寬為材質(zhì)為石墨，其位于鍍筆支架下方，且鍍筆支架上設(shè)置有可調(diào)節(jié)鍍筆高度的螺絲，實(shí)現(xiàn)鍍筆的固定和上下移動(dòng);鍍筆通過(guò)陽(yáng)極連接線與電源正極相連接;二維平移裝置包括兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)，該兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)通過(guò)控制器和計(jì)算機(jī)相連接，計(jì)算機(jī)內(nèi)的二維平移裝置控制軟件發(fā)出的信號(hào)通過(guò)控制器對(duì)二維平移裝置的步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)鍍筆在鍍片表面X、Y 二維方向上循環(huán)往復(fù)移動(dòng)。
[0029]所述調(diào)平臺(tái)的材質(zhì)為不銹鋼，厚度為1mm;所述鍍片的材質(zhì)為鏡面不銹鋼。
[0030]所述控制器控制步進(jìn)電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)和停止，當(dāng)接收到一個(gè)脈沖信號(hào)時(shí)，步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)過(guò)一定的角度，一定數(shù)量的脈沖累加起來(lái)，使步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)的圈數(shù)一定，從而控制二維平移裝置移動(dòng)一定的距離。
[0031 ]所述鍍筆下端距離鍍片的距離為6mm。所述鍍液保護(hù)框的高度為25mm。
[0032]利用上述裝置制備大面積放射源的方法，該方法包括以下步驟:
[0033]I)對(duì)鍍片進(jìn)行鍍前處理
[0034]2)配置備用鍍液
[0035]先配置濃度為0.01?0.05mol/L的硝酸溶液，將其加入異丙醇基體作為備用鍍液；
[0036]3)利用大面積放射源的制備裝置制備大面積放射源，其中該制備裝置包括升降平臺(tái)車(chē)、調(diào)平臺(tái)、鍍槽、鍍片、鍍液保護(hù)框、電源、鍍筆、量塊、鍍筆支架、二維平移裝置、控制器及計(jì)算機(jī)，其中升降平臺(tái)車(chē)的底部設(shè)置有滾輪，車(chē)身上設(shè)置有長(zhǎng)方形升降板，升降平臺(tái)車(chē)的一側(cè)設(shè)置有手柄和腳踏板;調(diào)平臺(tái)置于升降板上方，調(diào)平臺(tái)的底部設(shè)置有可微調(diào)高度的調(diào)節(jié)腳;鍍槽為上方開(kāi)口的長(zhǎng)方體形狀，位于調(diào)平臺(tái)上方，尺寸不小于鍍片的尺寸;鍍片為陰極，位于鍍槽內(nèi)，鍍片的四周設(shè)置有防止鍍液流出并可將鍍液限制在一定區(qū)域內(nèi)的鍍液保護(hù)框，該保護(hù)框的寬度與鍍片活性區(qū)外圍非活性區(qū)尺寸一致;所述鍍筆作為陽(yáng)極，鍍筆材質(zhì)為石墨，其位于鍍筆支架下方，且鍍筆支架上設(shè)置有可調(diào)節(jié)鍍筆高度的螺絲，實(shí)現(xiàn)鍍筆的固定和上下移動(dòng);鍍筆通過(guò)陽(yáng)極連接線與電源正極相連接;二維平移裝置包括兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)，帶動(dòng)鍍筆在鍍片表面X、Y 二維方向上循環(huán)往復(fù)移動(dòng)；
[0037]鍍片與電源的負(fù)極連接，并且以鍍片的鏡面一側(cè)作為電鍍面；
[0038]4)將調(diào)平臺(tái)置于升降平臺(tái)車(chē)上，并將鍍槽置于調(diào)平臺(tái)上，然后將鍍片和鍍液保護(hù)框依次置于鍍槽內(nèi)，將設(shè)置有鍍液保護(hù)框的鍍片置于鍍槽內(nèi)，將調(diào)平臺(tái)置于升降平臺(tái)車(chē)上；先搖動(dòng)升降平臺(tái)車(chē)一側(cè)的手柄粗調(diào)鍍片(陰極)與鍍筆(陽(yáng)極)間距離，再在量塊輔助測(cè)量下通過(guò)調(diào)節(jié)調(diào)平臺(tái)調(diào)節(jié)腳的高度調(diào)整鍍片與鍍筆間平行度，然后再在量塊輔助測(cè)量下利用鍍筆支架微調(diào)鍍片與鍍筆間距離，使其保持6mm;
