本發(fā)明屬于微波、毫米波材料電磁參數(shù)測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及到機(jī)器視覺技術(shù)、材料微波參數(shù)精確測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法。
背景技術(shù):
微波材料作為微波的傳輸煤質(zhì),廣泛應(yīng)用于微波通訊、雷達(dá)隱身、微波電路、遙控遙測(cè)等各個(gè)領(lǐng)域。要正確地使用各種微波材料,準(zhǔn)確的知道其介電常數(shù)至關(guān)重要。材料微波參數(shù)一般通過測(cè)試獲得,只有準(zhǔn)確的測(cè)試結(jié)果才能夠評(píng)價(jià)材料真實(shí)性能的好壞,為系統(tǒng)設(shè)計(jì)和材料制備提供有效的參考數(shù)據(jù)。在材料微波參數(shù)測(cè)試系統(tǒng)中,樣品通常需要置于測(cè)試夾具中,導(dǎo)致待測(cè)樣品形態(tài)變化,肉眼無法準(zhǔn)確觀測(cè),即使用自由空間法測(cè)試,也無法準(zhǔn)確計(jì)算樣品形狀和位置變化量。尤其當(dāng)樣品與測(cè)試夾具尺寸不一致時(shí),樣品在夾具中難以保持垂直放置,而樣品的傾斜會(huì)給測(cè)試帶來額外的誤差,且每次樣品狀態(tài)的不同對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響也不同,最終導(dǎo)致測(cè)試一致性與重復(fù)性均變差。
在傳統(tǒng)微波材料測(cè)試方法中,為消除樣品位置和形狀變化引起誤差,通常利用經(jīng)驗(yàn)系數(shù)或標(biāo)準(zhǔn)樣品對(duì)測(cè)試結(jié)果進(jìn)行修正,但對(duì)不同樣品測(cè)試結(jié)果一致性不好,而且理論依據(jù)欠缺。同時(shí),為減小樣品放置傾斜造成的測(cè)試誤差,一方面提高待測(cè)樣品截面和夾具表面平整度;另一方面利用較長的樣品和尺寸更加吻合的測(cè)試夾具,但是增加了樣品浪費(fèi)而且對(duì)不同尺寸的樣品需要不同夾具,測(cè)試效果欠佳,測(cè)試靈活性較差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種引入機(jī)器視覺技術(shù)的材料微波參數(shù)精確測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明技術(shù)方案如下:
一種引入機(jī)器視覺技術(shù)的材料微波參數(shù)精確測(cè)試系統(tǒng),包括圖像采集處理子系統(tǒng)和材料微波參數(shù)測(cè)試子系統(tǒng);
所述圖像采集處理子系統(tǒng)包括計(jì)算機(jī)、多個(gè)微型攝像機(jī),每個(gè)微型攝像機(jī)分別通過數(shù)據(jù)傳輸線連接到計(jì)算機(jī),所述的多個(gè)微型攝像機(jī)分別固定安裝在測(cè)試夾具上;
所述材料微波參數(shù)測(cè)試子系統(tǒng)包括網(wǎng)絡(luò)分析儀、計(jì)算機(jī)、測(cè)試夾具;網(wǎng)絡(luò)分析儀和計(jì)算機(jī)通過網(wǎng)線連接,網(wǎng)絡(luò)分析儀的port1通過微波傳輸線連接測(cè)試夾具的第一端口,網(wǎng)絡(luò)分析儀的port2通過微波傳輸線連接夾具的第二端口。
作為優(yōu)選方式,每個(gè)攝像頭在夾具上均勻排列,每個(gè)攝像頭到待測(cè)樣品的距離相等。
作為優(yōu)選方式,還包括待測(cè)樣品上方的led光源。
作為優(yōu)選方式,所述攝像頭直徑為2mm。因?yàn)槲⑿蛿z像機(jī)的尺寸越小,對(duì)測(cè)試夾具性能的影響就越小。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明還提供一種利用上述系統(tǒng)進(jìn)行材料微波參數(shù)精確測(cè)試的方法,首先對(duì)每個(gè)微型攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,求解各個(gè)子坐標(biāo)系與自定義全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量,通過多個(gè)攝像頭獲取樣品圖像數(shù)據(jù),利用每個(gè)坐標(biāo)系與全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量,計(jì)算出樣品三維坐標(biāo)以及樣品材料在測(cè)試夾具中的真實(shí)位置坐標(biāo)和形狀變化量,并測(cè)試算法中的函數(shù)系數(shù)或求解域進(jìn)行修正,進(jìn)一步提高測(cè)試精度。
每個(gè)攝像機(jī)都有自己的坐標(biāo)系,對(duì)微型攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,就是要建立每個(gè)攝像機(jī)的坐標(biāo)系與自定義的全局坐標(biāo)系之間的關(guān)系,也就是每個(gè)攝像機(jī)子坐標(biāo)系與全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量。
