專利名稱：檢查方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的示例性實施例涉及一種檢查方法(inspection method)。更具體地講，本 發(fā)明的示例性實施例涉及一種用于形狀測量設(shè)備(shape measurementapparatus)中的測 量目標(biāo)(measurement target)的檢查方法。
背景技術(shù)：
通常，在電子裝置中采用至少一個印刷電路板(PCB)，諸如電路圖案、連接焊盤部 件、電連接到連接焊盤部件的驅(qū)動器芯片等的各種電路元件安裝在印刷電路板上。形狀測量設(shè)備通常用于檢查各種電路元件是否良好地形成或構(gòu)造在印刷電路板 上。在傳統(tǒng)的形狀測量設(shè)備中，設(shè)置預(yù)定的檢查區(qū)域以檢查電路元件是否良好地形成 在檢查區(qū)域中。在設(shè)置檢查區(qū)域的傳統(tǒng)方法中，簡單地將電路元件在理論上所處的區(qū)域設(shè) 置為檢查區(qū)域。當(dāng)將檢查區(qū)域設(shè)置在正確位置處時，良好地執(zhí)行對期望的電路元件的測量。然而， 在諸如印刷電路板的測量目標(biāo)中，會產(chǎn)生基礎(chǔ)板的諸如翹曲(warp)、扭曲(twist)等的變 形(distortion)。因此，在設(shè)置檢查區(qū)域的傳統(tǒng)方法中，沒有將檢查區(qū)域正確地設(shè)置在期望 的位置處，與拍攝部分的相機中獲得的圖像對應(yīng)的位置與電路元件實際存在的位置有一定 的不同。因此，需要設(shè)置檢查區(qū)域以補償測量目標(biāo)的變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實施例提供了一種可以設(shè)置補償了測量目標(biāo)的變形的檢查區(qū)域 的檢查方法。本發(fā)明的示例性實施例還提供了一種設(shè)置檢查區(qū)域的檢查方法，其中，補償了測 量目標(biāo)的變形，并在相似的圖案在板上相鄰時通過設(shè)置并校驗包括多個形狀圖案的特征來 正確地設(shè)置了檢查區(qū)域。本發(fā)明的其他的特征將在下面的描述中闡述，且在部分上從描述中是明顯的，或 者可以從本發(fā)明的實施中獲知。本發(fā)明的示例性實施例公開了一種檢查方法。所述包括如下步驟將測量目標(biāo)設(shè) 置到載物臺上；調(diào)用測量目標(biāo)的參考數(shù)據(jù)；獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)；選擇測量目標(biāo)的測 量數(shù)據(jù)和參考數(shù)據(jù)中的至少一個特征對象；提取從參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)中的每個選擇的特 征對象的至少一個特征變量；通過利用特征變量和量化的轉(zhuǎn)換式來產(chǎn)生測量目標(biāo)的改變 量；補償產(chǎn)生的改變量，以設(shè)置檢查區(qū)域。測量目標(biāo)可以包括印刷電路板，特征對象可以包括形成在印刷電路板上的角點和 電路元件的形狀、圖案和孔中的至少一個，特征變量可以包括點的坐標(biāo)、線的斜率、線的尺 寸、兩個點的坐標(biāo)之間的差異中的至少一個。
例如，測量目標(biāo)的改變量可以包括垂直斜率的改變量和高度的改變量中的至少一 個。利用通過比較在參考數(shù)據(jù)中選擇的特征對象的平面形狀和與在獲得的測量數(shù)據(jù)中的選 擇的特征對象對應(yīng)的特征目標(biāo)的平面形狀而產(chǎn)生的幾何變形來獲得垂直斜率的改變量。在一個示例性實施例中，在通過利用特征變量和量化的轉(zhuǎn)換式來產(chǎn)生測量目標(biāo)的 改變量的步驟之前，所述方法還可以包括如下步驟通過利用參考數(shù)據(jù)的特征變量和測量 數(shù)據(jù)的特征變量之間的位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度中的至少一個來設(shè)置轉(zhuǎn)換等 式。設(shè)置轉(zhuǎn)換式的步驟可以包括將與參考數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的坐標(biāo)空間設(shè)置為第一 坐標(biāo)空間；將與測量數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的坐標(biāo)空間設(shè)置為第二坐標(biāo)空間；將包括位置改 變、斜率改變、尺寸改變、變換度中的至少一個的第一坐標(biāo)空間轉(zhuǎn)換至第二坐標(biāo)空間的坐標(biāo) 轉(zhuǎn)換關(guān)系式表示為包括至少一個未知量轉(zhuǎn)換等式。設(shè)置檢查空間的步驟可以包括將參考 數(shù)據(jù)的特征變量和測量數(shù)據(jù)的特征變量表示為轉(zhuǎn)換等式；獲得包括在轉(zhuǎn)換等式中的未知 量，以最終確定轉(zhuǎn)換式；通過利用最終確定的轉(zhuǎn)換式來設(shè)置補償了從改變量得出的變形的 檢查區(qū)域。本發(fā)明的另一示例性實施例公開了一種檢查方法。所述方法包括如下步驟將測 量目標(biāo)設(shè)置到載物臺上；調(diào)用包括測量目標(biāo)的第一特征對象的參考數(shù)據(jù)；獲得測量目標(biāo)的 測量數(shù)據(jù)；從測量數(shù)據(jù)提取與第一特征對象對應(yīng)的第二特征對象；比較第一特征對象的平 面形狀和第二特征對象的平面形狀，以檢查并量化幾何變形，從而產(chǎn)生沿測量目標(biāo)的垂直 方向的改變量；基于改變量來設(shè)置檢查區(qū)域。例如，第一特征對象可以具有多邊形形狀。本發(fā)明的示例性實施例公開了一種檢查方法。所述檢查方法包括如下步驟在板 上設(shè)置測量區(qū)域；調(diào)用測量區(qū)域的參考數(shù)據(jù)；獲得測量區(qū)域的測量數(shù)據(jù)；按塊在測量區(qū)域 中設(shè)置至少一個特征塊；比較參考數(shù)據(jù)中的特征塊的第一形狀信息和測量數(shù)據(jù)中的特征塊 的第二形狀信息，以獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系；通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系來補償 變形，以設(shè)置用于檢查測量目標(biāo)的檢查區(qū)域。多個形狀可以在與特征塊對應(yīng)的形狀信息中。形狀信息中的形狀中的至少兩個形 狀可以基本相同。形狀信息可以具有二維標(biāo)識符。特征塊可以為多個。在示例性實施例中， 比較參考數(shù)據(jù)中的與特征塊對應(yīng)的形狀信息和測量數(shù)據(jù)中的與特征塊對應(yīng)的形狀信息，以 獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系的步驟可以包括從多個特征塊選擇至少兩個特 征塊；通過利用選擇的至少兩個特征塊來獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的量化的轉(zhuǎn)換式。在示例性實施例中，按塊在測量區(qū)域中設(shè)置預(yù)定的形狀信息的至少一個特征塊的 步驟可以包括設(shè)置比較特征塊，以比較形狀信息；設(shè)置校驗特征塊，以校驗測量目標(biāo)的設(shè) 置的檢查區(qū)域的有效性。所述方法還可以包括通過利用校驗特征塊來判斷測量目標(biāo)的設(shè)置 的檢查區(qū)域是否有效的步驟。校驗檢查目標(biāo)的設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效的步驟可以包括 通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系對校驗特征塊進行轉(zhuǎn)換；測量校驗特征塊；比較經(jīng)轉(zhuǎn)換的特征塊和測量 的校驗特征塊，以判斷經(jīng)轉(zhuǎn)換的特征塊和測量的校驗特征塊之間的位置差異是否在公差 內(nèi)；當(dāng)位置差異在公差外時，重新設(shè)置轉(zhuǎn)換關(guān)系。在一個示例性實施例中，所述方法還可以包括疊置參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)的步驟。 另外，所述方法還可以包括通過利用疊置來去除特征塊中的噪聲圖案。如上所述，考慮從測量目標(biāo)的幾何變形得出的測量目標(biāo)的改變量，以補償測量目標(biāo)的改變量。因此，可以正確地設(shè)置測量目標(biāo)的檢查區(qū)域。另外，按塊將在板上設(shè)置的測量區(qū)域中的預(yù)定的形狀信息設(shè)置為特征塊，比較與 參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)的特征塊對應(yīng)的形狀信息，以獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān) 系，從而正確地設(shè)置檢查區(qū)域。另外，即使相似的圖案在板上相鄰，也可以在沒有混淆的情況下指定特征塊。此 外，可以通過設(shè)置并校驗包括多個形狀圖案的特征塊來正確地設(shè)置檢查區(qū)域。另外，在與特征塊對應(yīng)的形狀信息具有多個形狀時，可以更為正確的獲得轉(zhuǎn)換關(guān) 系。在形狀信息中的至少兩個形狀基本相同的情況下，按一塊來比較形狀信息，以減少錯誤 (mistakability)0另外，當(dāng)在特征塊中的形狀信息具有二維標(biāo)識符時，可以在比較形狀信息的過程 中減少錯誤(mistakability)。另外，可以基于設(shè)置的檢查區(qū)域來執(zhí)行諸如部件的檢查的工作，因此更為正確地 判斷板是否良好。應(yīng)該理解的是，前面的描述和后面的描述是示意性和說明性的，且意在為要求保 護的本發(fā)明提供進一步說明。


