專利名稱：一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及探頭保護(hù)裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置。
技術(shù)背景目前廢水處理進(jìn)入自動(dòng)化控制階段，各池體或反應(yīng)器均安裝有監(jiān)控各種技術(shù)參數(shù)的探頭，如PH探頭等，以便及時(shí)掌握水體的各項(xiàng)指標(biāo)，啟動(dòng)相應(yīng)的處理設(shè)備。然而探頭是一種精密裝置，易磨損，特別是廢水處理中池體或反應(yīng)器液位經(jīng)常在高低液位之間轉(zhuǎn)換，低液位時(shí)，探頭直接暴露于空氣中，電極將被空氣中的氧氣氧化，將會(huì)嚴(yán)重減少其使用壽命
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置，它通過(guò)在探頭下方安裝一保護(hù)罩，能使池體在低液位時(shí)，探頭仍然浸沒(méi)在液體中，避免暴露于空氣中而損壞。為了解決背景技術(shù)所存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型是采用以下技術(shù)方案它包含保護(hù)罩1、監(jiān)控探頭2和廢水處理池3 ；廢水處理池3上部一側(cè)設(shè)置有監(jiān)控探頭2，監(jiān)控探頭2的下端設(shè)置有保護(hù)罩1。所述的保護(hù)罩1為上部敞開(kāi)的聚四氟乙烯材質(zhì)的正方體，邊長(zhǎng)為10厘米，且保護(hù)罩1底部距監(jiān)控探頭2底部為4-5厘米。本實(shí)用新型通過(guò)在探頭下方安裝一保護(hù)罩，能使池體在低液位時(shí)，探頭仍然浸沒(méi)在液體中，避免暴露于空氣中而損壞。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型低水位結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參看圖1-2，本具體實(shí)施方式
是采用以下技術(shù)方案它包含保護(hù)罩1、監(jiān)控探頭2和廢水處理池3 ；廢水處理池3上部一側(cè)設(shè)置有監(jiān)控探頭2，監(jiān)控探頭2的下端設(shè)置有保護(hù)罩 1。所述的保護(hù)罩1為上部敞開(kāi)的聚四氟乙烯材質(zhì)的正方體，邊長(zhǎng)為10厘米，且保護(hù)罩1底部距監(jiān)控探頭2底部為4-5厘米。本具體實(shí)施方式
通過(guò)在探頭下方安裝一保護(hù)罩，能使池體在低液位時(shí)，探頭仍然浸沒(méi)在液體中，避免暴露于空氣中而損壞。
權(quán)利要求1.一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置，其特征在于它包含保護(hù)罩(1)、監(jiān)控探頭(2)和廢水處理池(3)；廢水處理池C3)上部一側(cè)設(shè)置有監(jiān)控探頭O)，監(jiān)控探頭O)的下端設(shè)置有保護(hù)罩(I)0
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置，其特征在于所述的保護(hù)罩(1)為上部敞開(kāi)的聚四氟乙烯材質(zhì)的正方體，邊長(zhǎng)為10厘米，且保護(hù)罩(1)底部距監(jiān)控探頭(2)底部為4-5厘米。
專利摘要一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置，它涉及探頭保護(hù)裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種廢水處理池探頭保護(hù)裝置。它包含保護(hù)罩(1)、監(jiān)控探頭(2)和廢水處理池(3)；廢水處理池(3)上部一側(cè)設(shè)置有監(jiān)控探頭(2)，監(jiān)控探頭(2)的下端設(shè)置有保護(hù)罩(1)。它通過(guò)在探頭下方安裝一保護(hù)罩，能使池體在低液位時(shí)，探頭仍然浸沒(méi)在液體中，避免暴露于空氣中而損壞。
文檔編號(hào)G01N27/30GK202018438SQ20112004495
公開(kāi)日2011年10月26日 申請(qǐng)日期2011年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月23日
發(fā)明者何金彬 申請(qǐng)人:蘇州工業(yè)園區(qū)和順企業(yè)環(huán)保服務(wù)有限公司