作為優(yōu)選方式,所述方法進(jìn)一步包括如下步驟:
1)連接測(cè)試系統(tǒng):將微波傳輸線連接在網(wǎng)絡(luò)分析儀的port1與測(cè)試夾具的第一端口之間、將微波傳輸線連接在網(wǎng)絡(luò)分析儀的port2與測(cè)試夾具的第二端口之間,連接網(wǎng)絡(luò)分析儀和計(jì)算機(jī),數(shù)據(jù)傳輸線分別連接在微型攝像頭上;
2)打開計(jì)算機(jī)和網(wǎng)絡(luò)分析儀,測(cè)量待測(cè)樣品尺寸,并記錄;
3)打開測(cè)試軟件,測(cè)試未放置樣品時(shí)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù);
4)在未放置樣品的情況下,對(duì)微型攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定;
5)將待測(cè)樣品放置在測(cè)試夾具中,并通過網(wǎng)絡(luò)分析儀和測(cè)試軟件,獲取放置樣品后的測(cè)試數(shù)據(jù);
6)通過微型攝像機(jī)獲取樣品圖像數(shù)據(jù),并利用圖像處理軟件計(jì)算出樣品的三維坐標(biāo)和形狀變化量;
7)將圖像處理數(shù)據(jù)導(dǎo)入測(cè)試軟件,并輸入樣品尺寸,結(jié)合之前測(cè)試的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和放置樣品后的測(cè)試數(shù)據(jù),計(jì)算出樣品材料在不同頻率點(diǎn)下的微波參數(shù)。
作為優(yōu)選方式,若測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)確,則重復(fù)步驟(3)-(7)。
所述材料微波參數(shù)包括:復(fù)介電常數(shù),磁導(dǎo)率,表面電阻率等。
機(jī)器視覺技術(shù)首先需要對(duì)多個(gè)攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,求出各個(gè)攝像機(jī)坐標(biāo)系和全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量,即建立圖像坐標(biāo)與自定義全局坐標(biāo)的函數(shù)關(guān)系,并利用圖像處理算法,將目標(biāo)的圖像坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為實(shí)際三維坐標(biāo),以此計(jì)算出樣品材料準(zhǔn)確的位置和形狀變化量。在測(cè)試過程中,樣品位置偏移或形狀變化,見附圖2(以圓柱形樣品進(jìn)行說明,其他形狀樣品類似),其中左圖為理想測(cè)試情況下的坐標(biāo)系中樣品,右圖為實(shí)際測(cè)試環(huán)境下的坐標(biāo)系中樣品,根據(jù)樣品材料準(zhǔn)確的位置和形狀變化量,對(duì)測(cè)試算法中的函數(shù)求解域進(jìn)行修正,準(zhǔn)確計(jì)算出樣品材料的參數(shù)。
本發(fā)明的有益效果為:1)將機(jī)器視覺技術(shù)應(yīng)用在傳統(tǒng)微波材料測(cè)試中,可實(shí)時(shí)準(zhǔn)確獲取樣品位置和形態(tài)變化,而不會(huì)影響微波材料測(cè)試;
2)利用機(jī)器視覺圖像數(shù)據(jù),對(duì)相應(yīng)的測(cè)試算法進(jìn)行修正,可有效減小樣品位置偏移和形狀變化對(duì)測(cè)試結(jié)果造成的影響,進(jìn)一步提高測(cè)試精度;
3)對(duì)待測(cè)樣品外形和測(cè)試環(huán)境要求降低,縮小樣品加工時(shí)間,同時(shí)減少由于樣品放置傾斜或外形不規(guī)則造成的測(cè)試不準(zhǔn)確;
4)適用于各種不同規(guī)格尺寸及不同類型的樣品,并均有較高的測(cè)試精度。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的測(cè)試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。
圖2是同一積分坐標(biāo)系下的理想待測(cè)樣品和實(shí)際待測(cè)樣品。
其中,1是網(wǎng)絡(luò)分析儀,1a和1b是網(wǎng)絡(luò)分析儀的port1和port2,2是計(jì)算機(jī),3是測(cè)試夾具,3a和3b是測(cè)試夾具的第一端口和第二端口,4a-4d是微型攝像機(jī),5是led光源,6a和6b是微波傳輸線,7是數(shù)據(jù)傳輸線,8是網(wǎng)線,9是待測(cè)樣品。
具體實(shí)施方式
以下通過特定的具體實(shí)例說明本發(fā)明的實(shí)施方式,本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的具體實(shí)施方式加以實(shí)施或應(yīng)用,本說明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用,在沒有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