[0039]5)將一定量待鍍放射性核素的溶液加入備用鍍液中，混合均勻得到所需鍍液，再將該鍍液緩慢倒入鍍液保護(hù)框內(nèi)；
[0040]6)調(diào)整鍍筆的初始位置，使其位于鍍片一角并作為起點(diǎn)位置;根據(jù)鍍片面積，設(shè)置二維平移裝控制軟件上所需的鍍筆移動(dòng)速度、移動(dòng)距離及其他相關(guān)參數(shù)，利用計(jì)算機(jī)及二維平移裝置控制軟件對(duì)鍍筆行程進(jìn)行遠(yuǎn)程控制，并確保整個(gè)行程中鍍筆不接觸鍍液保護(hù)框；
[0041]7)根據(jù)所鍍核素類(lèi)型，設(shè)置電源電壓值、電流值，對(duì)鍍片進(jìn)行電鍍；
[0042]8)電鍍完成后，關(guān)閉電源;踩踏腳踏板，降低升降平臺(tái)車(chē)高度，使鍍筆底端高于鍍液保護(hù)框的高度，卸下鍍槽并將鍍槽中的廢液倒入廢液容器內(nèi)；
[0043]9)將鍍槽中的廢液倒入廢液容器中；并利用lmol/L硝酸擦拭鍍片電鍍面的背面，并用異丙醇沖洗干凈，保證非活性區(qū)清潔；
[0044]10)用干凈的棉花沾上異丙醇擦拭活性區(qū)兩次，每次均用異丙醇沖洗干凈，晾干備用，得到所需大面積放射源。
[0045]實(shí)施例2
[0046]與實(shí)施例1不同的是，該裝置還包括量塊，該量塊為長(zhǎng)方體形狀，其上設(shè)置有刻度；利用該量塊可以精確控制鍍筆下端距離鍍片的距離且能夠輔助調(diào)平臺(tái)對(duì)鍍片進(jìn)行調(diào)平。
[0047]實(shí)施例3
[0048]與實(shí)施例1不同的是，鍍液保護(hù)框的高度為30_。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，該裝置主要包括升降平臺(tái)車(chē)、調(diào)平臺(tái)、鍍槽、鍍片、鍍液保護(hù)框、電源、鍍筆、鍍筆支架、二維平移裝置、控制器及計(jì)算機(jī)，其中升降平臺(tái)車(chē)的底部設(shè)置有滾輪，車(chē)身上設(shè)置有長(zhǎng)方形升降板，升降平臺(tái)車(chē)的一側(cè)設(shè)置有手柄和腳踏板，壓動(dòng)該手柄可實(shí)現(xiàn)升降板的上升，踩踏腳踏板可以實(shí)現(xiàn)升降板的下降；調(diào)平臺(tái)置于升降板上方，調(diào)平臺(tái)的底部設(shè)置有可微調(diào)高度的調(diào)節(jié)腳;鍍槽為上方開(kāi)口的長(zhǎng)方體形狀，位于調(diào)平臺(tái)上方，尺寸不小于鍍片的尺寸;鍍片為陰極，位于鍍槽內(nèi)，鍍片通過(guò)陰極連接線與電源的負(fù)極相連，鍍片的四周設(shè)置有防止鍍液流出并可將鍍液限制在一定區(qū)域內(nèi)的鍍液保護(hù)框，該保護(hù)框的材質(zhì)為聚氯乙烯，該保護(hù)框的寬度與鍍片活性區(qū)外圍非活性區(qū)尺寸一致，鍍液保護(hù)框的尺寸要能夠放置于鍍槽內(nèi)；所述鍍筆作為陽(yáng)極，鍍筆材質(zhì)為石墨，其位于鍍筆支架下方，且鍍筆支架上設(shè)置有可調(diào)節(jié)鍍筆高度的螺絲，實(shí)現(xiàn)鍍筆的固定和上下移動(dòng)；鍍筆通過(guò)陽(yáng)極連接線與電源正極相連接;二維平移裝置包括兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)，該兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)通過(guò)控制器和計(jì)算機(jī)相連接，計(jì)算機(jī)內(nèi)的二維平移裝置控制軟件發(fā)出的信號(hào)通過(guò)控制器對(duì)二維平移裝置的步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)鍍筆在鍍片表面Χ、γ 二維方向上循環(huán)往復(fù)移動(dòng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述調(diào)平臺(tái)的材質(zhì)為不銹鋼，厚度為10mm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述鍍片的材質(zhì)為鏡面不銹鋼，厚度不小于放射性核素的射程。