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一種青蒿素分子印跡光電化學(xué)傳感器的制備方法與流程

文檔序號:11860147閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種青蒿素分子印跡光電化學(xué)傳感器的制備方法,基于細(xì)胞色素C與焦寧B作用,具體的步驟如下:

(1)在玻碳電極上電化學(xué)聚合出分子印跡聚合物膜,將模版分子洗脫得到印跡空穴;

(2)將步驟(1)制備得到的印跡聚合物浸入含青蒿素的溶液中掩蔽印跡膜的空穴,然后放入含細(xì)胞色素C標(biāo)記的模版分子溶液中,取代印跡空穴中的模版分子發(fā)生競爭反應(yīng),放入含鐵氰化鉀的電解質(zhì)溶液中,觀察到電信號變化;

(3)隨溶液中細(xì)胞色素C標(biāo)記的模版分子減少,底物焦寧B熒光減弱,實(shí)現(xiàn)對青蒿素的光電化學(xué)檢測。

2.一種青蒿素分子印跡光電化學(xué)傳感器的制備方法,其特征是:基于細(xì)胞色素C與焦寧B作用,具體的步驟如下:

(1)玻碳電極的處理:將玻碳電極磨光,清洗后干燥;

(2)青蒿素分子印跡電極的制備:將經(jīng)過步驟(1)處理的玻碳電極浸入到含有青蒿素、丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二異丁腈和氯化鉀的脫氧磷酸鹽緩沖液中,采用循環(huán)伏安法掃描特定圈數(shù),再將該電極用醋酸和甲醇的混合液浸泡后洗脫模版分子,即得青蒿素分子印跡電極;

(3)分子印跡電極的掩蔽、孵化和競爭:將步驟(2)制備的分子印跡電極浸入到含青蒿素的溶液中掩蔽空穴,然后放入含細(xì)胞色素C標(biāo)記的青蒿素溶液中浸泡,再將其放入含青蒿素的溶液中發(fā)生競爭反應(yīng);

(4)青蒿素分子印跡傳感器電信號和光信號的檢測:將玻碳電極放入含有K3[Fe(CN)6]/K4[Fe(CN)6]和氯化鉀的電解質(zhì)溶液進(jìn)行循環(huán)伏安掃描得到電信號的變化情況,然后將電極放入含有焦寧B和三酸的緩沖液中,檢測熒光信號的變化情況。

3.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(1)中具體步驟:將玻碳電極用0.3μm和0.05μm的氧化鋁膏磨光,然后放入蒸餾水和乙醛的混合溶液中超聲清洗,取出后用氮?dú)獯抵粮稍铩?/p>

4.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(2)中青蒿素為10~20μM,丙烯酰胺為0.01~0.10mM,二甲基丙烯酸乙二醇酯為0.1~1.0mM,偶氮二異丁腈為0.01~0.10mM,氯化鉀為0.05~0.5M。

5.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(2)中掃描電壓為-0.2~1.2V,掃描速率為50~500mVs-1,掃描圈數(shù)為5~50圈,浸泡30min~3h。

6.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(3)中所使用的溫度為20~50℃。

7.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(3)中細(xì)胞色素C標(biāo)記青蒿素溶液為1~10mM。

8.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(3)中掩蔽10~30min,浸泡10~50min。

9.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征是:所述步驟(4)中所述的三酸緩沖溶液pH為5.7~6.0,三酸濃度為0.1~1.0M。

10.權(quán)利要求1-9任一所述的方法制備得到的電化學(xué)傳感器。

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