shè)備的磁體會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng)，在電磁感應(yīng)的作用下，金屬屑會(huì)懸浮在磁場(chǎng)（即防護(hù)區(qū)）中，經(jīng)過(guò)一段時(shí)間金屬屑會(huì)集中并沉積，最終在重力的作用下自行下落，防止了金屬屑在設(shè)備死角上沉積成污垢，進(jìn)而避免污垢影響設(shè)備的制造精度、壽命、剛性和穩(wěn)定性。

附圖說(shuō)明

利用附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明，但附圖中的實(shí)施例不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的任何限制，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)以下附圖獲得其它的附圖。

圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明的磁體、軟膠管和通孔的局部示意圖。

圖3為本發(fā)明的磁場(chǎng)分布空間示意圖。

附圖標(biāo)記

裝夾設(shè)備--1，電機(jī)--11，機(jī)械手--12，磁體--2，防護(hù)罩--3，軟膠管--4，通孔--5，監(jiān)控裝置--6，控制器--61，感應(yīng)器--62，排屑槽--7。

具體實(shí)施方式

以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過(guò)另外不同的具體實(shí)施方式加以實(shí)施或應(yīng)用，本說(shuō)明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒(méi)有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。

需要說(shuō)明的是，本說(shuō)明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說(shuō)明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本發(fā)明可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本發(fā)明所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本發(fā)明所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說(shuō)明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語(yǔ)，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本發(fā)明可實(shí)施的范圍，其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整，在無(wú)實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本發(fā)明可實(shí)施的范疇。

如圖1至圖3所示，一種機(jī)械設(shè)備防護(hù)系統(tǒng)，包括裝夾設(shè)備1、圍繞于裝夾設(shè)備1的防護(hù)罩3和用于監(jiān)控系統(tǒng)內(nèi)部情況并實(shí)施控制的監(jiān)控裝置6，裝夾設(shè)備1包括用于夾持金屬的機(jī)械手11和用于驅(qū)動(dòng)機(jī)械手的電機(jī)12；加工時(shí)，電機(jī)12啟動(dòng)，驅(qū)動(dòng)機(jī)械手11夾持住金屬，并通過(guò)在裝夾設(shè)備1上施加一定的離子電壓，使得機(jī)械手1導(dǎo)通有離子電流；金屬通過(guò)加工設(shè)備加工得到并往外飛濺，而裝夾設(shè)備設(shè)于所述系統(tǒng)的中央位置，該中央位置為金屬加工區(qū)域，金屬屑的源頭主要是來(lái)自該區(qū)域，使金屬屑在防護(hù)罩3內(nèi)的飛濺區(qū)域趨于平均分布；在金屬的加工過(guò)程中需要使用冷卻液，而冷卻液具有一定的濕度，在不同的濕度中，在濕度為45%-60%期間施加110v或者70hz的電壓，若濕度在60%-85%時(shí)則施加220v或者60hz的電壓；由于靜電效應(yīng)，金屬屑和冷卻液在離子電流的作用下附上正電荷或負(fù)電荷，一般在粗加工時(shí)，金屬屑的尺寸為6.8mm-9.3mm，此時(shí)的金屬屑附上正電荷或者負(fù)電荷的時(shí)間為1.7s-2.1s；在精加工時(shí)，金屬屑的尺寸為3.2mm-6.3mm，此時(shí)的金屬屑附上正電荷或者負(fù)電荷的時(shí)間為0.8s-1.6s；附上靜電的金屬屑和冷卻液則會(huì)飛濺出去。

