技術(shù)總結(jié)
發(fā)明公開(kāi)了一種泰曼型點(diǎn)源陣列異位同步移相干涉儀及其測(cè)量方法，屬于光學(xué)干涉測(cè)量?jī)x器領(lǐng)域。該干涉儀包括點(diǎn)光源及其分光組件、泰曼型主干涉儀和分光成像組件。方法為：點(diǎn)光源發(fā)出的球面波經(jīng)分光組件分成四束后進(jìn)入主干涉儀，采用分光組件將一個(gè)點(diǎn)光源復(fù)制成相同的四個(gè)，通過(guò)調(diào)整四個(gè)點(diǎn)光源在主干涉儀準(zhǔn)直物鏡焦面上與光軸的距離，在參考面與測(cè)試面的干涉中引入不同的相移量，然后通過(guò)分光成像組件在一個(gè)CCD上同時(shí)獲取四幅成像清晰的相移干涉圖。本發(fā)明具有成本低、抗震性好、對(duì)比度好、易于操作等特點(diǎn)，可以用于光學(xué)元件的實(shí)時(shí)高精度檢測(cè)等領(lǐng)域。

技術(shù)研發(fā)人員：陳磊;丁煜;朱文華;韓志剛;鄭東暉;張瑞;張沁園;烏蘭雅圖
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京理工大學(xué)
文檔號(hào)碼：201611187788
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.20
技術(shù)公布日：2017.05.10