本申請(qǐng)涉及磁共振,尤其涉及一種用于檢測(cè)試管中的分析物的磁共振線圈裝置。
背景技術(shù):
1、磁共振線圈裝置可以與其他設(shè)備(例如,磁共振主磁體等)配合,以對(duì)儲(chǔ)存在試管中的某些分析物(例如,磁共振造影劑)進(jìn)行磁共振成像檢測(cè),以對(duì)分析物的相關(guān)參數(shù)進(jìn)行分析研究。
2、在對(duì)該分析物進(jìn)行磁共振掃描成像時(shí),試管的表面邊界存在大量空氣,使該區(qū)域空氣-試管界面磁化率差異較大,容易出現(xiàn)明顯的磁化率偽影,并且該磁化率偽影很可能延伸到分析物的邊界位置,導(dǎo)致構(gòu)建的磁共振圖像在分析物的邊界處產(chǎn)生明顯的模糊和變形。加之試管的容積和管徑以及進(jìn)一步的分析物的體積通常很小,因此前述磁化率偽影在分析物的磁共振圖像中的面積占比較大,從而顯著地影響了對(duì)分析物的準(zhǔn)確分析。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N用于檢測(cè)試管中的分析物的磁共振線圈裝置。
2、本申請(qǐng)?zhí)峁┑挠糜跈z測(cè)試管中的分析物的磁共振線圈裝置,包括:
3、容器,所述容器具有用于容納液體的容納腔以及與所述容納腔連通的插口,所述插口用于供所述試管插入,并且所述試管中的所述分析物至少部分地被所述液體包圍;
4、線圈,所述線圈安裝到所述容器,并且所述液體、所述試管和所述分析物中每一者的至少一部分被所述線圈包圍。
5、在一些可能的實(shí)施方式中,所述容器包括:
6、容器主體,所述容器主體具有開口;
7、蓋,所述蓋可拆卸地覆蓋所述開口,并限定所述插口;
8、其中,所述容器主體與所述蓋共同限定所述容納腔。
9、在一些可能的實(shí)施方式中,所述蓋具有密封的安裝空間,所述線圈配置在所述安裝空間內(nèi)。
10、在一些可能的實(shí)施方式中,所述蓋包括在所述試管的插入方向上延伸的支撐筒,所述線圈包圍所述支撐筒設(shè)置,并由所述支撐筒支撐。
11、在一些可能的實(shí)施方式中,所述蓋包括:
12、上蓋體,所述上蓋體限定所述插口;
13、下蓋體,所述下蓋體可拆卸地安裝到所述上蓋體,并在二者之間形成所述安裝空間,所述下蓋體包括所述支撐筒。
14、在一些可能的實(shí)施方式中,所述蓋具有伸入所述容納腔內(nèi)且與所述液體接觸的平直下表面,所述支撐筒延伸并終止于所述平直下表面。
15、在一些可能的實(shí)施方式中,所述蓋包括在面向所述開口觀察時(shí)伸出所述開口外的凸舌,所述容器主體包括可旋轉(zhuǎn)地配置在所述開口處的壓舌,所述壓舌通過旋轉(zhuǎn)而具有壓合位置和避讓位置;
16、在所述壓合位置,所述壓舌將所述凸舌壓向所述容器主體,從而阻止所述蓋從所述開口脫離;
17、在所述避讓位置,所述壓舌與所述凸舌分離,從而允許所述蓋從所述開口脫離。
18、在一些可能的實(shí)施方式中,所述插口和所述線圈分別配置有多個(gè)。
19、在一些可能的實(shí)施方式中,多個(gè)所述插口排列成沿第一方向彼此隔開的多列,每列中的所述插口均沿垂直于所述第一方向的第二方向彼此隔開地排列,但排列方式不同。
20、在一些可能的實(shí)施方式中,還包括:前置放大器,所述前置放大器以與所述容器隔開的方式經(jīng)由導(dǎo)電線纜連接到所述線圈。
21、根據(jù)本申請(qǐng)?zhí)峁┑倪@種磁共振線圈裝置,使得試管中的分析物處在液體環(huán)境而非空氣環(huán)境中被進(jìn)行磁共振掃描,有助于抑制在分析物邊界位置的磁化率偽影,進(jìn)而有助于對(duì)分析物進(jìn)行準(zhǔn)確的分析研究。
1.一種用于檢測(cè)試管中的分析物的磁共振線圈裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述容器包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述蓋具有密封的安裝空間,所述線圈配置在所述安裝空間內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述蓋包括在所述試管的插入方向上延伸的支撐筒,所述線圈包圍所述支撐筒設(shè)置,并由所述支撐筒支撐。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于,所述蓋包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述蓋具有伸入所述容納腔內(nèi)且與所述液體接觸的平直下表面,所述支撐筒延伸并終止于所述平直下表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述蓋包括在面向所述開口觀察時(shí)伸出所述開口外的凸舌,所述容器主體包括可旋轉(zhuǎn)地配置在所述開口處的壓舌,所述壓舌通過旋轉(zhuǎn)而具有壓合位置和避讓位置;
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,所述插口和所述線圈分別配置有多個(gè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,多個(gè)所述插口排列成沿第一方向彼此隔開的多列,每列中的所述插口均沿垂直于所述第一方向的第二方向彼此隔開地排列,但排列方式不同。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,還包括: