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一種真空吸附平臺的制作方法

文檔序號:12445826閱讀:861來源:國知局
一種真空吸附平臺的制作方法與工藝

本實用新型涉及一直真空吸附平臺,其主要運用在印刷電路板自動光學檢測設備上面,用于吸附被檢測的PCB板。



背景技術:

現(xiàn)有真空吸附平臺大都采用一體式直接吸附或吸附腔體加吸附主體的方式進行工作,其存在以下缺點:

1)針對一體式直接吸附裝置,雖然一體式直接吸附裝置只需要一塊吸附板就可以實現(xiàn)吸附PCB板的目的,但是在該吸附板的加強筋設置處以及需要安裝的位置均存在吸附盲區(qū),并且當該吸附板的表面劃傷或出現(xiàn)變形時,需要更換該吸附板整體,因而更換成本較高。

2)針對吸附腔體加吸附主體的裝置,雖然吸附腔體加吸附主體可以分開安裝,但是在吸附腔體內(nèi)同樣存在加強筋或者安裝空位,同樣會影響局部的吸附力,在板的邊緣尤其是在較硬的板的邊緣貼合在該位置時,吸附效果較差。例如,專利號為CN201811750U的自動吸附真空平臺存在上述的缺點。



技術實現(xiàn)要素:

為了解決上述技術問題,本實用新型的目的在于一種對象適用廣泛且吸附均勻的真空吸附平臺,克服了現(xiàn)有技術的不足。

為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型的技術方案如下:

一種真空吸附平臺,包括吸附腔體、轉接板和吸附面板,

所述轉接板設置于所述吸附腔體的內(nèi)部,所述轉接板上均布有復數(shù)個與所述吸附腔體導通的吸附孔一,

所述吸附面板設置于所述轉接板上,且所述吸附面板用于吸附PCB板,其上均布有復數(shù)個與所述吸附腔體導通的吸附孔二。

優(yōu)選的,所述吸附孔二的尺寸小于所述吸附孔一,且所述吸附孔二分布的密度大于所述吸附孔一。

優(yōu)選的,所述吸附腔體的內(nèi)部設置有加強筋。

優(yōu)選的,所述吸附腔體的側面連接有吸氣口,所述吸氣口用于與所述吸氣裝置連接。

優(yōu)選的,所述吸附面板的尺寸與所述PCB板的尺寸相一致。

與現(xiàn)有技術相比,本實用新型的優(yōu)點至少在于:

1)當氣體通過吸附腔體時,會因加強筋等而出現(xiàn)真空吸附盲區(qū),通過增加中間轉接板,不僅可以彌補盲區(qū)的缺陷,還可以將經(jīng)過吸附腔體的吸附力不均勻的氣體導通為均勻吸附力氣體,因而提高了吸附平臺的吸附力。

2)吸附腔體的底部與滑塊連接,且內(nèi)部設置有加強筋,這樣不僅可以減少一塊滑塊連接板,而且通過腔體內(nèi)部設計的加強筋減輕真空吸附平臺的重量,從而可以為工作臺面提供更高加速度,提高工作效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型結構特征和技術要點,下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型進行詳細說明。

圖1為本實用新型實施例所公開的真空吸附平臺的分解示意圖;

圖2為本實用新型實施例所公開的真空吸附平臺的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本實施例中的附圖,對實施例中的技術方案進行具體、清楚、完整地描述。

參見圖1-2所示,本實施例提供了一種真空吸附平臺,包括吸附腔體1、轉接板2和吸附面板3,轉接板2設置于吸附腔體1的內(nèi)部,轉接板2上均布有復數(shù)個與吸附腔體1導通的吸附孔一,吸附面板3設置于轉接板2上,且吸附面板3用于吸附PCB板,其上均布有復數(shù)個與吸附腔體1導通的吸附孔二。

其中,吸附面板3可以設計較薄的薄板,利用激光切割該板成本較低,當工作臺面在客戶端使用較長時間在表面出現(xiàn)磨損后,可方便更換該板;且在客戶處批量檢測同一款PCB時,可定制與該PCB大小一致的吸附面板3,可以節(jié)省放板時間。

優(yōu)選的,吸附孔二的尺寸小于吸附孔一,且吸附孔二分布的密度大于吸附孔一。優(yōu)選的,吸附腔體1的內(nèi)部設置有加強筋,且吸附腔體1的底部與滑塊連接,通過該設計,不僅可以減少一塊滑塊連接板,而且通過腔體內(nèi)部設計的加強筋減輕真空吸附平臺的重量,從而可以為工作臺面提供更高加速度,提高工作效率。

優(yōu)選的,吸附腔體1的側面連接有吸氣口4,吸氣口4用于與吸氣裝置連接。

綜上,當氣體通過吸附腔體1時,會因加強筋等而出現(xiàn)真空吸附盲區(qū),通過增加中間轉接板2,不僅可以彌補盲區(qū)的缺陷,還可以將經(jīng)過吸附腔體1的吸附力不均勻的氣體導通為均勻吸附力氣體,因而提高了吸附平臺的吸附力。再在轉接板2上面安裝具有密度高且均勻分布的孔位的吸附面板3(薄板),PCB板放在該薄板上,可實現(xiàn)均勻吸附,吸附效果更佳。

上述具體實施方式,僅為說明本實用新型的技術構思和結構特征,目的在于讓熟悉此項技術的相關人士能夠據(jù)以實施,但以上所述內(nèi)容并不限制本實用新型的保護范圍,凡是依據(jù)本實用新型的精神實質所作的任何等效變化或修飾,均應落入本實用新型的保護范圍之內(nèi)。

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