本實(shí)用新型涉及用于檢查膜的缺陷的缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查 系統(tǒng)以及膜制造裝置。
背景技術(shù):
已知對偏振膜以及相位差膜等光學(xué)膜、電池的隔膜中使用的膜等的缺 陷進(jìn)行檢測的缺陷檢查系統(tǒng)。這種缺陷檢查系統(tǒng)利用搬運(yùn)機(jī)構(gòu)搬運(yùn)膜,利 用光照射機(jī)構(gòu)向膜的拍攝區(qū)域照射光,利用拍攝機(jī)構(gòu)拍攝膜的拍攝區(qū)域, 并根據(jù)所拍攝的圖像進(jìn)行缺陷檢查。作為基于這種缺陷檢查系統(tǒng)進(jìn)行的缺 陷檢查方法的種類,大體分為透射法和反射法。更詳細(xì)地說,作為透射法, 有正透射法、正交偏振(crossed nicol)透射法、透射散射法,作為反射法, 有正反射法、正交偏振反射法、反射散射法。在專利文獻(xiàn)1中,公開了作 為透射法而使用了正透射法、透射散射法的缺陷檢查系統(tǒng),另外,公開了 作為反射法而使用了正反射法、反射散射法的缺陷檢查系統(tǒng),在專利文獻(xiàn) 2中,公開了作為透射法而使用了正交偏振透射法的缺陷檢查系統(tǒng)。
例如,正透射法適于檢測膜貼合工序中的混入、附著所導(dǎo)致的黑異物, 正交偏振透射法適于檢測粘合件涂敷工序中的混入、附著所導(dǎo)致的亮點(diǎn), 透射散射法適于檢測膜搬運(yùn)工序中的附著異物導(dǎo)致的劃痕轉(zhuǎn)印所帶來的 變形。另一方面,反射法(正反射法、正交偏振反射法、反射散射法)適 于檢測貼合工序中的咬入所導(dǎo)致的氣泡。
在先技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2012-167975號公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2007-212442號公報(bào)
為了檢測黑異物、亮點(diǎn)、變形、氣泡之類的不同的多個(gè)缺陷,考慮使 用不同的多種檢查方法(檢查系列)。然而,若檢查系列數(shù)變多,則投入 成本、管理成本變高,因此希望削減檢查系列數(shù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
實(shí)用新型要解決的課題
因此,本實(shí)用新型的目的在于提供能夠整合不同的檢查系列而削減檢 查系列數(shù)的缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查系統(tǒng)以及膜制造裝置。
用于解決課題的手段
本實(shí)用新型的缺陷檢查用拍攝裝置用于進(jìn)行具有偏振特性的膜的缺 陷檢查,其中,所述缺陷檢查用拍攝裝置具備:光照射機(jī)構(gòu),其向膜的拍 攝區(qū)域照射光;拍攝機(jī)構(gòu),其將膜的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像;第一偏振 濾波器,其以與膜形成正交偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配 置在光照射機(jī)構(gòu)與膜的拍攝區(qū)域之間、或者膜的拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之 間;以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu),其相對于光照射機(jī)構(gòu)、拍攝機(jī)構(gòu)以及第一偏振濾波器 沿搬運(yùn)方向相對地搬運(yùn)膜,拍攝區(qū)域包括在搬運(yùn)方向上被分割出的第一拍 攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,第一偏振濾波器配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一拍攝 區(qū)域之間、或者第一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
另外,本實(shí)用新型的缺陷檢查用拍攝方法使用具備光照射機(jī)構(gòu)、拍攝 機(jī)構(gòu)、第一偏振濾波器、以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的缺陷檢查用拍攝裝置進(jìn)行用于檢 查具有偏振特性的膜的缺陷的拍攝,其中,所述缺陷檢查用拍攝方法包括 如下工序:第一偏振濾波器配置工序,將第一偏振濾波器以與膜形成正交 偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與膜的拍攝 區(qū)域之間、或者膜的拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間;搬運(yùn)工序,利用搬運(yùn)機(jī)構(gòu) 相對于光照射機(jī)構(gòu)、拍攝機(jī)構(gòu)以及第一偏振濾波器沿搬運(yùn)方向相對地搬運(yùn) 膜;光照射工序,利用光照射機(jī)構(gòu)向膜的拍攝區(qū)域照射光;以及拍攝工序, 利用拍攝機(jī)構(gòu)將膜的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像,拍攝區(qū)域包括在搬運(yùn)方向 上被分割出的第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,在第一偏振濾波器配置工 序中,將第一偏振濾波器配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一拍攝區(qū)域之間、或者第 一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
在此,正交偏振狀態(tài)指的是,偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與 膜的偏振軸(偏振吸收軸)實(shí)質(zhì)上正交的狀態(tài),即,偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)以實(shí)質(zhì)上90度的角度交叉 的狀態(tài)。另一方面,非正交偏振(日文:ハ一フクロスニコル)狀態(tài)指的 是,偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實(shí) 質(zhì)不上正交而是交叉的狀態(tài),即,偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與 膜的偏振軸(偏振吸收軸)以實(shí)質(zhì)上90度以外的角度交叉的狀態(tài)。
根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法,例如,由于第 一偏振濾波器以與膜形成正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一 拍攝區(qū)域之間、或者第一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間,拍攝機(jī)構(gòu)將包括第一 拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍 攝第一拍攝區(qū)域的正交偏振透射檢查用圖像(或者正交偏振反射檢查用圖 像)、第二拍攝區(qū)域的例如正透射檢查用圖像(或者正反射檢查用圖像)。 即,能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍 攝系列)和例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)。 其結(jié)果是,能夠整合正交偏振透射檢查系列(或者正交偏振反射檢查系列) 和例如正透射檢查系列(或者正反射檢查系列),從而能夠削減檢查系列 數(shù)。
在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下方式,第一 偏振濾波器配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一拍攝區(qū)域之間。另外,在上述的缺陷 檢查用拍攝方法的基礎(chǔ)上,也可以采用如下方式,在第一偏振濾波器配置 工序中,將第一偏振濾波器配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一拍攝區(qū)域之間。
然而,在正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍 攝系列)與例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)中, 適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎挡煌?/p>
因此,也可以采用如下方式,上述的缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中 的至少一方的光、或者透過第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少一方 或被第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度值。
由此,能夠利用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝 區(qū)域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至 少一方或被第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少一方射光的亮度值, 因此能夠在第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域的拍攝中設(shè)定適當(dāng)?shù)墓獾牧?度值,能夠以與正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用 拍攝系列)以及例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列) 相應(yīng)的光的亮度值進(jìn)行檢查。
也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域的光、或者 透過第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值。
有時(shí)正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系 列)的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^大,正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查 用拍攝系列)的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^小。在這種情況下,若如上述那樣, 采用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域的光、或者透過第二拍攝區(qū)域 或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值的方式,例如通過從光照射機(jī)構(gòu)輸出 較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝系列 (或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值 較大,另一方面,能夠利用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)使照射至用于進(jìn)行正透射檢查用 拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的第二拍攝區(qū)域的光、或者透過 第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值較小。
另外,也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍 攝區(qū)域之間、或者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。
另外,也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié) 向第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。
在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,第一偏振濾波器 與膜的第一拍攝區(qū)域形成正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括第一亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器,該第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與膜的第二拍攝區(qū)域形成 第一非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝區(qū)域之間、或 者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
在此,本申請的發(fā)明人們發(fā)現(xiàn),正透射法適于黑異物的檢測,正交偏 振透射法適于亮點(diǎn)的檢測,但正交偏振透射法難以檢測與較強(qiáng)的亮點(diǎn)相比 稍弱的亮點(diǎn)。關(guān)于這一點(diǎn),本申請的發(fā)明人們發(fā)現(xiàn)了在正交偏振透射法難 以檢測的黑異物、稍弱的亮點(diǎn)的檢測中利用非正交透射法。
關(guān)于這一點(diǎn),根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置,由于第一亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))與膜的第二拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài), 因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,第一偏振 濾波器與膜的第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配 置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝區(qū)域之間、或者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間 的衰減濾波器。
根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置,由于第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區(qū) 域形成第一非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的 檢測。
另外,在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,第一偏振 濾波器與膜的第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置 于光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向第二拍攝 區(qū)域照射的光的亮度值。
在該缺陷檢查用拍攝裝置中,由于第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區(qū) 域形成第一非正交偏振狀態(tài),因此也能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn) 的檢測。
另外,在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,拍攝區(qū)域 包括在搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括第二亮度 調(diào)節(jié)用偏振濾波器且調(diào)節(jié)照射至第三拍攝區(qū)域的光的亮度值,該第二亮度 調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與膜的第三拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài)的方 式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第三拍攝區(qū)域之間、或者第三拍攝區(qū)域與拍攝機(jī) 構(gòu)之間。
根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置,由于第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))與膜的第二拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),第二亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))與膜的第三拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振 狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,拍攝區(qū)域 包括在搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,缺陷檢查用拍攝裝置還具備 第二偏振濾波器,該第二偏振濾波器配置在光照射機(jī)構(gòu)與第三拍攝區(qū)域之 間、或者第三拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間,與膜的第三拍攝區(qū)域形成第二非 正交偏振狀態(tài)。
根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置,由于第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區(qū) 域形成第一非正交偏振狀態(tài),第二偏振濾波器與膜的第三拍攝區(qū)域形成第 二非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以是,第一偏振 濾波器與膜的第一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括 第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以與膜的第二 拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝 區(qū)域之間、或者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該缺陷檢查用拍攝裝置,由于第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區(qū) 域形成第一非正交偏振狀態(tài),第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 與膜的第二拍攝區(qū)域形成第二非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及 上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
本實(shí)用新型的另一缺陷檢查用拍攝裝置用于進(jìn)行不具有偏振特性的 膜的缺陷檢查,其中,該缺陷檢查用拍攝裝置具備:光照射機(jī)構(gòu),其向膜 的拍攝區(qū)域照射光;拍攝機(jī)構(gòu),其將膜的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像;一對 第一偏振濾波器,其以形成正交偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方 式,分別配置在光照射機(jī)構(gòu)與膜的拍攝區(qū)域之間、以及膜的拍攝區(qū)域與拍 攝機(jī)構(gòu)之間;以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu),其相對于光照射機(jī)構(gòu)、拍攝機(jī)構(gòu)以及一對第 一偏振濾波器沿搬運(yùn)方向相對地搬運(yùn)膜,拍攝區(qū)域包括在搬運(yùn)方向上被分 割出的第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,一對第一偏振濾波器配置在光照 射機(jī)構(gòu)與第一拍攝區(qū)域之間、以及第一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
本實(shí)用新型的另一缺陷檢查用拍攝方法使用具備光照射機(jī)構(gòu)、拍攝機(jī) 構(gòu)、一對第一偏振濾波器、以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的缺陷檢查用拍攝裝置進(jìn)行用于 檢查不具有偏振特性的膜的缺陷的拍攝,其中,該缺陷檢查用拍攝方法包 括如下工序:第一偏振濾波器配置工序,將一對第一偏振濾波器以形成正 交偏振狀態(tài)或者第一非正交偏振狀態(tài)的方式,分別配置在光照射機(jī)構(gòu)與膜 的拍攝區(qū)域之間、以及膜的拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間;搬運(yùn)工序,利用搬 運(yùn)機(jī)構(gòu)相對于光照射機(jī)構(gòu)、拍攝機(jī)構(gòu)以及一對第一偏振濾波器沿搬運(yùn)方向 相對地搬運(yùn)膜;光照射工序,利用光照射機(jī)構(gòu)向膜的拍攝區(qū)域照射光;以 及拍攝工序,利用拍攝機(jī)構(gòu)將膜的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像,拍攝區(qū)域包 括在搬運(yùn)方向上被分割出的第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域,在第一偏振 濾波器配置工序中,將一對第一偏振濾波器分別配置在光照射機(jī)構(gòu)與第一 拍攝區(qū)域之間、以及第一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法,例如,由 于一對第一偏振濾波器以形成正交偏振狀態(tài)的方式,分別配置在光照射機(jī) 構(gòu)與第一拍攝區(qū)域之間、以及第一拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間,拍攝機(jī)構(gòu)將 包括第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域的拍攝區(qū)域拍攝為二維圖像,因此能 夠同時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域的正交偏振透射檢查用圖像(或者正交偏振反射 檢查用圖像)、第二拍攝區(qū)域的例如正透射檢查用圖像(或者正反射檢查 用圖像)。即,能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反 射檢查用拍攝系列)和例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍 攝系列)。其結(jié)果是,能夠整合正交偏振透射檢查系列(或者正交偏振反 射檢查系列)和例如正透射檢查系列(或者正反射檢查系列),從而能夠 削減檢查系列數(shù)。