一種引入機(jī)器視覺技術(shù)的材料微波參數(shù)精確測(cè)試系統(tǒng),包括圖像采集處理子系統(tǒng)和材料微波參數(shù)測(cè)試子系統(tǒng);
所述圖像采集處理子系統(tǒng)包括計(jì)算機(jī)2、多個(gè)微型攝像機(jī)4a-4d,每個(gè)微型攝像機(jī)分別通過數(shù)據(jù)傳輸線7連接到計(jì)算機(jī)2,所述的多個(gè)微型攝像機(jī)分別固定安裝在測(cè)試夾具3上;
所述材料微波參數(shù)測(cè)試子系統(tǒng)包括網(wǎng)絡(luò)分析儀1、計(jì)算機(jī)2、測(cè)試夾具3;網(wǎng)絡(luò)分析儀1和計(jì)算機(jī)2通過網(wǎng)線8連接,網(wǎng)絡(luò)分析儀1的port1通過微波傳輸線6a連接測(cè)試夾具3的第一端口3a,網(wǎng)絡(luò)分析儀1的port2通過微波傳輸線6b連接夾具3的第二端口3b。
每個(gè)攝像頭在夾具上均勻排列,每個(gè)攝像頭到待測(cè)樣品的距離相等。
待測(cè)樣品上方設(shè)有l(wèi)ed光源5。
微型攝像機(jī)的尺寸越小,對(duì)測(cè)試夾具性能的影響就越小,基于對(duì)市場(chǎng)上攝像機(jī)的了解,所述攝像頭選用直徑最小的2mm。
利用上述系統(tǒng)進(jìn)行材料微波參數(shù)精確測(cè)試的方法,首先對(duì)每個(gè)微型攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,求解各個(gè)子坐標(biāo)系與全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量,通過多個(gè)攝像頭獲取樣品圖像數(shù)據(jù),利用每個(gè)坐標(biāo)系與全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量,計(jì)算出樣品三維坐標(biāo)以及樣品材料在測(cè)試夾具中的真實(shí)位置坐標(biāo)和形狀變化量,并測(cè)試算法中的函數(shù)系數(shù)或求解域進(jìn)行修正,進(jìn)一步提高測(cè)試精度。
每個(gè)攝像機(jī)都有自己的坐標(biāo)系,對(duì)微型攝像機(jī)進(jìn)行標(biāo)定,就是要建立每個(gè)攝像機(jī)的坐標(biāo)系與自定義的全局坐標(biāo)之間的關(guān)系,也就是每個(gè)攝像機(jī)子坐標(biāo)系與全局坐標(biāo)系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣和位移向量。
具體的,所述方法包括如下步驟:
1)連接測(cè)試系統(tǒng):將微波傳輸線6a連接在網(wǎng)絡(luò)分析儀1的port1與測(cè)試夾具3的第一端口3a之間、將微波傳輸線6b連接在網(wǎng)絡(luò)分析儀1的port2與測(cè)試夾具3的第二端口3b之間,連接網(wǎng)絡(luò)分析儀和計(jì)算機(jī),數(shù)據(jù)傳輸線7分別連接在微型攝像頭4a-4d上;
2)打開計(jì)算機(jī)2和網(wǎng)絡(luò)分析儀1,測(cè)量待測(cè)樣品9尺寸,并記錄;
3)打開測(cè)試軟件,測(cè)試未放置樣品時(shí)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù);
4)在未放置樣品的情況下,對(duì)微型攝像機(jī)4a-4d進(jìn)行標(biāo)定;
5)將待測(cè)樣品9放置在測(cè)試夾具3中,并通過網(wǎng)絡(luò)分析儀和測(cè)試軟件,獲取放置樣品后的測(cè)試數(shù)據(jù);
6)通過微型攝像機(jī)4a-4d獲取樣品圖像數(shù)據(jù),并利用圖像處理軟件計(jì)算出樣品的三維坐標(biāo)和形狀變化量;
7)將圖像處理數(shù)據(jù)導(dǎo)入測(cè)試軟件,并輸入樣品尺寸,結(jié)合之前測(cè)試的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和放置樣品后的測(cè)試數(shù)據(jù),計(jì)算出樣品材料在不同頻率點(diǎn)下的微波參數(shù)。
若測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)確,則重復(fù)步驟(3)-(7)。
所述材料微波參數(shù)包括:復(fù)介電常數(shù),磁導(dǎo)率,表面電阻率等。
上述實(shí)施例僅例示性說明本發(fā)明的原理及其功效,而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下,對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此,凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應(yīng)由本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。