多光束共光路干涉儀的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種呈四邊形光路分布的干涉儀，尤其涉及一種多光束共光路干涉儀，屬于干涉儀領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]干涉現(xiàn)象是光的波動(dòng)性的最嚴(yán)格、最有效的證明，這個(gè)現(xiàn)象是由于兩束或多束光的重疊，使能量體密度在空間上規(guī)則分布的結(jié)果。光干涉測量方法作為檢測高精密光學(xué)元件和系統(tǒng)的最傳統(tǒng)、有效手段之一，已大量的應(yīng)用于科學(xué)研究與工業(yè)生產(chǎn)之中。在實(shí)際使用過程中，現(xiàn)階段干涉儀大多采用激光器作為照明光源，而激光器具有極強(qiáng)的時(shí)間和空間相干性，因此，在干涉檢測過程中，并不需要考慮干涉腔長的限制，就可以使干涉條紋具有良好的對(duì)比度，并且隨著電子與計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，產(chǎn)生的位相干涉檢測技術(shù)，使測量極限由傳統(tǒng)的λ/10提高了一個(gè)數(shù)量級(jí)以上，且具有很高的重復(fù)性。然而，正是由于激光具有的高度相干性，它雖然降低了干涉儀的使用難度，但由于光學(xué)干涉的極端靈敏性，在光學(xué)元件加工過程中產(chǎn)生的微觀坑點(diǎn)等缺陷與元件表面污染所產(chǎn)生的散射光會(huì)發(fā)生相干疊加，在干涉圖中會(huì)出現(xiàn)許多牛眼環(huán)或靶心等相干噪聲，它們在一定程度上改變了干涉圖的空間結(jié)構(gòu)，從而引起了被測面面型或波前形狀的測量誤差。
[0003]不管是Michelson干涉儀還是Mach-Zehnder干涉儀，都是雙光束雙通路干涉儀，干涉條紋的強(qiáng)度呈余弦調(diào)制分布，所以干涉條紋并不銳利，這在實(shí)際應(yīng)用中有時(shí)不能滿足測量要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，解決好現(xiàn)有技術(shù)的問題，彌補(bǔ)現(xiàn)有目前市場上現(xiàn)有產(chǎn)品的不足。
[0005]本實(shí)用新型提供了一種多光束共光路干涉儀，多光束共光路干涉儀由光源、第一平板和第二平板構(gòu)成，所述第一平板和第二平板平行放置，相對(duì)的內(nèi)表面鍍有反射膜，光源發(fā)出的光線從第一平板或第二平板的一側(cè)斜向進(jìn)入。
[0006]優(yōu)選的，上述光源為擴(kuò)展光源。
[0007]優(yōu)選的，上述反射膜為高反射膜，反射系數(shù)為90%以上。
[0008]優(yōu)選的，上述反射膜的平面度達(dá)1/20?1/50波長。
[0009]優(yōu)選的，上述第一平板和第二平板的反射膜相對(duì)而設(shè)。
[0010]本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀具有的獨(dú)特共光路多次反射原理，可以廣泛地應(yīng)用于光譜精細(xì)結(jié)構(gòu)和超精細(xì)結(jié)構(gòu)的研究之中。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]附圖標(biāo)記:1_光源；2_第一平板；3_第二平板；4_反射膜。
【具體實(shí)施方式】
[0013]為了便于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解和實(shí)施本實(shí)用新型，下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0014]如圖1所示，本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀，多光束共光路干涉儀由光源1、第一平板2和第二平板3構(gòu)成，第一平板2和第二平板3平行放置，相對(duì)的內(nèi)表面鍍有反射膜4，光源1發(fā)出的光線從第一平板2或第二平板3的一側(cè)斜向進(jìn)入。
[0015]其中，光源1為擴(kuò)展光源。反射膜4為高反射膜，反射系數(shù)為90%以上，平面度達(dá)1/20?1/50波長。第一平板2和第二平板3的反射膜4相對(duì)而設(shè)。
[0016]本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀，利用多光束干涉的原理，構(gòu)成干涉光束沿同一光路(或稱共光路)的干涉儀，能使干涉條紋變細(xì)。本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀是由平行放置的兩塊平板組成的，在兩塊平板相對(duì)的內(nèi)表面鍍高反射膜(反射系數(shù)一般為90%以上)，并要求平面度達(dá)1/20?1/50波長。由于兩鍍膜平板平行且所用光源為擴(kuò)展光源，所以產(chǎn)生等傾干涉，與Michelson干涉圖相似為同心圓環(huán)，但與Michelson干涉顯著不同的是，它們是振幅和強(qiáng)度近似相等的多光束干涉，仍可以看作是由多次分振幅的方法獲得相干的多光束。本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀具有的獨(dú)特共光路多次反射原理，可以廣泛地應(yīng)用于光譜精細(xì)結(jié)構(gòu)和超精細(xì)結(jié)構(gòu)的研究之中。
[0017]以上所述之【具體實(shí)施方式】為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，并非以此限定本實(shí)用新型的具體實(shí)施范圍，本實(shí)用新型的范圍包括并不限于本【具體實(shí)施方式】，凡依照本實(shí)用新型之形狀、結(jié)構(gòu)所作的等效變化均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種多光束共光路干涉儀，其特征在于:所述多光束共光路干涉儀由光源(I)、第一平板(2)和第二平板(3)構(gòu)成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相對(duì)的內(nèi)表面鍍有反射膜(4)，光源(I)發(fā)出的光線從第一平板(2)或第二平板(3)的一側(cè)斜向進(jìn)入。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光束共光路干涉儀，其特征在于:所述光源(I)為擴(kuò)展光源。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光束共光路干涉儀，其特征在于:所述反射膜(4)為高反射膜，反射系數(shù)為90%以上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多光束共光路干涉儀，其特征在于:所述反射膜(4)的平面度達(dá)1/20?1/50波長。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光束共光路干涉儀，其特征在于:所述第一平板(2)和第二平板(3)的反射膜(4)相對(duì)而設(shè)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種多光束共光路干涉儀，多光束共光路干涉儀由光源(1)、第一平板(2)和第二平板(3)構(gòu)成，所述第一平板(2)和第二平板(3)平行放置，相對(duì)的內(nèi)表面鍍有反射膜(4)，光源(1)發(fā)出的光線從第一平板(2)或第二平板(3)的一側(cè)斜向進(jìn)入。反射膜(4)為高反射膜，反射系數(shù)為90％以上，平面度達(dá)1/20～1/50波長。本實(shí)用新型提供的多光束共光路干涉儀具有的獨(dú)特共光路多次反射原理，可以廣泛地應(yīng)用于光譜精細(xì)結(jié)構(gòu)和超精細(xì)結(jié)構(gòu)的研究之中。
【IPC分類】G01B9/02
【公開號(hào)】CN204988172
【申請?zhí)枴緾N201520271481
【發(fā)明人】林燕彬
【申請人】林燕彬
【公開日】2016年1月20日
【申請日】2015年4月27日