然而,如上述那樣,在正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振 反射檢查用拍攝系列)與例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用 拍攝系列)中,適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎挡煌?/p>
因此,也可以采用如下方式,上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置還具備 亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū) 域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少 一方或被第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少一方反射的光的亮度 值。
由此,能夠利用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝 區(qū)域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至 少一方或被第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域中的至少一方射光的亮度值, 因此能夠在第一拍攝區(qū)域以及第二拍攝區(qū)域的拍攝中設(shè)定適當(dāng)?shù)墓獾牧?度值,能夠以與正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用 拍攝系列)以及例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列) 相應(yīng)的光的亮度值進(jìn)行檢查。
也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域的光、或者 透過第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值。
如上述那樣,有時(shí)正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射 檢查用拍攝系列)的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^大,正透射檢查用拍攝系列(或 者正反射檢查用拍攝系列)的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^小。在這種情況下,若 如上述那樣,采用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域的光、或者透過 第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值的方式,例如通過從光 照射機(jī)構(gòu)輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查 用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的第一拍攝區(qū)域照射的 光的亮度值較大,另一方面,能夠利用亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)使照射至用于進(jìn)行正 透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的第二拍攝區(qū)域的光、 或者透過第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域反射的光的亮度值較小。
另外,也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍 攝區(qū)域之間、或者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間的衰減濾波器。
另外,也可以是,上述的亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置于光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié) 向第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域照射的光的亮度值。
在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下方式, 一對第一偏振濾波器形成正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括一對第一亮度 調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形成第一非正交 偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝區(qū)域之間、以及第二拍攝 區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置,由于一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波 器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))形成第一非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及 上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下 方式,一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)是配 置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝區(qū)域之間、或者第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間 的衰減濾波器。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置,由于一對第一偏振濾波器與膜的第 一拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱 的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下 方式,一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置 于光照射機(jī)構(gòu),單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域照射的光的亮度值和向第二拍攝 區(qū)域照射的光的亮度值。
在該另一缺陷檢查用拍攝裝置中,由于一對第一偏振濾波器形成第一 非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下 方式,拍攝區(qū)域包括在搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,亮度調(diào)節(jié)機(jī) 構(gòu)包括一對第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,調(diào)節(jié)照射至第三拍攝區(qū)域的光的 亮度值,該一對第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態(tài)的 方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第三拍攝區(qū)域之間、以及第三拍攝區(qū)域與拍攝 機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置,由于一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波 器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))與膜的第二拍攝區(qū)域形成第一非正交偏振狀態(tài),一對 第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))與膜的第三拍攝區(qū)域形成第 二非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下 方式,拍攝區(qū)域包括在搬運(yùn)方向上被分割出的第三拍攝區(qū)域,缺陷檢查用 拍攝裝置還具備一對第二偏振濾波器,該一對第二偏振濾波器以形成第二 非正交偏振狀態(tài)的方式,分別配置在光照射機(jī)構(gòu)與第三拍攝區(qū)域之間、以 及第三拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置,由于一對第一偏振濾波器形成第一 非正交偏振狀態(tài),一對第二偏振濾波器形成第二非正交偏振狀態(tài),因此能 夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
另外,在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎(chǔ)上,也可以采用如下 方式,一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態(tài),亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括 一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器,該一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器以形 成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光照射機(jī)構(gòu)與第二拍攝區(qū)域之間、 以及第二拍攝區(qū)域與拍攝機(jī)構(gòu)之間。
根據(jù)該另一缺陷檢查用拍攝裝置,由于一對第一偏振濾波器形成第一 非正交偏振狀態(tài),一對第一亮度調(diào)節(jié)用濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))形成第二 非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點(diǎn)的檢測。
本實(shí)用新型的缺陷檢查系統(tǒng)具備:上述的缺陷檢查用拍攝裝置或者另 一缺陷檢查用拍攝裝置;以及檢測部,其根據(jù)由缺陷檢查用拍攝裝置或者 另一缺陷檢查用拍攝裝置拍攝到的二維圖像而檢測膜中存在的缺陷。另 外,本實(shí)用新型的缺陷檢查方法包括上述的缺陷檢查用拍攝方法或者另一 缺陷檢查用拍攝方法,該缺陷檢查方法包括缺陷檢測工序,在該缺陷檢測 工序中,根據(jù)利用缺陷檢查用拍攝方法或者另一缺陷檢查用拍攝方法拍攝 到的二維圖像而檢測膜中存在的缺陷。
本實(shí)用新型的膜制造裝置具備上述的缺陷檢查系統(tǒng)。另外,本實(shí)用新 型的膜的制造方法包括上述的缺陷檢查方法。
實(shí)用新型效果
根據(jù)本實(shí)用新型,能夠在膜的缺陷檢查中整合不同的檢查系列,從而 削減檢查系列數(shù)。
附圖說明
圖1是示出本實(shí)用新型的一實(shí)施方式所涉及的膜的制造裝置以及制造 方法的圖。
圖2是示出本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢 查方法的圖。
圖3是示出本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖4是示出本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖5是示出本實(shí)用新型的第三實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖6是示出本實(shí)用新型的第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖7是示出本實(shí)用新型的第五實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖8是示出本實(shí)用新型的第六實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置 以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖9是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢 查用拍攝方法的圖。
圖10是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖11是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖12是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖13是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖14是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖15是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖16是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖17是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖18是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖19是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖20是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖21的(a)~(c)是示出第二實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置以及 缺陷檢查用拍攝方法的驗(yàn)證結(jié)果的圖。
圖22是示出本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷 檢查方法的圖。
圖23是示出本實(shí)用新型的第七實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝 置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖24是示出本實(shí)用新型的第八實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝 置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖25是示出本實(shí)用新型的第九實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝 置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖26是示出本實(shí)用新型的第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝 置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖27是示出本實(shí)用新型的第十一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝 裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖28是示出本實(shí)用新型的第十二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝 裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖29是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖30是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖31是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖32是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖33是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖34是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖35是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖36是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖37是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖38是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖39是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖40是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖41是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖42是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖43是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖44是本實(shí)用新型的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷 檢查用拍攝方法的圖。
圖45的(a)~(d)是示出第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置以及 缺陷檢查用拍攝方法的驗(yàn)證結(jié)果的圖。
附圖標(biāo)記說明
10、10A、10B、10C、10D、10E...缺陷檢查系統(tǒng);20、20A、20B、 20C、20D、20E...缺陷檢查用拍攝裝置;21...光源(光照射機(jī)構(gòu));21A... 光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu));22...區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu));22a...CCD或者 CMOS;22b...透鏡;231、241...第一偏振濾波器;232、242...第二偏振濾 波器;251、253...第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu));252、254... 第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu));26...衰減濾波器(亮度調(diào) 節(jié)機(jī)構(gòu));30...圖像分析部;40...標(biāo)記裝置;100...制造裝置(膜制造裝置); 101、102、103...原料輥;104、105...貼合輥;106...搬運(yùn)輥;110...膜; 111...偏振膜主體部;112...帶有隔離膜的粘合件;113...表面保護(hù)膜;R... 拍攝區(qū)域;R0...中間拍攝區(qū)域;R1...第一拍攝區(qū)域;R2...第二拍攝區(qū)域; R3...第三拍攝區(qū)域。
具體實(shí)施方式
以下,參考附圖,對本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。需要 說明的是,在各附圖中,對于相同或相當(dāng)?shù)牟糠謽?biāo)記相同的附圖標(biāo)記。
本實(shí)用新型的實(shí)施方式所涉及的膜的制造裝置以及制造方法用于制 造具有偏振特性的偏振膜(光學(xué)膜)、以及不具有偏振特性的相位差膜(光 學(xué)膜)、電池用隔離膜等。在圖1中示出具有偏振特性的膜(偏振膜)的 制造裝置以及制造方法的一例,省略不具有偏振特性的相位差膜、電池用 隔離膜等的制造裝置以及制造方法的說明。
圖1所示的制造裝置(膜制造裝置)100首先在偏振片的主面兩側(cè)貼 合保護(hù)膜,生成偏振膜主體部(光學(xué)膜主體部)111。接下來,制造裝置 100從原料輥101取出粘合件上貼合有隔離膜(脫模膜)的帶有隔離膜的 粘合件112,利用貼合輥104將帶有隔離膜的粘合件112貼合于偏振膜主 體部111的一方的主面?zhèn)?。接下來,制造裝置100從原料輥102取出表面 保護(hù)膜113,利用貼合輥105將表面保護(hù)膜113貼合于偏振膜主體部111 的另一方的主面?zhèn)?,從而生成具有偏振特性的?10。接下來,制造裝置 100利用搬運(yùn)輥106搬運(yùn)所生成的膜110并利用原料輥103卷繞該膜110。