該系統(tǒng)還包括設(shè)于防護(hù)罩3中部的磁體2，由于電磁鐵可以根據(jù)實(shí)際情況的不同而調(diào)整磁場(chǎng)的大小，故本實(shí)施例中的磁體2采用的是電磁鐵，向該磁體2施加一個(gè)場(chǎng)應(yīng)電壓使得在磁體2內(nèi)導(dǎo)通有場(chǎng)應(yīng)電流，并產(chǎn)生磁場(chǎng)，由于電磁感應(yīng)，附上正電荷或者負(fù)電荷的金屬屑在磁體2產(chǎn)生的磁場(chǎng)的作用下產(chǎn)生同性相斥現(xiàn)象，使得該金屬屑懸浮在磁場(chǎng)中，由于本實(shí)施例中的磁體2是電磁鐵，為了避免有金屬屑和冷卻液跌落至電磁鐵上，故在磁體2外套設(shè)有軟膠管4，軟膠管4的材料采用了耐腐蝕且牢固耐用的pvc材質(zhì)，并讓軟膠管4緊貼于防護(hù)罩3的內(nèi)壁，防護(hù)罩3的內(nèi)壁上也涂有防腐涂層，防止金屬屑和冷卻液在內(nèi)壁上沉積并腐蝕防護(hù)罩3；軟膠管4的上側(cè)和下側(cè)垂直于水平面依次排布有通孔5，為了讓磁場(chǎng)能夠以較好的效果發(fā)散至外部空間，通孔的形狀被設(shè)計(jì)成圓形，且通孔的數(shù)量為20至100個(gè)，少于或者大于這個(gè)數(shù)值會(huì)影響磁場(chǎng)的分布均勻；電磁鐵產(chǎn)生的磁場(chǎng)通過(guò)通孔5發(fā)散至外部空間，形成一個(gè)垂直的磁場(chǎng)；在離子電壓一定的情況下，由金屬屑的尺寸和發(fā)生區(qū)域決定場(chǎng)應(yīng)電流的大小，由實(shí)驗(yàn)得出：在金屬屑發(fā)生區(qū)域在6.25cm2-900cm2之間，場(chǎng)應(yīng)電流為1.6a-2.1a；若金屬屑發(fā)生區(qū)域在0.1m2-0.8m2，場(chǎng)應(yīng)電流為2.1a-2.8a；若金屬屑發(fā)生區(qū)域發(fā)生在1.3m2-2.3m2,場(chǎng)應(yīng)電流為2.6-3.8a，若金屬屑的尺寸較大或金屬屑較多，可根據(jù)實(shí)際情況利用線圈功能調(diào)節(jié)場(chǎng)應(yīng)電壓大小來(lái)實(shí)現(xiàn)防護(hù)系統(tǒng)的作用，根據(jù)實(shí)驗(yàn)測(cè)試，防護(hù)罩的高度應(yīng)當(dāng)不小于1.5m。工作期間，場(chǎng)應(yīng)電流的電流差為+-0.23a。

在本實(shí)施例中，該系統(tǒng)還包括防護(hù)罩3，防護(hù)罩3圍設(shè)于裝夾設(shè)備1外，通過(guò)防護(hù)罩3阻擋多余的金屬屑飛濺至設(shè)備外圍，金屬屑在磁場(chǎng)中沉積，并在金屬屑達(dá)到一定重量后在重力的作用下自行下落；在防護(hù)罩3的下方安裝有排屑槽7，方便收集并清理自行下落的金屬屑，并且為了讓收集效果更好，讓排屑槽的橫截面積大于防護(hù)罩的橫截面積；而對(duì)于帶有靜電的金屬屑，可通過(guò)除靜電設(shè)備發(fā)出的離子風(fēng)來(lái)去除靜電，防止因靜電積聚過(guò)多而產(chǎn)生危險(xiǎn)。

本實(shí)施例中，監(jiān)控裝置6包括控制器61和感應(yīng)器62，控制器61相當(dāng)于一個(gè)遙控器并與感應(yīng)器62、裝夾設(shè)備1、磁體2電性連接；感應(yīng)器62設(shè)于防護(hù)罩3內(nèi)并位于磁體2的上方，感應(yīng)器62主要是利用金屬傳感器，感應(yīng)器62的數(shù)量為二，并對(duì)稱設(shè)于防護(hù)罩3的兩側(cè)，對(duì)金屬的感應(yīng)更加靈敏全面；當(dāng)金屬傳感器檢測(cè)到有金屬屑時(shí)，則自動(dòng)啟動(dòng)防護(hù)系統(tǒng)（即在裝夾設(shè)備1上施加離子電流和使磁體2發(fā)出磁場(chǎng)），對(duì)加工而飛濺出的金屬屑和冷卻液進(jìn)行處理；當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)緊急情況時(shí)可通過(guò)控制器61中的急停按鈕來(lái)實(shí)現(xiàn)緊急制動(dòng)，防止防護(hù)系統(tǒng)受損。

最后應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作了詳細(xì)地說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的實(shí)質(zhì)和范圍。