1.一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，包括：被檢真空腔體、檢漏裝置、電控系統(tǒng)，其特征在于：被檢真空腔體下側(cè)連接有檢漏裝置，電控系統(tǒng)連接控制檢漏裝置，所述被檢真空腔體側(cè)壁上裝有破空裝置I和真空檢測(cè)元件I，所述檢漏裝置包括高真空泵、前級(jí)泵組I、前級(jí)泵組II、高真空蝶閥I、高真空蝶閥II、真空檢測(cè)元件、破空裝置、氦質(zhì)譜檢漏儀、噴氦系統(tǒng)，高真空泵通過(guò)法蘭盤(pán)直接安裝在被檢真空腔體的側(cè)壁上，前級(jí)泵組I、前級(jí)泵組II通過(guò)真空管道串聯(lián)，后通過(guò)高真空蝶閥I與高真空泵串聯(lián)；在高真空蝶閥I與前級(jí)泵組I之間的主真空管道上，通過(guò)三通管道與被檢真空腔體之間設(shè)有一支路真空管道，所述主真空管道和支路真空管道在適當(dāng)位置通過(guò)波紋管連接，所述支路真空管道與被檢真空腔體通過(guò)高真空蝶閥II連接；高真空蝶閥I與前級(jí)泵組I之間的真空管道上安裝有真空檢測(cè)元件II和破空裝置II，并且預(yù)留檢漏口閥門(mén)，氦質(zhì)譜檢漏儀通過(guò)檢漏口閥門(mén)連接到真空泵抽系統(tǒng)中；所述高真空泵、前級(jí)泵組I、前級(jí)泵組II、高真空蝶閥I、高真空蝶閥II、真空檢測(cè)元件I、真空檢測(cè)元件II通過(guò)電纜與電控系統(tǒng)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述前級(jí)泵組I為羅茨泵，前級(jí)泵組II為旋片泵或螺桿泵；所述高真空泵為渦輪分子泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述高真空泵的排氣口通過(guò)手動(dòng)角閥以及波紋管連接到主抽氣管路中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述高真空泵為水冷泵，且在循環(huán)冷卻管路上需串聯(lián)水流量開(kāi)關(guān)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述破空裝置I通過(guò)氣動(dòng)角閥I連接到被檢真空腔體和真空管道上,破空裝置II通過(guò)氣動(dòng)角閥II連接到被檢真空腔體和真空管道上，所述氣動(dòng)角閥I、氣動(dòng)角閥II通過(guò)電纜與電控系統(tǒng)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述真空檢測(cè)元件I為復(fù)合電離規(guī)，可檢測(cè)真空度范圍5x10-9～1000mbar；所述真空檢測(cè)元件I通過(guò)手動(dòng)角閥與被檢真空腔體連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜腔體檢漏系統(tǒng)，其特征在于：所述真空檢測(cè)元件II為標(biāo)準(zhǔn)皮拉尼規(guī)，可檢測(cè)真空度范圍5x10-4～1000mbar；所述真空檢測(cè)元件II通過(guò)KF型法蘭接口與主真空管道連接。
8.一種真空鍍膜腔體檢漏方法，包括以下步驟：
S101.首先檢查電氣接線及各管路連接，確保各電氣元器件接線正確以及硬件管路連接正確；
S102.接通柜外電源，閉合柜內(nèi)斷路器；
S103.開(kāi)啟循環(huán)冷卻水系統(tǒng)；
S104.在電控顯示屏上依次按下旋片泵和羅茨泵啟動(dòng)按鈕；
S105.打開(kāi)分子泵管路手動(dòng)角閥，至最大開(kāi)度；打開(kāi)主真空管道氣動(dòng)蝶閥；
S106.待腔體真空度達(dá)到8x10-2mbar時(shí)，在電控顯示屏上按下分子泵啟動(dòng)按鈕；
S107.待被檢真空腔體真空度達(dá)到5x10-5mbar時(shí)，開(kāi)啟檢漏儀，待自檢完成后，打開(kāi)檢漏口閥門(mén)，此時(shí)可對(duì)被檢真空腔體利用噴氦系統(tǒng)進(jìn)行檢漏操作；
S108.待檢漏完成后，關(guān)閉分子泵；
S19.等待15～20分鐘，待分子泵停止之后關(guān)閉主真空管道氣動(dòng)蝶閥；
S110.在電控顯示屏上依次關(guān)閉羅茨泵和旋片泵；
S111.依次打開(kāi)主真空管道破空角閥和腔體破空角閥，進(jìn)行破空；
S113.斷開(kāi)循環(huán)冷卻水.斷開(kāi)柜內(nèi)斷路器，斷開(kāi)柜外電源，完成真空鍍膜腔體的檢漏。