作為偏振膜主體部111中的偏振片的材料,可以列舉PVA(Polyvinyl Alcohol)等,作為偏振膜主體部111中的保護(hù)膜的材料,可以列舉TAC (Triacetylcellulose)等。另外,作為帶有隔離膜的粘合件112中的隔離膜 以及表面保護(hù)膜113的材料,可以列舉PET(Polyethylene Terephthalate) 等。通過剝離隔離膜,膜110能夠利用粘合件貼合于液晶面板、其他光學(xué) 膜等。
另外,制造裝置100具備進(jìn)行膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10、 以及進(jìn)行偏振膜主體部111的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10。需要說明的是, 由于這些缺陷檢查系統(tǒng)10相同,因此以下對進(jìn)行膜110的缺陷檢查的缺 陷檢查系統(tǒng)10進(jìn)行說明。
[第一實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10以 及缺陷檢查方法。圖2是示出本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢 查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法的圖,圖3是示出本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式所 涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10具備缺陷檢查用拍攝裝置20、圖像分析 部(檢測部)30以及標(biāo)記裝置40,圖3所示的缺陷檢查用拍攝裝置20具 備光源(光照射機(jī)構(gòu))21、多個(gè)區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22、以及第一偏 振濾波器231。在圖2以及圖3中示出了XYZ正交坐標(biāo),X方向表示偏振 膜的寬度方向,Y方向表示偏振膜的搬運(yùn)方向。
在本實(shí)施方式中,主要是圖1所示的搬運(yùn)輥106以及原料輥103作為 搬運(yùn)機(jī)構(gòu)而發(fā)揮功能。利用這些搬運(yùn)機(jī)構(gòu),沿搬運(yùn)方向Y相對于光源21、 區(qū)域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地搬運(yùn)膜110。
光源21設(shè)置在膜110的另一方的主面?zhèn)?,向?10的拍攝區(qū)域R照 射光。例如,光源21是沿寬度方向X延伸的線狀的光源。
區(qū)域傳感器22配置在膜110的一方的主面?zhèn)?,沿寬度方向X排列。 區(qū)域傳感器22包括CCD(Charge Coupled Device)或者CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor)22a與透鏡22b。區(qū)域傳感 器22通過接受透過膜110后的光而在時(shí)間上連續(xù)地將膜110的拍攝區(qū)域R 拍攝為二維圖像。
優(yōu)選各區(qū)域傳感器22所拍攝的二維圖像的搬運(yùn)方向Y的長度為,在 從各區(qū)域傳感器22獲取二維圖像到獲取下一個(gè)二維圖像的期間膜110被 搬運(yùn)的搬運(yùn)距離的至少2倍以上。換句話說,優(yōu)選對膜110的同一區(qū)域拍 攝2次以上。這樣,通過使二維圖像的搬運(yùn)方向Y的長度比圖像獲取期間 的搬運(yùn)距離大,增加膜110的同一部分的拍攝次數(shù),從而能夠高精度地檢 查缺陷。
在此,拍攝區(qū)域R包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第一拍攝區(qū)域R1 以及第二拍攝區(qū)域R2。另外,拍攝區(qū)域R包括第一拍攝區(qū)域R1與第二拍 攝區(qū)域R2之間的中間拍攝區(qū)域R0。
第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110之間。具體地說,第一 偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區(qū)域R的第一拍攝區(qū)域R1之間。在 本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器231配置為,從區(qū)域傳感器22觀察時(shí), 搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋(日文:ナイフエッジ)。另外, 第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態(tài)。在此,正交偏振狀態(tài)指 的是,偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸) 實(shí)質(zhì)上正交的狀態(tài),即,偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實(shí)質(zhì)上90 度的角度交叉的狀態(tài)。上述“實(shí)質(zhì)上90度”指的是,例如85度以上且小于 95度,更優(yōu)選為90度。
由此,能夠在第一拍攝區(qū)域R1拍攝正交偏振透射檢查用圖像,在第 二拍攝區(qū)域R2拍攝正透射檢查用圖像,在中間拍攝區(qū)域R0拍攝透射散射 檢查用圖像。
圖像分析部30根據(jù)來自區(qū)域傳感器22的二維圖像而檢測膜110中存 在的缺陷。另外,圖像分析部30根據(jù)二維圖像的像素坐標(biāo)、在圖像拍攝 期間膜被搬運(yùn)的距離,將二維圖像上的坐標(biāo)位置轉(zhuǎn)換為膜110上的坐標(biāo)位 置,生成缺陷位置信息。圖像分析部30根據(jù)缺陷位置信息而合成與膜110 的整個(gè)區(qū)域相對應(yīng)的圖像,制作缺陷映射圖。
標(biāo)記裝置40根據(jù)來自圖像分析部30的缺陷映射圖而在膜上進(jìn)行標(biāo) 記。
接下來,對本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態(tài)的方式配 置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一偏振濾波器配置工 序)。
接下來,利用搬運(yùn)機(jī)構(gòu),相對于光源21、區(qū)域傳感器22以及第一偏 振濾波器231相對地沿搬運(yùn)方向Y搬運(yùn)膜110(搬運(yùn)工序),利用光源21 向膜110的拍攝區(qū)域R照射光(光照射工序),利用區(qū)域傳感器22將膜110 的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像(拍攝工序)。
接下來,利用圖像分析部30,根據(jù)來自區(qū)域傳感器22的二維圖像檢 測膜110中存在的缺陷,并且根據(jù)缺陷位置信息制作缺陷映射圖(缺陷檢 測工序)。接下來,利用標(biāo)記裝置40,根據(jù)來自圖像分析部30的缺陷映射 圖在膜110上進(jìn)行標(biāo)記(標(biāo)記工序)。
根據(jù)該第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查 用拍攝方法,由于第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態(tài)的方 式配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1之間,區(qū)域傳感器(拍 攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2以及中間拍攝區(qū)域 R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域R1 的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的正透射檢查用圖像、以 及中間拍攝區(qū)域R0的透射散射檢查用圖像。即,能夠整合正交偏振透射 檢查用拍攝系列、正透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。
其結(jié)果是,根據(jù)第一實(shí)施方式的缺陷檢查系統(tǒng)10以及缺陷檢查方法, 能夠整合正交偏振透射檢查系列、正透射檢查系列、以及透射散射檢查系 列。
因此,根據(jù)第一實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝 方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以及缺陷檢查方法,能夠削減檢查系列數(shù)。
[第二實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10以 及缺陷檢查方法。
本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10A與第一實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20A。另外,圖4所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20A與第一實(shí)施方式的不同之處在于,在圖3所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20中還具備衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26。
衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,衰減 濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。衰減濾波器 26也可以配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,降低透過第二 拍攝區(qū)域R2的光的亮度。
接下來,對本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,將衰減濾波器 26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,能夠降低照射至第二 拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。衰減濾波器26也可以配置 在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,降低透過第二拍攝區(qū)域R2的 光的亮度。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第二實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20A、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10A、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第一實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以 及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
然而,在正交偏振透射檢查用拍攝系列與正透射檢查用拍攝系列中, 適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎挡煌?。更具體地說,正交偏振透射檢查用拍攝系列的適 當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^大,正透射檢查用拍攝系列的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^小。
關(guān)于這一點(diǎn),根據(jù)該第二實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20A以及缺 陷檢查用拍攝方法,由于能夠利用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26調(diào)節(jié)照 射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值,因此,例如通過從光源(光照射機(jī) 構(gòu))21輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查用 拍攝系列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利 用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26使朝向用于進(jìn)行正透射檢查用拍攝系列 的第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。如前述那樣,即便將衰減濾 波器26配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,調(diào)節(jié)透過第二拍 攝區(qū)域R2后的光的亮度值,也能夠期待同樣的效果。
以下,進(jìn)行上述效果的驗(yàn)證。在圖21的(a)中示出在正交偏振透射 法以及正透射法中改變光源光量時(shí)的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點(diǎn)、較 強(qiáng)的亮點(diǎn))的檢測圖像。另外,在圖21的(b)中示出將基于圖21的(a) 的正交偏振透射法得到的檢測圖像的缺陷信號圖表化的圖,在圖21的(c) 中示出將基于圖21的(a)的正透射法得到的檢測圖像的缺陷信號圖表化 的圖。需要說明的是,光源光量示出為以圖像上的亮度值為128時(shí)的光源 光量(正透射中的最佳的光量)為基準(zhǔn)的1倍~40倍。
根據(jù)圖21的(a)以及圖21的(c),在正透射法中,光源光量優(yōu)選 為1倍左右,若將光源光量設(shè)為2倍以上,則圖像上的亮度過高,圖像整 體變白。另一方面,根據(jù)圖21的(a)以及圖21的(b)可知,在正交偏 振透射法中,在光源光量為1倍左右的情況下,畫面上的亮度過低,無法 識別缺陷,光源光量優(yōu)選為20倍以上,更優(yōu)選為40倍以上。
在上述的驗(yàn)證中,通過調(diào)節(jié)向拍攝區(qū)域照射的光源的光量來調(diào)節(jié)圖像 上的亮度值,但作為亮度調(diào)節(jié)方法,如前述那樣通過使用衰減濾波器的方 法也能夠?qū)崿F(xiàn)同樣的效果。
[第三實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第三實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10以 及缺陷檢查方法。
本實(shí)用新型的第三實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10B與第一實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20B。另外,圖5所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20B與第一實(shí)施方式的不同之處在于,在圖3所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20中,代替光源21而具備光源21A。
光源21A具有單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第 二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值的亮度調(diào)節(jié)功能。由此,能夠使照射至 第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮 度值較小。
接下來,對本實(shí)用新型的第三實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,利用光源21A 單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域R2照射 的光的亮度值。由此,能夠使照射至第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大, 使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值較小(亮度調(diào)節(jié)工序)。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第三實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20B、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10B、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第一實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以 及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
另外,根據(jù)該第三實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20B以及缺陷檢查 用拍攝方法,由于能夠利用光源21A單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的 光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值,因此能夠使朝向用 于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度 值較大,另一方面,能夠使朝向用于進(jìn)行正透射檢查用拍攝系列的第二拍 攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。
[第四實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查 的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng) 以及缺陷檢查方法能夠應(yīng)用于不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜 等的制造裝置以及制造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離 膜等的制造裝置以及制造方法中,除第四實(shí)施方式中進(jìn)行說明的缺陷檢查 系統(tǒng)以及缺陷檢查方法以外的內(nèi)容是公知的,因此如前述那樣省略說明。 對于與進(jìn)行不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺 陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法相關(guān)的其他實(shí)施方式以及變形例,基于同樣 的觀點(diǎn),省略對不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的制造裝置 以及制造方法的說明。在第四實(shí)施方式中,膜110是不具有偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10C與第一實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20C。另外,圖6所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20C與第一實(shí)施方式的不同之處在于,在圖3所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20中,代替第一偏振濾波器231而具備一對第一偏振濾 波器231、241。
第一偏振濾波器231與第一實(shí)施方式同樣地配置在光源21與膜110 之間。具體地說,第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區(qū)域R的第 一拍攝區(qū)域R1之間。在本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器231配置為,從 區(qū)域傳感器22觀察時(shí),搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋。
另一方面,第一偏振濾波器241配置在膜110與區(qū)域傳感器22之間。 具體地說,第一偏振濾波器241配置在拍攝區(qū)域R的第一拍攝區(qū)域R1與 區(qū)域傳感器22之間。在本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器241配置為,從 區(qū)域傳感器22觀察時(shí),搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋。
另外,第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成正交偏振狀態(tài)。 由此,能夠在第一拍攝區(qū)域R1拍攝正交偏振透射檢查用圖像,在第二拍 攝區(qū)域R2拍攝正透射檢查用圖像,在中間拍攝區(qū)域R0拍攝透射散射檢查 用圖像。
接下來,對本實(shí)用新型的第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū) 域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū) 域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工序)。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第四實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢 查用拍攝方法,由于一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態(tài) 的方式分別配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1之間、以及 第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,區(qū)域傳感器(拍攝 機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2以及中間拍攝區(qū)域 R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域R1 的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的正透射檢查用圖像、中 間拍攝區(qū)域R0的透射散射檢查用圖像。即,能夠整合正交偏振透射檢查 用拍攝系列、正透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。
