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用于地下地層操作的薄層光譜電化學(xué)池的制作方法

文檔序號(hào):11287323閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了與光譜電化學(xué)池設(shè)備相關(guān)的設(shè)備、方法和系統(tǒng),所述光譜電化學(xué)池設(shè)備包括池主體,所述池主體具有第一體積;透明樣品窗口,所述透明樣品窗口被限定在所述池主體中,所述透明樣品窗口限定穿過(guò)所述池主體的光路并且具有第二體積;工作電極,所述工作電極延伸穿過(guò)所述池主體并且沿著所述光路進(jìn)入到所述透明樣品窗口中;對(duì)電極,所述對(duì)電極延伸穿過(guò)所述池主體;參比電極,所述參比電極延伸穿過(guò)所述池主體;樣品入口,所述樣品入口延伸穿過(guò)所述池主體;溶劑入口,所述溶劑入口延伸穿過(guò)所述池主體;電解質(zhì)入口,所述電解質(zhì)入口延伸穿過(guò)所述池主體;離子流體入口,所述離子流體入口延伸穿過(guò)所述池主體;檢測(cè)物質(zhì)入口,所述檢測(cè)物質(zhì)入口延伸穿過(guò)所述池主體;流體出口,所述流體出口延伸穿過(guò)所述池主體;以及流體混合器,所述流體混合器位于所述池主體內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員:申靜;張維
受保護(hù)的技術(shù)使用者:哈利伯頓能源服務(wù)公司
技術(shù)研發(fā)日:2015.02.20
技術(shù)公布日:2017.09.26
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