技術(shù)特征：

1.一種光學(xué)位置測(cè)量裝置，用于絕對(duì)位置確定，所述光學(xué)位置測(cè)量裝置具有

整體量具，所述整體量具沿著測(cè)量方向延伸并且具有至少一個(gè)增量分度和絕對(duì)編碼，以及

掃描單元，所述掃描單元相對(duì)于所述整體量具沿著所述測(cè)量方向能相對(duì)移動(dòng)地設(shè)置并且具有光源、用于光學(xué)掃描所述增量分度的掃描網(wǎng)格以及檢測(cè)器裝置，其中

所述檢測(cè)器裝置包括用于從所述增量分度的光學(xué)掃描中產(chǎn)生增量信號(hào)的增量檢測(cè)器以及用于從所述絕對(duì)編碼的光學(xué)掃描中產(chǎn)生絕對(duì)信號(hào)的絕對(duì)檢測(cè)器，并且所述增量檢測(cè)器和所述絕對(duì)檢測(cè)器設(shè)置在共同的檢測(cè)平面中，

其特征在于，

所述檢測(cè)平面具有距所述掃描網(wǎng)格的限定的標(biāo)準(zhǔn)間距(v)，和/或?qū)⑺鲈隽繖z測(cè)器(27；127；227)上的條形圖案的周期性(d₃)選擇成，使得在所述整體量具(10；110；210)和/或所述掃描網(wǎng)格(24；124；224)的區(qū)域中的進(jìn)行散射的污染物的情況中，所述增量信號(hào)的幅度和所述絕對(duì)信號(hào)的幅度均勻地衰減。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述掃描網(wǎng)格(24；124；224)和所述檢測(cè)平面之間的所述標(biāo)準(zhǔn)間距(v)或者根據(jù)

$v=u\·\frac{\left(\frac{1}{d_1}-\frac{1}{2\·d_{ABS}}\right)}{\left(\frac{1}{d_3}+\frac{1}{2\·d_{ABS}}\right)}\±10\%$

或者根據(jù)

$v=u\·\frac{\left(\frac{1}{d_1}+\frac{1}{2\·d_{ABS}}\right)}{\left(\frac{1}{d_3}-\frac{1}{2\·d_{ABS}}\right)}\±10\%$

來(lái)選擇，其中

v：＝掃描網(wǎng)格和檢測(cè)平面之間的標(biāo)準(zhǔn)間距

u：＝整體量具和掃描網(wǎng)格之間的標(biāo)準(zhǔn)間距

d₁：＝所述整體量具上的增量分度的分度周期

d₃：＝所述增量檢測(cè)器上的條形圖案的周期性

d_ABS＝所述絕對(duì)編碼在測(cè)量方向上的最小結(jié)構(gòu)的寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述增量檢測(cè)器(27；127；227)上的所述條形圖案的周期性(d₃)根據(jù)

d₃＝2·d_ABS±10％

來(lái)選擇，其中

d₃：＝所述增量檢測(cè)器上的條形圖案的周期性

d_ABS＝所述絕對(duì)編碼在測(cè)量方向上的最小結(jié)構(gòu)的寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述掃描網(wǎng)格(24；124；224)和所述檢測(cè)平面之間的所述標(biāo)準(zhǔn)間距(v)根據(jù)

$v=\frac{1}{2}u\·d_3\·(\frac{1}{d_1}-\frac{1}{2\·d_{ABS}})\±10\%$

來(lái)選擇，其中

v：＝掃描網(wǎng)格和檢測(cè)平面之間的標(biāo)準(zhǔn)間距

u：＝整體量具和掃描網(wǎng)格之間的標(biāo)準(zhǔn)間距

d₁：＝所述整體量具上的增量分度的分度周期

d₃：＝所述增量檢測(cè)器上的條形圖案的周期性

d_ABS＝所述絕對(duì)編碼在測(cè)量方向上的最小結(jié)構(gòu)的寬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述增量分度(13；113；213)的光學(xué)掃描基于三網(wǎng)格掃描原理，其中掃描光路中的被加載的第一網(wǎng)格是增量分度(13；113；213)，被加載的第二網(wǎng)格是掃描網(wǎng)格(24；124；224)并且被加載的第三網(wǎng)格是增量檢測(cè)器(27；127；227)，所述增量檢測(cè)器構(gòu)成為結(jié)構(gòu)化的檢測(cè)器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述絕對(duì)編碼(12；112；212)的光學(xué)掃描基于陰影透射原理，并且在此所述絕對(duì)編碼(12；112；212)的結(jié)構(gòu)的投影無(wú)需將光學(xué)成像元件中間連接到所述檢測(cè)平面中地在所述絕對(duì)檢測(cè)器(26；126；226)上進(jìn)行。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述絕對(duì)編碼(12；112；212)構(gòu)成為偽隨機(jī)編碼。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述整體量具構(gòu)成為透光整體量具，其中所述增量分度(13；113；213)還有所述絕對(duì)編碼(12；112；212)具有分別交替設(shè)置的區(qū)域，所述區(qū)域具有不同的透射特性。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述整體量具(10；110；210)的彼此朝向的側(cè)面和所述掃描單元(20；120；220)之間的掃描間隙選擇為小于等于50μm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述掃描單元(20；120；220)包括用于對(duì)所述增量分度(13；113；213)和所述絕對(duì)編碼(12；112；212)照明的唯一的光源(21；121；221)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，設(shè)有調(diào)節(jié)單元(30)，所述調(diào)節(jié)單元根據(jù)周期的所述增量信號(hào)的信號(hào)幅度作用于所述光源(21；121；221)的射束強(qiáng)度，使得總是得到周期的所述增量信號(hào)的預(yù)設(shè)的信號(hào)幅度。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述增量檢測(cè)器(27；127；227)和所述絕對(duì)檢測(cè)(26；126；226)共同地設(shè)置在檢測(cè)器芯片上。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，在所述掃描網(wǎng)格(24；124；224)和所述檢測(cè)器裝置(25；125；225)之間至少部分地設(shè)置有具有折射率n>1的透明的填充介質(zhì)。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)位置測(cè)量裝置，其特征在于，所述掃描網(wǎng)格(24；124；224)設(shè)置在所述填充介質(zhì)的內(nèi)部中。