其結(jié)果是,根據(jù)第四實(shí)施方式的缺陷檢查系統(tǒng)10C以及缺陷檢查方 法,能夠整合正交偏振透射檢查系列、正透射檢查系列、以及透射散射檢 查系列。
因此,根據(jù)第四實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍 攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法,能夠削減檢查系列數(shù)。
[第五實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第五實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查 的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。在第五實(shí)施方式中,膜110是不具有 偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第五實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10D與第四實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10C中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20C而具備缺陷檢查用拍攝裝置20D。另外,圖7所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20D與第四實(shí)施方式的不同之處在于,在圖6所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20C中還具備衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26。
衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,衰減 濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。衰減濾波器 26也可以配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,降 低透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度。
接下來,對本實(shí)用新型的第五實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,將衰減濾波器 26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,能夠降低照射至第二 拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。衰減濾波器26也可以配置 在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,降低透過第二拍 攝區(qū)域R2的光的亮度。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第五實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20D、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10D、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第四實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、 以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
另外,根據(jù)該第五實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20D以及缺陷檢查 用拍攝方法,由于能夠利用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26調(diào)節(jié)照射至第 二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值,因此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu))21 輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝系 列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用衰減 濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26使朝向用于進(jìn)行正透射檢查用拍攝系列的第二 拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。另外,即便將衰減濾波器26配置在 第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,調(diào)節(jié)透過第二拍攝 區(qū)域R2后的光的亮度值,也能夠?qū)崿F(xiàn)同樣的效果。
[第六實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第六實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查 的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。在第六實(shí)施方式中,膜110是不具有 偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第六實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10E與第四實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖2所示的缺陷檢查系統(tǒng)10C中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20C而具備缺陷檢查用拍攝裝置20E。另外,圖8所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20E與第四實(shí)施方式的不同之處在于,在圖6所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20C中,代替光源21而具備光源21A。
光源21A具有單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第 二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值的亮度調(diào)節(jié)功能。由此,能夠使照射至 第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮 度值較小。
接下來,對本實(shí)用新型的第六實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,利用光源21A 單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域R2照射 的光的亮度值。由此,能夠使照射至第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大, 使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值較小(亮度調(diào)節(jié)工序)。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第六實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20E、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10E、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第四實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、 以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
另外,根據(jù)該第六實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20E以及缺陷檢查 用拍攝方法,由于能夠利用光源21A單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的 光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值,因此能夠使朝向用 于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度 值較大,另一方面,能夠使朝向用于進(jìn)行正透射檢查用拍攝系列的第二拍 攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。
需要說明的是,本實(shí)用新型不限于上述的本實(shí)施方式,能夠進(jìn)行各種 變形。例如,在第一、第二以及第三實(shí)施方式中,例示了利用了透射法的 缺陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B以及缺陷檢查用拍攝方法,但本實(shí)用 新型的特征也能夠應(yīng)用于如圖9、圖10以及圖11所示那樣利用了反射法 的缺陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B以及缺陷檢查用拍攝方法。
根據(jù)圖9、圖10以及圖11所示的缺陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B 以及缺陷檢查用拍攝方法,由于第一偏振濾波器231以與膜110形成正交 偏振狀態(tài)的方式配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1之間, 區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2 以及中間拍攝區(qū)域R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝 第一拍攝區(qū)域R1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的正反射 檢查用圖像、以及中間拍攝區(qū)域R0的反射散射檢查用圖像。即,能夠整 合正交偏振反射檢查用拍攝系列、正反射檢查用拍攝系列、以及反射散射 檢查用拍攝系列。其結(jié)果是,在缺陷檢查系統(tǒng)10、10A、10B以及缺陷檢 查方法中,能夠整合正交偏振反射檢查系列、正反射檢查系列、以及反射 散射檢查系列,從而能夠削減檢查系列數(shù)。
然而,在正交偏振反射檢查用拍攝系列與正反射檢查用拍攝系列中, 適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎挡煌?。更具體地說,正交偏振反射檢查用拍攝系列的適 當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^大,正反射檢查用拍攝系列的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^小。
關(guān)于這一點(diǎn),根據(jù)圖10以及圖11所示的缺陷檢查用拍攝裝置20A、 20B以及缺陷檢查用拍攝方法,由于能夠利用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮 度值,因此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu))21以及光源(光照射機(jī)構(gòu)) 21A輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振反射檢查用拍 攝系列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用 衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A使朝向用 于進(jìn)行正反射檢查用拍攝系列的第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較 小。在利用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26的情況下(例如圖10中例示 的方式),也可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器 (拍攝機(jī)構(gòu))22之間,在第二拍攝區(qū)域R2中調(diào)節(jié)反射光的亮度值。
同樣地,在第四、第五以及第六實(shí)施方式中,例示了利用透射法的缺 陷檢查用拍攝裝置20C、20D、20E以及缺陷檢查用拍攝方法,但本實(shí)用 新型的特征也能夠應(yīng)用于如圖12、圖13以及圖14所示那樣利用反射法的 缺陷檢查用拍攝裝置20C、20D、20E以及缺陷檢查用拍攝方法。
根據(jù)圖12、圖13以及圖14所示的缺陷檢查用拍攝裝置20C、20D、 20E以及缺陷檢查用拍攝方法,由于一對第一偏振濾波器231、241以形成 正交偏振狀態(tài)的方式分別配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域 R1之間、以及第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,區(qū)域 傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2以及中 間拍攝區(qū)域R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝第一拍 攝區(qū)域R1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的正反射檢查用 圖像、中間拍攝區(qū)域R0的反射散射檢查用圖像。即,能夠整合正交偏振 反射檢查用拍攝系列、正反射檢查用拍攝系列、以及反射散射檢查用拍攝 系列。其結(jié)果是,在缺陷檢查系統(tǒng)10C、10D、10E以及缺陷檢查方法中, 能夠整合正交偏振反射檢查系列、正反射檢查系列、以及反射散射檢查系 列,從而能夠削減檢查系列數(shù)。
另外,根據(jù)圖13以及圖14所示的缺陷檢查用拍攝裝置20D、20E以 及缺陷檢查用拍攝方法,能夠利用衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光 源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值,因 此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu))21以及光源(光照射機(jī)構(gòu))21A輸出 較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振反射檢查用拍攝系列的 第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用衰減濾波 器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A使朝向用于進(jìn)行正 反射檢查用拍攝系列的第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。在利用 衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26的情況下(例如圖13中例示的方式),也 可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu)) 22之間,在第二拍攝區(qū)域R2中調(diào)節(jié)反射光的亮度值。
另外,在第一、第二以及第三實(shí)施方式、以及圖9、圖10以及圖11 所示的方式中,例示了第一偏振濾波器231設(shè)置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21 與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間的方式,但也可以采用如圖15、圖16、 圖17、圖18、圖19以及圖20所示那樣第一偏振濾波器231配置在膜110 的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間的方式。
[第七實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第七實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10以 及缺陷檢查方法。圖22是示出本實(shí)用新型的第七實(shí)施方式所涉及的缺陷 檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法的圖,圖23是示出本實(shí)用新型的第七實(shí)施方 式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。
圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10具備缺陷檢查用拍攝裝置20、圖像分析 部(檢測部)30以及標(biāo)記裝置40,圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20 具備光源(光照射機(jī)構(gòu))21、多個(gè)區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22、第一偏振 濾波器231以及第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251。在圖 22以及圖23中示出了XYZ正交坐標(biāo),X方向表示偏振膜的寬度方向,Y 方向表示偏振膜的搬運(yùn)方向。
在本實(shí)施方式中,主要是圖1所示的搬運(yùn)輥106以及原料輥103作為 搬運(yùn)機(jī)構(gòu)而發(fā)揮功能。利用這些搬運(yùn)機(jī)構(gòu),沿搬運(yùn)方向Y相對于光源21、 區(qū)域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地搬運(yùn)膜110。
光源21設(shè)置在膜110的另一方的主面?zhèn)龋蚰?10的拍攝區(qū)域R照 射光。例如,光源21是沿寬度方向X延伸的線狀的光源。
區(qū)域傳感器22配置在膜110的一方的主面?zhèn)龋貙挾确较騒排列。 區(qū)域傳感器22包括CCD(Charge Coupled Device)或者CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor)22a與透鏡22b。區(qū)域傳感 器22通過接受透過膜110的光而在時(shí)間上連續(xù)地將膜110的拍攝區(qū)域R 拍攝為二維圖像。
優(yōu)選各區(qū)域傳感器22所拍攝的二維圖像的搬運(yùn)方向Y的長度為,在 從各區(qū)域傳感器22獲取二維圖像到獲取下一個(gè)二維圖像的期間膜110被 搬運(yùn)的搬運(yùn)距離的至少2倍以上。換句話說,優(yōu)選對膜110的同一區(qū)域拍 攝2次以上。這樣,通過使二維圖像的搬運(yùn)方向Y的長度比圖像獲取期間 的搬運(yùn)距離大,增加膜110的同一部分的拍攝次數(shù),從而能夠高精度地檢 查缺陷。
在此,拍攝區(qū)域R包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第一拍攝區(qū)域R1 以及第二拍攝區(qū)域R2。另外,拍攝區(qū)域R包括第一拍攝區(qū)域R1與第二拍 攝區(qū)域R2之間的中間拍攝區(qū)域R0。
第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110之間。具體地說,第一 偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區(qū)域R的第一拍攝區(qū)域R1之間。在 本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器231配置為,從區(qū)域傳感器22觀察時(shí), 搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋。另外,第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態(tài)。在此,正交偏振狀態(tài)指的是,偏振濾波器的 偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實(shí)質(zhì)上正交的狀態(tài), 即,偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實(shí)質(zhì)上90度的角度交叉的狀態(tài)。 上述“實(shí)質(zhì)上90度”指的是,例如85度以上且小于95度,更優(yōu)選為90度。
第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態(tài)即可,第一偏振濾波 器231也可以配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器22之間。
