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缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查系統(tǒng)以及膜制造裝置的制作方法

文檔序號(hào):12018955閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種缺陷檢查用拍攝裝置,用于進(jìn)行具有偏振特性的膜的缺陷檢查,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置具備:

光照射機(jī)構(gòu),其向所述膜的拍攝區(qū)域照射光;

拍攝機(jī)構(gòu),其將所述膜的所述拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像;

第一偏振濾波器,其以與所述膜形成正交偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述膜的所述拍攝區(qū)域之間、或者所述膜的所述拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間;以及

搬運(yùn)機(jī)構(gòu),其相對(duì)于所述光照射機(jī)構(gòu)、所述拍攝機(jī)構(gòu)以及所述第一偏振濾波器沿搬運(yùn)方向相對(duì)地搬運(yùn)所述膜,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,

所述第一偏振濾波器配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第一拍攝區(qū)域之間、或者所述第一拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器與所述膜形成正交偏振狀態(tài)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方或被所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度值。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第二拍攝區(qū)域的光、或者透過所述第二拍攝區(qū)域或被所述第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。

6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于所述光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向所述第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第一拍攝區(qū)域之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方或被所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度值。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區(qū)域形成正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與所述膜的所述第二拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于所述光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向所述第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器且調(diào)節(jié)照射至所述第三拍攝區(qū)域的光的亮度值,該第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與所述膜的所述第三拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第三拍攝區(qū)域之間、或者所述第三拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

13.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備第二偏振濾波器,該第二偏振濾波器配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第三拍攝區(qū)域之間、或者所述第三拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間,且該第二偏振濾波器與所述膜的所述第三拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài)。

14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與所述膜的所述第二拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

15.一種缺陷檢查用拍攝裝置,用于進(jìn)行不具有偏振特性的膜的缺陷檢查,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置具備:

光照射機(jī)構(gòu),其向所述膜的拍攝區(qū)域照射光;

拍攝機(jī)構(gòu),其將所述膜的所述拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像;

一對(duì)第一偏振濾波器,其以形成正交偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方式,分別配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述膜的所述拍攝區(qū)域之間、以及所述膜的所述拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間;以及

搬運(yùn)機(jī)構(gòu),其相對(duì)于所述光照射機(jī)構(gòu)、所述拍攝機(jī)構(gòu)以及一對(duì)所述第一偏振濾波器沿搬運(yùn)方向相對(duì)地搬運(yùn)所述膜,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,

一對(duì)所述第一偏振濾波器分別配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第一拍攝區(qū)域之間、以及所述第一拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

一對(duì)所述第一偏振濾波器形成正交偏振狀態(tài)。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方或被所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度值。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第二拍攝區(qū)域的光、或者透過所述第二拍攝區(qū)域或被所述第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。

20.根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于所述光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向所述第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。

21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方或被所述第一拍攝區(qū)域以及所述第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度值。

22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

一對(duì)所述第一偏振濾波器形成正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一對(duì)第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該一對(duì)第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形成第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、以及所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

一對(duì)所述第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、或者所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。

24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

一對(duì)所述第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于所述光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向所述第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。

25.根據(jù)權(quán)利要求22所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一對(duì)第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器并調(diào)節(jié)照射至所述第三拍攝區(qū)域的光的亮度值,該一對(duì)第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第三拍攝區(qū)域之間、以及所述第三拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

26.根據(jù)權(quán)利要求23或24所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

所述拍攝區(qū)域包括在所述搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,

所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備一對(duì)第二偏振濾波器,該一對(duì)第二偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,分別配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第三拍攝區(qū)域之間、以及所述第三拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

27.根據(jù)權(quán)利要求21所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,

一對(duì)所述第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),

所述亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一對(duì)第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該一對(duì)第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在所述光照射機(jī)構(gòu)與所述第二拍攝區(qū)域之間、以及所述第二拍攝區(qū)域與所述拍攝機(jī)構(gòu)之間。

28.一種缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,具備:

權(quán)利要求1至27中任一項(xiàng)所述的缺陷檢查用拍攝裝置;以及

檢測(cè)部,其根據(jù)由所述缺陷檢查用拍攝裝置拍攝到的所述二維圖像而檢測(cè)所述膜中存在的缺陷。

29.一種膜制造裝置,其特征在于,具備權(quán)利要求28所述的缺陷檢查系統(tǒng)。

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