1.一種大氣納米顆粒物熱動(dòng)力學(xué)性質(zhì)實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，包括硬件部分和軟件控制系統(tǒng)；所述硬件部分包括顆粒物帶電部分、顆粒物譜分布掃描部分、吸濕性測量部分、揮發(fā)性測量部分和密度測定部分；所述軟件控制系統(tǒng)通過編程程序控制所述硬件部分的運(yùn)行，通過數(shù)據(jù)線輸入信號(hào)和讀取各硬件部分返回的數(shù)據(jù)信號(hào)；
所述顆粒物帶電部分和顆粒物譜分布掃描部分相連接；顆粒物譜分布掃描部分分別與吸濕性測量部分、揮發(fā)性測量部分和密度測定部分相連接；
環(huán)境大氣顆粒物進(jìn)入所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，首先經(jīng)過所述顆粒物帶電部分使環(huán)境大氣顆粒物帶電，之后以恒定流量進(jìn)入所述顆粒物譜分布掃描部分進(jìn)行掃描，得到顆粒物數(shù)濃度粒徑分布的峰值粒徑，將篩選出的峰值粒徑的顆粒物分別通過吸濕性測量部分、揮發(fā)性測量部分和密度測定部分，同時(shí)進(jìn)行顆粒物的吸濕性、揮發(fā)性和密度的測定，由此實(shí)時(shí)獲得大氣納米顆粒物的熱動(dòng)力學(xué)性質(zhì)。
2.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述軟件控制系統(tǒng)為Labview系統(tǒng)軟件。
3.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述顆粒物帶電部分包括1個(gè)K85中和器；所述顆粒物帶電部分用電離源使顆粒物帶電荷，呈玻爾茲曼分布；所述電離源為K85電離源或x射線軟電離源。
4.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述譜分布掃描部分包括電遷移率粒徑分析儀DMA、第一鞘氣循環(huán)系統(tǒng)和凝結(jié)式顆粒物計(jì)數(shù)儀CPC；所述第一鞘氣循環(huán)系統(tǒng)包括Nafion管、鼓風(fēng)機(jī)、熱交換機(jī)、流量計(jì)和高效過濾膜。
5.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述吸濕性測量部分包括加濕模塊、電遷移率粒徑分析儀DMA、第二鞘氣循環(huán)系統(tǒng)和凝結(jié)式顆粒物計(jì)數(shù)儀CPC；所述加濕模塊包括質(zhì)量流量計(jì)、Core-tex加濕管和加熱器，且均由水泵供水；所述第二鞘氣循環(huán)系統(tǒng)包括Nafion管、鼓風(fēng)機(jī)、熱交換機(jī)、流量計(jì)、高效過濾膜和鞘氣加濕模塊。
6.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述揮發(fā)性測量部分包括加熱模塊、電遷移率粒徑分析儀DMA、第一鞘氣循環(huán)系統(tǒng)和凝結(jié)式顆粒物計(jì)數(shù)儀CPC；所述加熱模塊包括加熱部分、冷卻部分和溫度傳感器；所述第一鞘氣循環(huán)系統(tǒng)包括Nafion管、鼓風(fēng)機(jī)、熱交換機(jī)、流量計(jì)和高效過濾膜。
7.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述密度測定部分包括離心粒子質(zhì)量分析儀CPMA和凝結(jié)式顆粒物計(jì)數(shù)儀CPC。
8.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述恒定流量為1L/min；進(jìn)入顆粒物譜分布掃描部分的掃描時(shí)間為5分鐘，掃描得出環(huán)境大氣顆粒物數(shù)濃度粒徑譜分布。
9.如權(quán)利要求1所述實(shí)時(shí)追蹤測量裝置，其特征是，所述測定的時(shí)間為8分鐘或以上。