第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251以與膜110形成第一非正交偏振(half crossed nicol)狀態(tài)的方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以 及光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。在此,非正交偏振狀態(tài)指的是,偏振 濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)不實(shí)質(zhì)上正 交而是交叉的狀態(tài),即,偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實(shí)質(zhì)上90 度以外的角度交叉的狀態(tài)。非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸(偏 振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)的角度根據(jù)拍攝機(jī)構(gòu)的拍攝對象 即膜的透射率以及從光源出射的光的亮度值等而有所不同,例如是利用區(qū) 域傳感器22透過拍攝區(qū)域R的規(guī)定的區(qū)域(在圖23的例子中為第二拍攝 區(qū)域R2)拍攝時(shí)的圖像上的亮度值為200以下的角度,優(yōu)選為圖像上的 亮度值為130以下的角度。例如后述那樣,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251的偏振軸與膜110的偏振軸的交叉角度為75度以上且小于85度、或者為95度以上且105度以下。由此,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251能夠降低 照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。在本說明書中,“亮度值”是8位 灰度圖像上的各像素所具有的值。
另外,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251可以僅配置在光源21與第二 拍攝區(qū)域R2之間,調(diào)節(jié)所照射的光的亮度,也可以配置在膜110與區(qū)域 傳感器22之間,調(diào)節(jié)透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度。
由此,能夠在第一拍攝區(qū)域R1拍攝正交偏振透射檢查用圖像,在第 二拍攝區(qū)域R2拍攝非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用圖像,在 中間拍攝區(qū)域R0拍攝透射散射檢查用圖像。
圖像分析部30根據(jù)來自區(qū)域傳感器22的二維圖像而檢測膜110中存 在的缺陷。另外,圖像分析部30根據(jù)二維圖像的像素坐標(biāo)以及在圖像拍 攝期間膜被搬運(yùn)的距離,將二維圖像上的坐標(biāo)位置轉(zhuǎn)換為膜110上的坐標(biāo) 位置,生成缺陷位置信息。圖像分析部30根據(jù)缺陷位置信息合成與膜110 的整個(gè)區(qū)域相對應(yīng)的圖像,制作缺陷映射圖。
標(biāo)記裝置40根據(jù)來自圖像分析部30的缺陷映射圖,在膜上進(jìn)行標(biāo)記。
接下來,對本實(shí)用新型的第七實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態(tài)的方式配 置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一偏振濾波器配置工 序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器 22之間。接下來,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251以與膜110形成第一 非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及 光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域 R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)??梢詫⒌谝涣炼日{(diào)節(jié)用偏振濾波器251僅配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間,也可以配置在膜110與區(qū)域傳 感器22之間。
接下來,利用搬運(yùn)機(jī)構(gòu),相對于光源21、區(qū)域傳感器22以及第一偏 振濾波器231相對地沿搬運(yùn)方向Y搬運(yùn)膜110(搬運(yùn)工序),利用光源21 向膜110的拍攝區(qū)域R照射光(光照射工序),利用區(qū)域傳感器22將膜110 的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像(拍攝工序)。
接下來,利用圖像分析部30,根據(jù)來自區(qū)域傳感器22的二維圖像而 檢測膜110中存在的缺陷,并且根據(jù)缺陷位置信息制作缺陷映射圖(缺陷 檢測工序)。接下來,利用標(biāo)記裝置40,根據(jù)來自圖像分析部30的缺陷映 射圖在膜110上進(jìn)行標(biāo)記(標(biāo)記工序)。
根據(jù)該第一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查 用拍攝方法,由于第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態(tài)的方 式配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1之間,區(qū)域傳感器(拍 攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2以及中間拍攝區(qū)域 R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域R1 的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的非正交偏振(第一非正 交偏振)透射檢查用圖像、以及中間拍攝區(qū)域R0的透射散射檢查用圖像。 即,能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、非正交偏振透射檢查用拍攝 系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。
其結(jié)果是,根據(jù)第七實(shí)施方式的缺陷檢查系統(tǒng)10以及缺陷檢查方法, 能夠整合正交偏振透射檢查系列、非正交偏振透射檢查系列、以及透射散 射檢查系列。
因此,根據(jù)第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝 方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以及缺陷檢查方法,能夠削減檢查系列數(shù)。
根據(jù)第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方 法,能夠利用第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251調(diào)節(jié)照射 至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。因此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu)) 21輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝 系列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用第 一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251使朝向用于進(jìn)行非正交偏 振(第一非正交偏振)透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區(qū)域R2照射的光 的亮度值較小。
然而,本申請的發(fā)明人們發(fā)現(xiàn),正透射法適于黑異物的檢測,正交偏 振透射法適于亮點(diǎn)的檢測,但正交偏振透射法難以檢測與較強(qiáng)的亮點(diǎn)相比 稍弱的亮點(diǎn)。關(guān)于這一點(diǎn),本申請的發(fā)明人們發(fā)現(xiàn)了在正交偏振透射法難 以檢測的黑異物、稍弱的亮點(diǎn)的檢測中利用非正交透射法。
關(guān)于這一點(diǎn),根據(jù)第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷 檢查用拍攝方法,由于第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251與膜110的第二拍攝區(qū)域R2形成第一非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑 異物以及較弱的亮點(diǎn)(包括上述稍弱的亮點(diǎn))的檢測。在本說明書中,以 下,較弱的亮點(diǎn)包括上述“稍弱的亮點(diǎn)”的概念。
以下,進(jìn)行上述效果的驗(yàn)證。在圖45的(a)中示出光源光量40倍 時(shí)的、改變偏振濾波器相對于膜的交叉角度時(shí)的各種缺陷(黑異物、較弱 的亮點(diǎn)、較強(qiáng)的亮點(diǎn))的檢測圖像,在圖45的(b)中示出將圖45的(a) 的檢測圖像的亮度值圖表化的圖。同樣地,在圖45的(c)中示出將光源 光量20倍時(shí)的、改變偏振濾波器相對于膜的交叉角度時(shí)的各種缺陷(黑 異物、較弱的亮點(diǎn)、較強(qiáng)的亮點(diǎn))的檢測圖像的亮度值圖表化的圖,在圖 45的(d)中示出將光源光量10倍時(shí)的、改變偏振濾波器相對于膜的交叉 角度時(shí)的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點(diǎn)、較強(qiáng)的亮點(diǎn))的檢測圖像的亮 度值圖表化的圖。需要說明的是,對于光源光量40倍、20倍、10倍而言, 將圖像上的亮度值為128時(shí)的光源光量(正透射中最佳的光量)作為1倍 而示出。
根據(jù)圖45的(a)、(b)可知,在光源光量為40倍的情況下,對于較 強(qiáng)的亮點(diǎn)的缺陷的檢測,交叉角度實(shí)質(zhì)上為90度,即正交偏振透射法適 宜,對于較弱的亮點(diǎn)的缺陷的檢測,交叉角度為105度,即非正交偏振透 射法適宜。需要說明的是,在交叉角度為70度以下以及110度以上的情 況下,圖像上的亮度過高,圖像整體變白。另外,對于黑異物的缺陷的檢 測,可知正透射法適宜,但對于在正透射法中將偏振濾波器用作亮度調(diào)節(jié) 的情況,可知交叉角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105 度以下,即非正交偏振透射法適宜。
另外,根據(jù)圖45的(b)、(c)、(d)可知,根據(jù)光源光量的不同,對 于較弱的亮點(diǎn)的缺陷的檢測以及黑異物的缺陷的檢測,非正交偏振透射法 中的最佳的交叉角度不同。
由此,對于在正透射法中將偏振濾波器用作亮度調(diào)節(jié)的情況,即利用 非正交偏振透射法的情況,有利于交叉角度實(shí)質(zhì)上為90度以外時(shí)缺陷信 號變高的缺陷,例如較弱的亮點(diǎn)、黑異物的檢測。
另外,能夠綜合考慮兩個(gè)交叉角度下的檢查,判斷缺陷等級的強(qiáng)弱。 例如,也可以在利用交叉角度實(shí)質(zhì)上為90度的正交偏振透射法以及交叉 角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下的非正交偏 振透射法這兩方確認(rèn)到缺陷信號的情況下,換言之在較大的角度范圍內(nèi)確 認(rèn)到缺陷信號的情況下,判斷為缺陷等級強(qiáng),在僅通過交叉角度實(shí)質(zhì)上為 90度的正交偏振透射法確認(rèn)到缺陷信號的情況下,判斷為缺陷等級弱。
在上述的驗(yàn)證中,將偏振濾波器配置在光源與拍攝區(qū)域之間,調(diào)節(jié)照 射至拍攝區(qū)域的光的亮度,但通過利用偏振濾波器的非正交透射法對透過 拍攝區(qū)域的光進(jìn)行亮度調(diào)節(jié),也能夠?qū)崿F(xiàn)同樣的效果。
[第七實(shí)施方式的變形例]
在第七實(shí)施方式中,例示了將正交偏振透射法與非正交偏振透射法組 合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將正交 偏振透射法與兩個(gè)以上不同的非正交偏振透射法組合。以下,作為第七實(shí) 施方式的變形例,例示將正交偏振透射法與兩個(gè)不同的非正交偏振透射法 組合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖39所示的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20與第七實(shí)施方式的不同 之處在于,在圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中還具備第二亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第二拍攝區(qū)域R2鄰接。
第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252以與第一亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器251鄰接且與膜110形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置 在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間。在此,第二非正交偏振狀態(tài)與第一非 正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與 膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸 與膜的偏振軸的交叉角度不同。由此,第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器252能 夠降低照射至第三拍攝區(qū)域R3的光的亮度值。第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波 器252與膜110形成第二非正交偏振狀態(tài)即可,也可以在第三拍攝區(qū)域R3 與區(qū)域傳感器22之間,調(diào)節(jié)透過第三拍攝區(qū)域R3的光的亮度值。
接下來,對第七實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍 攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,如上述那樣, 將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251以與膜110形成第一非正交偏振狀態(tài)的 方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝 區(qū)域R2之間。接下來,將第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器252以與膜110形 成第二非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間。由 此,能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2以及第三拍攝區(qū)域R3的光的亮度值 (亮度調(diào)節(jié)工序)。也可以將第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器252配置在第三 拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照 射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第七實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用 拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第七實(shí)施 方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、 以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第八實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第八實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10A以 及缺陷檢查方法。
本實(shí)用新型的第八實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10A與第七實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20A。另外,圖24所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20A與第七實(shí)施方式的不同之處在于,在圖23所示的缺 陷檢查用拍攝裝置20中,代替第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī) 構(gòu))251而具備衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26。另外,缺陷檢查用拍攝 裝置20A與第七實(shí)施方式的不同之處在于,在缺陷檢查用拍攝裝置20中, 第一偏振濾波器231的偏振軸相對于膜110的偏振軸(偏振吸收軸)的交 叉角度不同。
第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區(qū)域R1形成第一非正交偏 振狀態(tài)。例如后述那樣,第一偏振濾波器231的偏振軸與膜110的偏振軸 的交叉角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。另 外,第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區(qū)域R1形成第一非正交偏 振狀態(tài)即可,第一偏振濾波器231也可以配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域 傳感器22之間(參照圖35)。
衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,衰減 濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。另外,衰減濾 波器26也可以配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,降低透過 第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。
接下來,對本實(shí)用新型的第八實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態(tài)的 方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一偏振濾波器配 置工序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳 感器22之間。接下來,將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域 R2之間。由此,能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào) 節(jié)工序)。也可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器 22之間。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第八實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20A、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10A、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第七實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以 及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第八實(shí)施方式的第一變形例]
在第八實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上不 同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下,作為第八實(shí)施方式的第一 變形例,例示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查 用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖40所示的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20A與第七實(shí)施方式 的不同之處在于,在圖24所示的缺陷檢查用拍攝裝置20A中還具備第二 偏振濾波器232。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第一拍攝區(qū)域R1鄰接。
第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接且與膜110形成第 二非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間。在此, 第二非正交偏振狀態(tài)與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀 態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振 狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。第二偏振濾 波器232配置為與第三拍攝區(qū)域R3形成第二非正交偏振狀態(tài)即可,也可 以相對于第一偏振濾波器231獨(dú)立地配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感 器22之間。
