技術(shù)編號:12452445
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于表面分析技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用濺射深度剖析技術(shù)確定薄膜中元素成分深度分布的方法。背景技術(shù)濺射深度剖析已成為表面分析一種常規(guī)的檢測技術(shù),被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體摻雜、涂層、特殊鋼鐵制造等工業(yè)領(lǐng)域的產(chǎn)品研發(fā)及質(zhì)量控制,以及物理、化學(xué)、生物、先進(jìn)材料等學(xué)術(shù)領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究。而對于該技術(shù),一個重要的環(huán)節(jié)就是將測量得到的信號強(qiáng)度-時間譜轉(zhuǎn)換成元素成分的濃度-深度譜,這也是濺射深度剖析技術(shù)最主要的目的,即直觀的反映出薄膜材料中的各元素成分的深度分布。在已知薄膜厚度的條件下,將測量的濺射時間轉(zhuǎn)換成相應(yīng)的濺...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。