技術特征：

1.一種用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，主要包括以下步驟：

(a)測量確定待測多層薄膜的膜厚；

(b)對待測多層薄膜進行濺射深度剖析，獲得樣品信號強度-濺射時間關系的實驗數(shù)據(jù)；

(c)再利用步驟(b)所得實驗數(shù)據(jù)中信號強度得出元素i的總信號強度；

(d)通過深度公式求出濺射深度-時間關系；

(e)通過對深度公式求微分求出濺射速率-時間關系；

(f)通過濃度公式求出濃度-時間關系；

(g)由步驟(d)得到的濺射深度-時間關系和步驟(f)得到的濃度-時間關系最終獲得濃度-濺射深度關系，即元素i的成分深度分布。

2.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(a)所述確定待測層薄膜結(jié)構(gòu)的膜厚采用的是高分辨透射電子顯微鏡。

3.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(b)所述待測多層薄膜進行濺射深度剖析采用的是輝光放電時間飛行質(zhì)譜儀。

4.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(c)所述元素i為薄膜中各元素。

5.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(c)元素i的總信號強度的計算方法為對實驗數(shù)據(jù)中的各時間段的信號強度累加。

6.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(d)所述深度公式為：

$D_i\left(t\right)=\frac{D_i\×{\∫}_0^t{I}_{i}dt}{{\∫}_0^{\mathrm{\∞}}{I}_{i}dt}$

D_i為材料中元素i總厚度，I_i為信號強度，D_i(t)為i元素的t時刻的濺射深度。

7.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(e)所述濺射速率公式為：

$V_i\left(t\right)=\frac{D_i\×I_i\left(t\right)}{{\∫}_0^{\mathrm{\∞}}{I}_{i}dt}$

D_i為材料中該元素總厚度，I_i為信號強度，V_i為i元素的t時刻的濺射速率。

8.根據(jù)權利要求1所述用濺射深度剖析技術確定薄膜中元素成分深度分布的方法，其特征在于，步驟(f)所述濃度公式為：

${C_i}^{\′}\left(t\right)=\frac{{\mathrm{dD}}_i\left(t\right)}{\Σ{\mathrm{dD}}_i\left(t\right)}=\frac{V_i\left(t\right)\×dt}{\ΣV_i\left(t\right)\×dt}=\frac{\frac{D_i\×I_i\left(t\right)\×{\mathrm{\ρ}}_i}{{\∫}_0^{\mathrm{\∞}}{I}_i\left(t\right)dt\×M_i}}{\Σ\frac{D_i\×I_i\left(t\right)\×{\mathrm{\ρ}}_i}{{\∫}_0^{\mathrm{\∞}}{I}_i\left(t\right)dt\×M_i}}$

其中ρ為元素i的密度，D_i為材料中元素i總厚度，M_i為元素i的相對原子質(zhì)量，I_i為信號強度，C_i為元素i的摩爾濃度。