接下來,對第八實(shí)施方式的第一變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查 用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正 交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一 偏振濾波器配置工序)。接下來,將第二偏振濾波器232以與膜110形成 第二非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與膜110的第三拍攝區(qū)域R3之 間(第二偏振濾波器配置工序)。也可以將第二偏振濾波器232相對于第 一偏振濾波器231獨(dú)立地配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。 接下來,進(jìn)行上述的亮度調(diào)節(jié)工序、搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、 缺陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第八實(shí)施方式的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20A、缺陷 檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10A、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與 第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查 系統(tǒng)10、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第八實(shí)施方式的第二變形例]
在第八實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上不 同的非正交偏振透射法組合。以下,作為第八實(shí)施方式的第二變形例,例 示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20A以及 缺陷檢查用拍攝方法。
第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20A與第八實(shí)施方式的不同之處 在于,在圖24所示的缺陷檢查用拍攝裝置20A中,代替衰減濾波器(亮 度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26而具備第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251。
第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251以與膜110形成第 二非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。在此, 第二非正交偏振狀態(tài)與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀 態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振 狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。由此,第一 亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度 值。
第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251與膜110形成第二非正交偏振狀態(tài)即 可,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251也可以配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū) 域傳感器22之間,調(diào)節(jié)透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。
接下來,對第八實(shí)施方式的第二變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查 用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正 交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一 偏振濾波器配置工序)。接下來,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251以與 膜110形成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光源21與第一偏振濾波 器231之間、以及光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,能夠降低照射 至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。也可以將第一亮度調(diào) 節(jié)用偏振濾波器251配置在第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,調(diào)節(jié) 透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光 照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第八實(shí)施方式的第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20A、缺陷 檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10A、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與 第七實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查 系統(tǒng)10、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第九實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第九實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統(tǒng)10以 及缺陷檢查方法。
本實(shí)用新型的第九實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10B與第七實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20B。另外,圖25所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20B與第七實(shí)施方式的不同之處在于,在圖23所示的缺 陷檢查用拍攝裝置20中,代替光源21以及第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮 度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251而具備光源21A。另外,缺陷檢查用拍攝裝置20B與第 七實(shí)施方式的不同之處在于,在缺陷檢查用拍攝裝置20中,第一偏振濾 波器231的偏振軸相對于膜110的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。
第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區(qū)域R1形成第一非正交偏 振狀態(tài)。例如后述那樣,第一偏振濾波器231的偏振軸與膜110的偏振軸 的交叉角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。第 一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區(qū)域R1形成第一非正交偏振狀態(tài) 即可,第一偏振濾波器231也可以配置在光源21A與第一拍攝區(qū)域R1之 間(參照圖25),或者配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器22之間(參 照圖36)。
光源21A具有單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第 二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值的亮度調(diào)節(jié)功能。由此,能夠使照射至 第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮 度值較小。
接下來,對本實(shí)用新型的第九實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態(tài)的 方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第一偏振濾波器配 置工序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳 感器22之間。接下來,利用光源21A單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射 的光的亮度值和向第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值。由此,能夠使照 射至第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光 的亮度值較小(亮度調(diào)節(jié)工序)。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第九實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20B、缺陷檢查用拍攝方 法、缺陷檢查系統(tǒng)10B、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第七實(shí)施方式 的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10、以 及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第九實(shí)施方式的變形例]
在第九實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20B以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上不 同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下,作為第九實(shí)施方式的變形 例,例示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍 攝裝置20B以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖41所示的缺陷檢查用拍攝裝置20B與第七實(shí)施方式的不同之處在 于,在圖25所示的缺陷檢查用拍攝裝置20B中還具備第二偏振濾波器232。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第一拍攝區(qū)域R1鄰接。
第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接且與膜110形成第 二非正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間。在此, 第二非正交偏振狀態(tài)與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀 態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振 狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。第二偏振濾 波器232與膜110形成第二非正交偏振狀態(tài)即可,第二偏振濾波器232也 可以配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。
接下來,對第九實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍 攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正 交偏振狀態(tài)的方式,配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū)域R1之間(第 一偏振濾波器配置工序)。接下來,將第二偏振濾波器232以與膜110形 成第二非正交偏振狀態(tài)的方式,配置在光源21與膜110的第三拍攝區(qū)域R3之間(第二偏振濾波器配置工序)。也可以將第二偏振濾波器232配置 在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。接下來,進(jìn)行上述的亮度調(diào)節(jié) 工序、搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第九實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20B、缺陷檢查 用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10B、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第七 實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng) 10、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方 法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查 的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng) 以及缺陷檢查方法能夠應(yīng)用于不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜 等的制造裝置以及制造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離 膜等的制造裝置以及制造方法中,除第十實(shí)施方式中進(jìn)行說明的缺陷檢查 系統(tǒng)以及缺陷檢查方法以外的內(nèi)容是公知的,因此如前述那樣省略說明。 對于與進(jìn)行不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺 陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法相關(guān)的其他實(shí)施方式以及變形例,基于同樣 的觀點(diǎn),省略關(guān)于不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的制造裝 置以及制造方法的說明。在第十實(shí)施方式及其變形例的說明中,膜110是 不具有偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10C與第七實(shí)施 方式的不同之處在于,在圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10中,代替缺陷檢查 用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20C。另外,圖26所示的缺陷 檢查用拍攝裝置20C與第七實(shí)施方式偶的不同之處在于,在圖23所示的 缺陷檢查用拍攝裝置20中,代替第一偏振濾波器231而具備一對第一偏 振濾波器231、241,在第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251的基礎(chǔ)上還具備與 第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251成對的第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253。
第一偏振濾波器231與第七實(shí)施方式同樣地配置在光源21與膜110 之間。具體地說,第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區(qū)域R的第 一拍攝區(qū)域R1之間。在本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器231配置為,從 區(qū)域傳感器22觀察時(shí),搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋。
另一方面,第一偏振濾波器241配置在膜110與區(qū)域傳感器22之間。 具體地說,第一偏振濾波器241配置在拍攝區(qū)域R的第一拍攝區(qū)域R1與 區(qū)域傳感器22之間。在本實(shí)施方式中,第一偏振濾波器241配置為,從 區(qū)域傳感器22觀察時(shí),搬運(yùn)方向Y上的拍攝區(qū)域R的一半被遮擋。
另外,一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251、253中的第一亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器251與第七實(shí)施方式同樣地配置在光源21與膜110之間。 另一方面,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253配置在膜110與區(qū)域傳感器22 之間。具體地說,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253配置在拍攝區(qū)域R的第 二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間。在第十實(shí)施方式中,第一亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器253配置為,從區(qū)域傳感器22觀察時(shí),搬運(yùn)方向Y上的拍 攝區(qū)域R的一半(在圖26的例子中是第二拍攝區(qū)域R2側(cè)的部分)被遮擋。
另外,第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成正交偏振狀態(tài)。 另一方面,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器 253形成第一非正交偏振狀態(tài)。例如,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251的 偏振軸與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253的偏振軸的交叉角度為75度以 上且小于85度、或者95度以上且105度以下。由此,能夠在第一拍攝區(qū) 域R1拍攝正交偏振透射檢查用圖像,在第二拍攝區(qū)域R2拍攝非正交偏振 透射檢查用圖像,在中間拍攝區(qū)域R0拍攝透射散射檢查用圖像。
接下來,對本實(shí)用新型的第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺 陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū) 域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū) 域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工序)。
接下來,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251配置在光源21與第一偏 振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間,將第一亮度調(diào) 節(jié)用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之 間。此時(shí),第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器 253配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)。由此,能夠降低透過第二拍攝區(qū)域R2被區(qū)域傳感器22觀測到的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。也可以將第 一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251僅配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。
另外,也可以代替第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253而使第一偏振濾波 器241擴(kuò)展至第二拍攝區(qū)域R2,在該情況下,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器251配置為與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態(tài)即可。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢 查用拍攝方法,由于一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態(tài) 的方式分別配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1之間、以及 第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間,區(qū)域傳感器(拍攝 機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2以及中間拍攝區(qū)域 R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域R1 的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的非正交偏振(第一非正 交偏振)透射檢查用圖像、中間拍攝區(qū)域R0的透射散射檢查用圖像。即, 能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、非正交偏振(第一非正交偏振) 透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。
