1.一種用于測試材料輻射致氣體滲透的裝置,該裝置包括:真空腔室系統(tǒng)、輻射系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)和檢測系統(tǒng)。
2.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述真空腔室系統(tǒng)包括左腔室(1)和右腔室(2),所述左腔室(1)和右腔室(2)是大小相同的圓柱體,通過刀口法蘭連接成一體,所述刀口法蘭間放置有待測材料,支撐網(wǎng)格焊接在右腔室(2)上,用于支撐待測材料;左腔室(1)與右腔室(2)合為一體時,其極限真空為1×10-7Pa。
3.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述輻射系統(tǒng)包括光源(5)及照明系統(tǒng),用于產(chǎn)生輻射到待測材料(3)表面上的均勻光束。
4.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述抽氣系統(tǒng)包括三個抽氣通道,第一抽氣通道的主抽泵為300L/s的磁懸浮分子泵(8),用于左腔室抽真空;第二抽氣通道采用由兩級分子泵串聯(lián)組成的磁懸浮分子泵組(9)對右腔室抽真空,抽速分別為600L/s和300L/s;第一抽氣通道和第二抽氣通道共用第一干式機械泵(7)作為前級泵;第三抽氣通道采用第二干式機械泵對金屬密封圈(24)和橡膠密封圈(23)之間的空隙抽真空。
5.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述供氣系統(tǒng)包括順次連接的氣瓶(16)、減壓閥(17)、截止閥(18)和流量控制器(19),用于向真空腔室直接充入氣體或流量可調(diào)且已知的氣體,其中流量控制器(19)經(jīng)過精確校準。
6.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述檢測系統(tǒng)包括第一真空計(20)、第二真空計(21)和質(zhì)譜計(22),其中第一真空計(20)、第二真空計(21)分別用于測試左腔室和右腔室的壓力,第二真空計(21)經(jīng)過精確校準,質(zhì)譜計(22)用于測量右腔室的氣體組分和分壓。
7.一種采用如權利要求1-6中任一項所述裝置的材料輻射致氣體滲透的測試方法,其用于測試材料的氣體滲透率,包括如下步驟:
步驟S1:放入待測材料樣品(3),將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,分別將左腔室(1)和右腔室(2)抽至極限真空;步驟S2:采用第二真空計(21)測量右腔室(2)的氣體壓力;步驟S3:調(diào)節(jié)供氣系統(tǒng)的流量控制器(19)向左腔室(1)充入高純氣體i,使達到一定壓力下的動態(tài)平衡;步驟S4:采用質(zhì)譜計(22)記錄右腔室(2)中氣體i的分壓增量ΔPi;該材料對氣體i在該壓力下的滲透率Ki(g·m-2·day-1)為:
其中,Sei為有效抽速,單位m3/s;Mi為氣體i的摩爾質(zhì)量,單位g/mol;A為樣品的面積,單位m2;R為氣體常數(shù),單位Pa·m3·K-1·mol-1;T為溫度,單位K;
其中,有效抽速Sei通過以下方式獲得:
步驟SS1:未放入待測材料,將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,將系統(tǒng)抽至極限真空;步驟SS2:關閉第一抽氣通道,調(diào)節(jié)流量控制器(19)向真空腔室系統(tǒng)中通入已知流量Qi的99.99%高純氣體i;步驟SS3:達到動態(tài)平衡后,采用質(zhì)譜計(22)測量右腔室(2)的壓力Pi。則第二抽氣通道對該氣體i的有效抽速為Sei=Qi/Pi。
其中,為精確測試真空腔室中氣體i的分壓Pi,需對質(zhì)譜計(22)進行校準:
步驟SSS1:未放入待測材料,將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,將系統(tǒng)抽至極限真空;步驟SSS2:關閉第一抽氣通道,向真空腔室系統(tǒng)中通入99.99%高純氣體i,形成動態(tài)平衡;步驟SSS3:待腔室中95%以上為氣體i時,記錄第二真空計(21)測得的總壓Pion和質(zhì)譜計(22)測得氣體i的分壓Pi。則質(zhì)譜計(22)測試氣體i分壓的修正因子C=Pion/Pi。
8.一種采用如權利要求1-6中任一項所述裝置的材料輻射致氣體滲透的測試方法,其用于測試材料的輻射致氣體滲透率,包括如下步驟:
步驟S1:放入待測材料樣品(3),將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,分別將左腔室(1)和右腔室(2)抽至極限真空;步驟S2:采用第二真空計(21)測量右腔室(2)的氣體壓力;步驟S3:調(diào)節(jié)供氣系統(tǒng)的流量控制器(19)向左腔室(1)充入高純氣體i,使達到一定壓力下的動態(tài)平衡;步驟S4:采用質(zhì)譜計(22)記錄右腔室(2)中氣體i的分壓增量ΔPi;該材料對氣體i在該壓力下的滲透率Ki(g·m-2·day-1)為:
步驟S5:待氣體滲透達到穩(wěn)定后,打開光源(5)對待測樣品(3)進行輻射,記錄右腔室(2)中氣體i的分壓增量ΔPi’,材料在該壓力氣體下被輻射時的滲透率變化ΔKi(g·m-2·day-1)為:
材料在該壓力氣體下被輻射時的滲透率Ki’(g·m-2·day-1)為:
其中,Sei為有效抽速,單位m3/s;Mi為氣體i的摩爾質(zhì)量,單位g/mol;A為樣品的面積,單位m2;R為氣體常數(shù),單位Pa·m3·K-1·mol-1;T為溫度,單位K;
其中,有效抽速Sei通過以下方式獲得:
步驟SS1:未放入待測材料,將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,將系統(tǒng)抽至極限真空;步驟SS2:關閉第一抽氣通道,調(diào)節(jié)流量控制器(19)向真空腔室系統(tǒng)中通入已知流量Qi的99.99%高純氣體i;步驟SS3:達到動態(tài)平衡后,采用質(zhì)譜計(22)測量右腔室(2)的壓力Pi。則第二抽氣通道對該氣體i的有效抽速為Sei=Qi/Pi。
其中,為精確測試真空腔室中氣體i的分壓Pi,需對質(zhì)譜計(22)進行校準:
步驟SSS1:未放入待測材料,將左腔室(1)和右腔室(2)連接為一體,通過第一抽氣通道和第二抽氣通道,將系統(tǒng)抽至極限真空;步驟SSS2:關閉第一抽氣通道,向真空腔室系統(tǒng)中通入99.99%高純氣體i,形成動態(tài)平衡;步驟SSS3:待腔室中95%以上為氣體i時,記錄第二真空計(21)測得的總壓Pion和質(zhì)譜計(22)測得氣體i的分壓Pi。則質(zhì)譜計(22)測試氣體i分壓的修正因子C=Pion/Pi。