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述控制器控制步進(jìn)電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)和停止，當(dāng)接收到一個(gè)脈沖信號(hào)時(shí)，步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)過(guò)一定的角度，一定數(shù)量的脈沖累加起來(lái)，使步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)的圈數(shù)一定，從而控制二維平移裝置移動(dòng)一定的距離。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述電源為三恒多用型電泳儀電源。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述鍍筆下端距離鍍片的距離為5?10mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述鍍筆的長(zhǎng)和寬為lcm*lcm08.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述鍍液保護(hù)框的高度為25?30mm。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，所述鍍筆下端距離鍍片的距離為6mm。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備大面積放射源的裝置，其特征在于，該裝置還包括量塊，該量塊為長(zhǎng)方體形狀，其上設(shè)置有刻度;利用該量塊可以精確控制鍍筆下端距離鍍片的距離且能夠輔助調(diào)平臺(tái)對(duì)鍍片進(jìn)行調(diào)平。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明屬于放射源制備技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種用于制備大面積放射源的裝裝置。該裝置主要包括升降平臺(tái)車(chē)、調(diào)平臺(tái)、鍍槽、鍍片、鍍液保護(hù)框、電源、鍍筆、鍍筆支架及二維平移裝置，其中升降平臺(tái)車(chē)的底部設(shè)置有滾輪，車(chē)身上設(shè)置有長(zhǎng)方形升降板；調(diào)平臺(tái)置于升降板上方，調(diào)平臺(tái)的底部設(shè)置有可微調(diào)高度的調(diào)節(jié)腳；鍍槽為上方開(kāi)口的長(zhǎng)方體形狀，位于調(diào)平臺(tái)上方，尺寸不小于鍍片的尺寸；鍍片為陰極，位于鍍槽內(nèi)，鍍片通過(guò)陰極連接線與電源的負(fù)極相連，鍍片的四周設(shè)置鍍液保護(hù)框；鍍筆作為陽(yáng)極，鍍筆材質(zhì)為石墨，其位于鍍筆支架下方；鍍筆通過(guò)陽(yáng)極連接線與電源正極相連接；該裝置具有均勻性好、電沉積效率高、操作簡(jiǎn)單且成本較低的活性區(qū)域面積大的有益效果。
【IPC分類(lèi)】G01T1/167
【公開(kāi)號(hào)】CN105607109
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610114709
【發(fā)明人】林敏 , 葉宏生, 喻正偉, 陳克勝, 夏文, 徐利軍, 陳義珍
【申請(qǐng)人】中國(guó)原子能科學(xué)研究院
【公開(kāi)日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2016年3月1日