其結(jié)果是,根據(jù)第十實(shí)施方式的缺陷檢查系統(tǒng)10C以及缺陷檢查方 法,能夠整合正交偏振透射檢查系列、非正交偏振透射檢查系列、以及透 射散射檢查系列。
因此,根據(jù)第十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍 攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法,能夠削減檢查系列數(shù)。
另外,根據(jù)該第十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢查 用拍攝方法,能夠利用一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 251、253,調(diào)節(jié)透過第二拍攝區(qū)域R2被區(qū)域傳感器22觀測到的光的亮度 值。因此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu))21輸出較大的亮度值的光,能 夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區(qū)域R1照射 的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器 (亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、253使透過用于進(jìn)行非正交偏振透射檢查用拍攝系 列的第二拍攝區(qū)域R2被區(qū)域傳感器觀測到的光的亮度值較小。
另外,根據(jù)第十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢查用 拍攝方法,由于一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、 253形成第一非正交偏振狀態(tài),因此能夠改善黑異物以及較弱的亮點(diǎn)的檢 測。
[第十實(shí)施方式的變形例]
在第十實(shí)施方式中,例示了將正交偏振透射法與非正交偏振透射法組 合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將正交 偏振透射法與兩個(gè)以上不同的非正交偏振透射法組合。以下,作為第十實(shí) 施方式的變形例,例示將正交偏振透射法與兩個(gè)不同的非正交偏振透射法 組合的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖42所示的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20C與第七實(shí)施方式的不 同之處在于,在圖26所示的缺陷檢查用拍攝裝置20C中,還具備一對第 二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252、254。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第二拍攝區(qū)域R2鄰接。
第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252以與第一亮度調(diào)節(jié) 用偏振濾波器251鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間,另 一方面,第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器254以與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器 253鄰接的方式配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。一對第二 亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252、254配置為形成第二非正交 偏振狀態(tài)。在此,一對第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252、 254形成的第二非正交偏振狀態(tài)與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非 正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀 態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度不同,由此,第二亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器252、254能夠降低透過第三拍攝區(qū)域R3被區(qū)域傳感器22觀測到 的光的亮度值。
接下來,對第十實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍 攝方法進(jìn)行說明。
首先,進(jìn)行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來,如上述那樣將 第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251配置在光源21與第一偏振濾波器231之 間、以及光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間,并且將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器253配置在膜110的第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí), 第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251、253配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)。 接下來,將第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器252配置在光源21與第三拍攝區(qū) 域R3之間,并且將第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器254配置在膜110的第三 拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器 252、254配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)。由此,能夠降低透過第二拍攝 區(qū)域R2以及第三拍攝區(qū)域R3被區(qū)域傳感器22觀測到的光的亮度值(亮 度調(diào)節(jié)工序)。也可以將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251僅配置在光源21 與第二拍攝區(qū)域R2之間。
另外,也可以代替第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253,使第一偏振濾波 器241擴(kuò)展至第二拍攝區(qū)域R2,在該情況下,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器251配置為與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態(tài)即可。或 者,也可以代替第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器254,使第一亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器253擴(kuò)展至第三拍攝區(qū)域R3,在該情況下,將第二亮度調(diào)節(jié)用偏 振濾波器252配置為相對于第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253形成第二非正 交偏振狀態(tài)即可。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查 用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第十 實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系 統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十一實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第十一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查 方法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢 查的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。在第十一實(shí)施方式及其變形例的說 明中,膜110是不具有偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第十一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10D與第十實(shí) 施方式的不同之處在于,在圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10C中,代替缺陷 檢查用拍攝裝置20C而具備缺陷檢查用拍攝裝置20D。另外,圖27所示 的缺陷檢查用拍攝裝置20D與第十實(shí)施方式的不同之處在于,在圖26所 示的缺陷檢查用拍攝裝置20C中,代替第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251而具備衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26。另外,缺陷檢查 用拍攝裝置20D與第十實(shí)施方式的不同之處在于,在缺陷檢查用拍攝裝置 20C中,一對第一偏振濾波器231、241的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉 角度不同。
第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀 態(tài)。例如,第一偏振濾波器231的偏振軸與第一偏振濾波器241的偏振軸 的交叉角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。
衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,衰減 濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。
接下來,對本實(shí)用新型的第十一實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及 缺陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū) 域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū) 域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工序)。接下來, 將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區(qū)域R2之間。由此,能夠降 低照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。也可以將衰減 濾波器26配置在膜110的第二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間,降低 透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十一實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20D、缺陷檢查用拍攝 方法、缺陷檢查系統(tǒng)10D、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第十實(shí)施方 式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、 以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十一實(shí)施方式的第一變形例]
在第十一實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的 缺陷檢查用拍攝裝置20D以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上 的不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下,作為第十一實(shí)施方式 的第一變形例,例示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20D以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖43所示的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20D與第十一實(shí)施方 式的不同之處在于,在圖27所示的缺陷檢查用拍攝裝置20D中還具備一 對第二偏振濾波器232、242。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第一拍攝區(qū)域R1鄰接。
第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源 21與第三拍攝區(qū)域R3之間,第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。一對第二偏振 濾波器232、242形成第二非正交偏振狀態(tài)。在此,第二非正交偏振狀態(tài) 與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的 偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸的交 叉角度不同。
接下來,對第十一實(shí)施方式的第一變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢 查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110 的第一拍攝區(qū)域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍 攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一 偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工 序)。接下來,將第二偏振濾波器232配置在光源21與膜110的第三拍攝 區(qū)域R3之間,將第二偏振濾波器242配置在膜110的第三拍攝區(qū)域R3 與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將第二偏振濾波器232以及第二偏振濾波 器242配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)(第二偏振濾波器配置工序)。接 下來,進(jìn)行上述的亮度調(diào)節(jié)工序、搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺 陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十一實(shí)施方式的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20D、缺 陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10D、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得 與第十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷 檢查系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十一實(shí)施方式的第二變形例]
在第十一實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的 缺陷檢查用拍攝裝置20D以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上 不同的非正交偏振透射法組合。以下,作為第十一實(shí)施方式的第二變形例, 例示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20D以 及缺陷檢查用拍攝方法。
第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20D與第十一實(shí)施方式的不同之 處在于,在圖27所示的缺陷檢查用拍攝裝置20D中,代替衰減濾波器(亮 度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26而具備一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 251、253。
第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251配置在光源21與第 二拍攝區(qū)域R2之間,第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253配置在膜110的第 二拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器251、253配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)。在此,第二非正交偏振 狀態(tài)與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波 器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸 的交叉角度。由此,一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251、253能夠降低 透過第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。
接下來,對第十一實(shí)施方式的第二變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢 查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110 的第一拍攝區(qū)域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍 攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一 偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工 序)。接下來,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251配置在光源21與第二拍 攝區(qū)域R2之間,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253配置在膜110的第二 拍攝區(qū)域R2與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器251、253配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)。由此,能夠降低透過第 二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值(亮度調(diào)節(jié)工序)。接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn) 工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十一實(shí)施方式的第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20D、缺 陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10D、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得 與第十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷 檢查系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十二實(shí)施方式]
本實(shí)用新型的第十二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查 方法是進(jìn)行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢 查的缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法。在第十二實(shí)施方式及其變形例的說 明中,膜110是不具有偏振特性的膜。
本實(shí)用新型的第十二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查系統(tǒng)10E與第十實(shí) 施方式的不同之處在于,在圖22所示的缺陷檢查系統(tǒng)10C中,代替缺陷 檢查用拍攝裝置20C而具備缺陷檢查用拍攝裝置20E。另外,圖28所示 的缺陷檢查用拍攝裝置20E與第十實(shí)施方式的不同之處在于,在圖26所 示的缺陷檢查用拍攝裝置20C中,代替光源21以及第一亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251而具備光源21A。另外,缺陷檢查用拍攝裝 置20E與第十實(shí)施方式的不同之處在于,在缺陷檢查用拍攝裝置20C中, 一對第一偏振濾波器231、241的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。
第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀 態(tài)。例如,第一偏振濾波器231的偏振軸與第一偏振濾波器241的偏振軸 的交叉角度為75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。
光源21A具有單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第 二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值的亮度調(diào)節(jié)功能。由此,能夠使照射至 第一拍攝區(qū)域R1的光的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮 度值較小。
接下來,對本實(shí)用新型的第十二實(shí)施方式所涉及的缺陷檢查方法以及 缺陷檢查用拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區(qū) 域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū) 域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工序)。接下來, 利用光源21A單獨(dú)調(diào)節(jié)向第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值和向第二拍 攝區(qū)域R2照射的光的亮度值。由此,能夠使照射至第一拍攝區(qū)域R1的光 的亮度值較大,使照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值較小(亮度調(diào)節(jié) 工序)。
接下來,進(jìn)行上述的搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工 序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十二實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20E、缺陷檢查用拍攝 方法、缺陷檢查系統(tǒng)10E、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第十實(shí)施方 式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10C、 以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
[第十二實(shí)施方式的變形例]
在第十二實(shí)施方式中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的 缺陷檢查用拍攝裝置20E以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以將兩個(gè)以上 不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下,作為第十二實(shí)施方式的 變形例,例示將兩個(gè)不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查 用拍攝裝置20E以及缺陷檢查用拍攝方法。
圖44所示的缺陷檢查用拍攝裝置20E與第十實(shí)施方式的不同之處在 于,在圖28所示的缺陷檢查用拍攝裝置20E中還具備一對第二偏振濾波 器232、242。
在此,拍攝區(qū)域R還包括在搬運(yùn)方向Y上被分割出的第三拍攝區(qū)域 R3,該第三拍攝區(qū)域R3與第一拍攝區(qū)域R1鄰接。
第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源 21與第三拍攝區(qū)域R3之間,第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間。一對第二偏振 濾波器232、242形成第二非正交偏振狀態(tài)。在此,第二非正交偏振狀態(tài) 與第一非正交偏振狀態(tài)不同。即,第二非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的 偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態(tài)下的偏振濾波器的偏振軸的交 叉角度。
接下來,對第十二實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用 拍攝方法進(jìn)行說明。
首先,如上述那樣,將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110 的第一拍攝區(qū)域R1之間,將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍 攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將第一偏振濾波器231以及第一 偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(tài)(第一偏振濾波器配置工 序)。接下來,將第二偏振濾波器232配置在光源21與膜110的第三拍攝 區(qū)域R3之間,將第二偏振濾波器242配置在膜110的第三拍攝區(qū)域R3 與區(qū)域傳感器22之間。此時(shí),將第二偏振濾波器232以及第二偏振濾波 器242配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)(第二偏振濾波器配置工序)。接 下來,進(jìn)行上述的亮度調(diào)節(jié)工序、搬運(yùn)工序、光照射工序、拍攝工序、缺 陷檢測工序、標(biāo)記工序。
根據(jù)該第十二實(shí)施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20E、缺陷檢 查用拍攝方法、缺陷檢查系統(tǒng)10E、以及缺陷檢查方法,也能夠獲得與第 十實(shí)施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20C、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查 系統(tǒng)10C、以及缺陷檢查方法同樣的優(yōu)點(diǎn)。
需要說明的是,本實(shí)用新型不限于上述的本實(shí)施方式,可以進(jìn)行各種 變形。例如,在第七、第八以及第九實(shí)施方式中,例示了利用透射法的缺 陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B以及缺陷檢查用拍攝方法,但本實(shí)用新 型的特征也能夠應(yīng)用于如圖29、圖30以及圖31所示那樣利用反射法的缺 陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B以及缺陷檢查用拍攝方法。
另外,在圖29中,例示了將正交偏振反射法與非正交偏振反射法組 合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖39 同樣地將正交偏振反射法與兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法組合。另 外,在圖30中,例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查 用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖40同樣地,將 兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合,也可以將兩個(gè)以上不 同的非正交偏振反射法組合。另外,在圖31中,例示了將非正交偏振反 射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20B以及缺陷檢查用拍攝方 法,但也可以與圖41同樣地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法與正 反射法組合。
根據(jù)圖29、圖30以及圖31所示的缺陷檢查用拍攝裝置20、20A、20B 以及缺陷檢查用拍攝方法,例如,由于第一偏振濾波器231以與膜110形 成正交偏振狀態(tài)的方式配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝區(qū)域R1 之間,區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū) 域R2以及中間拍攝區(qū)域R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同 時(shí)拍攝第一拍攝區(qū)域R1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2 的正反射(或者非正交偏振發(fā)射)檢查用圖像、以及中間拍攝區(qū)域R0的 反射散射檢查用圖像。即,能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、非正 交偏振反射檢查用拍攝系列(參照圖29)或者正反射檢查用拍攝系列(參 照圖30、31)、以及反射散射檢查用拍攝系列。其結(jié)果是,在缺陷檢查系 統(tǒng)10、10A、10B以及缺陷檢查方法中,能夠整合正交偏振反射檢查系列、 非正交偏振反射檢查系列或者正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列, 從而能夠削減檢查系列數(shù)。
然而,在正交偏振反射檢查用拍攝系列與例如正反射檢查用拍攝系列 中,適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎挡煌?。更具體地說,正交偏振反射檢查用拍攝系列 的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼戎递^大,例如正反射檢查用拍攝系列的適當(dāng)?shù)墓獾牧炼?值較小。
關(guān)于這一點(diǎn),根據(jù)圖29、圖30以及圖31所示的缺陷檢查用拍攝裝置 20、20A、20B以及缺陷檢查用拍攝方法,能夠利用偏振濾波器(亮度調(diào) 節(jié)機(jī)構(gòu))251、衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 21A,調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。因此,例如通過從光 源(光照射機(jī)構(gòu))21以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A輸出較大的亮度值的 光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振反射檢查用拍攝系列的第一拍攝區(qū)域 R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié) 機(jī)構(gòu))251、衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) 21A,使朝向用于進(jìn)行非正交偏振反射檢查用拍攝系列(參照圖29)或者 正反射檢查用拍攝系列(參照圖30、31)的第二拍攝區(qū)域R2照射的光的 亮度值較小。
同樣地,在第十、第十一以及第十二實(shí)施方式中,例示了利用透射法 的缺陷檢查用拍攝裝置20C、20D、20E以及缺陷檢查用拍攝方法,但本 實(shí)用新型的特征也能夠應(yīng)用于如圖32、圖33以及圖34所示那樣利用反射 法的缺陷檢查用拍攝裝置20C、20D、20E以及缺陷檢查用拍攝方法。
另外,在圖32中,例示了將正交偏振反射法與非正交偏振反射法組 合的缺陷檢查用拍攝裝置20C以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖 42同樣地將正交偏振反射法與兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法組合。在 該情況下,相對于圖42例示的第三拍攝區(qū)域R3,將第二亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252以與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器251鄰接的 方式配置配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間,另一方面,將與第二亮 度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))252成對的第二亮度調(diào)節(jié)用偏振濾 波器254以與第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253鄰接的方式,配置在第三拍 攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間即可。
另外,在圖33中,例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20D以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖43同樣 地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合,也可以將兩個(gè) 以上不同的非幣交偏振反射法組合。在該情況下,相對于圖43例示的第 三拍攝區(qū)域R3,可以如第十一實(shí)施方式的第一變形例中說明那樣,將第 二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與 第三拍攝區(qū)域R3之間,將與第二偏振濾波器232成對的第二偏振濾波器 242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域 傳感器22之間,也可以如第十一實(shí)施方式的第二變形例中說明那樣,代 替衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26而將一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮 度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、253配置為形成第二非正交偏振狀態(tài)。在采用一對第一 亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、253的情況下,將第一亮度 調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251配置在光源21與第二拍攝區(qū)域 R2之間,將第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區(qū)域 R2與區(qū)域傳感器22之間即可。
另外,在圖34中,例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20E以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖44同樣 地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合。在該情況下, 相對于圖44例示的第三拍攝區(qū)域R3,將第二偏振濾波器232以與第一偏 振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區(qū)域R3之間,將與第 二偏振濾波器232成對的第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰 接的方式配置在第三拍攝區(qū)域R3與區(qū)域傳感器22之間即可。
根據(jù)圖32、圖33以及圖34所示的缺陷檢查用拍攝裝置20C、20D、 20E以及缺陷檢查用拍攝方法,例如,由于一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態(tài)的方式分別配置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與第一拍攝 區(qū)域R1之間、以及第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間, 區(qū)域傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22將包括第一拍攝區(qū)域R1、第二拍攝區(qū)域R2 以及中間拍攝區(qū)域R0的拍攝區(qū)域R拍攝為二維圖像,因此能夠同時(shí)拍攝 第一拍攝區(qū)域R1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區(qū)域R2的正反射 (或者非正交偏振發(fā)射)檢查用圖像、中間拍攝區(qū)域R0的反射散射檢查 用圖像。即,能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、非正交偏振反射用 拍攝系列(參照圖32)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖33、34)、以 及反射散射檢查用拍攝系列。其結(jié)果是,在缺陷檢查系統(tǒng)10C、10D、10E 以及缺陷檢查方法中,能夠整合正交偏振反射檢查系列、非正交偏振反射 檢查系列或者正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列,從而能夠削減檢 查系列數(shù)。
另外,根據(jù)圖32、圖33以及圖34所示的缺陷檢查用拍攝裝置20C、 20D、20E以及缺陷檢查用拍攝方法,能夠利用一對第一亮度調(diào)節(jié)用偏振 濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、253、衰減濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及 光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A,調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域R2的光的亮度值。 因此,例如通過從光源(光照射機(jī)構(gòu))21以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A 輸出較大的亮度值的光,能夠使朝向用于進(jìn)行正交偏振反射檢查用拍攝系 列的第一拍攝區(qū)域R1照射的光的亮度值較大,另一方面,能夠利用一對 第一亮度調(diào)節(jié)用偏振濾波器(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))251、253、衰減濾波器(亮 度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))26以及光源(亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))21A,使朝向用于進(jìn)行非正交 偏振反射用拍攝系列(參照圖32)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖 33、34)的第二拍攝區(qū)域R2照射的光的亮度值較小。
另外,在第八以及第九實(shí)施方式、以及圖30以及圖31所示的方式中, 例示了第一偏振濾波器231設(shè)置在光源(光照射機(jī)構(gòu))21與膜110的第一 拍攝區(qū)域R1之間的方式,但也可以采用如圖35、圖36、圖37以及圖38 所示那樣,第一偏振濾波器231配置在膜110的第一拍攝區(qū)域R1與區(qū)域 傳感器(拍攝機(jī)構(gòu))22之間的方式。
在圖35中,例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查 用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖40同樣地,將 兩個(gè)以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合,也可以將兩個(gè)以上不 同的非正交偏振透射法組合。另外,在圖36中,例示了將非正交偏振透 射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20B以及缺陷檢查用拍攝方 法,也可以與圖41同樣地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振透射法與正透 射法組合。
另外,在圖37中,例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺 陷檢查用拍攝裝置20A以及缺陷檢查用拍攝方法,但也可以與圖40同樣 地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合,也可以將兩個(gè) 以上的不同的非正交偏振反射法組合。另外,在圖38中,例示了將非正 交偏振反射法與于反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20B以及缺陷檢查 用拍攝方法,但也可以與圖41同樣地,將兩個(gè)以上不同的非正交偏振反 射法與正反射法組合。
在之前的說明中,在相對于光照射機(jī)構(gòu)另外配置亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的情況 下,將該亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置為,調(diào)節(jié)照射至第二拍攝區(qū)域R2的光、或者 透過第二拍攝區(qū)域或被第二拍攝區(qū)域R2反射的光的亮度。然而,在相對 于光照射機(jī)構(gòu)另外配置亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的方式中,亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)配置為,調(diào) 節(jié)照射至第一以及第二拍攝區(qū)域R1、R2中的至少一方的光、或者透過第 一以及第二拍攝區(qū)域R1、R2中的至少一方或被第一以及第二拍攝區(qū)域 R1、R2中的至少一方反射的光的亮度即可。此外,在將亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè) 置于光照射機(jī)構(gòu)的方式中,也可以相對于配置于光照射機(jī)構(gòu)的亮度調(diào)節(jié)機(jī) 構(gòu)另外進(jìn)一步設(shè)置亮度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。