包括附圖以提供對本發(fā)明的進一步理解，且將附圖包括在本說明書中并構(gòu)成本說 明書的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實施例，并與描述一起用于說明本發(fā)明的原理。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的利用檢查方法的三維形狀測量設(shè)備的示 意圖。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的檢查方法的流程圖。圖3是示出在圖2中示出的檢查方法中獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)的詳細方法的示 例性實施例的流程圖。圖4是示出在圖2中示出的檢查方法中獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)的詳細方法的另 一示例性實施例的流程圖。圖5是示出在圖2中示出的檢查方法中的特征對象(feature object)的平面圖。圖6至圖12是示出根據(jù)測量目標(biāo)的幾何變形的測量目標(biāo)的改變量的示意圖。圖13是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的檢查方法的流程圖。圖14是示出圖13中示出的檢查方法中的參考數(shù)據(jù)的示例的平面圖。圖15是示出圖13中示出的檢查方法中的測量數(shù)據(jù)的示例的平面圖。圖16是示出獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系(conversionrelation)的 方法的示例性實施例的流程圖。圖17是示出校驗設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效的方法的示例性實施例的流程圖。
具體實施例方式在下文中參照示出了本發(fā)明的示例實施例的附圖來更充分地描述本發(fā)明。然而， 本發(fā)明可以以許多不同的形式來實施，且不應(yīng)該被理解為局限于在此提出的實施例。相反， 提供這些示例實施例使本公開將是徹底的和完全的，并將把本發(fā)明的范圍充分地傳達給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。在附圖中，為了清晰起見，可以夸大層和區(qū)域的尺寸和相對尺寸。應(yīng)該理解，當(dāng)元件或?qū)颖环Q作“在”另一元件或另一層“上”、“連接到”另一元件或 另一層或者“結(jié)合到”另一元件或另一層時，該元件或?qū)涌梢灾苯釉诹硪辉蛄硪粚由稀?直接連接到另一元件或另一層或者直接結(jié)合到另一元件或另一層，或者可以存在中間元件 或中間層。相反，當(dāng)元件被稱作“直接在”另一元件或另一層“上”、“直接連接到”另一元件 或另一層或者“直接結(jié)合到”另一元件或另一層時，不存在中間元件或中間層。相同的標(biāo)號 始終表示相同的元件。如這里所使用的，術(shù)語“和/或”包括一個或多個相關(guān)所列的項目的 任意組合和所有組合。應(yīng)該理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語第一、第二、第三等來描述不同的元件、組 件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分并不應(yīng)受這些術(shù)語的限 制。這些術(shù)語僅是用來將一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個區(qū)域、層或部分區(qū)分開 來。因此，在不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可 被命名為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。為了方便描述，在這里可使用如“在......之下”、“在......下方”、“下面的”、
“在......上方”、“上面的”等的空間相對術(shù)語來描述如圖中所示的一個元件或特征與其它
元件或特征的關(guān)系。應(yīng)該理解的是，空間相對術(shù)語意在包含除了在附圖中描述的方位之外 的裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附圖中裝置被翻轉(zhuǎn)，則描述為“在”其它 元件或特征“之下”或“下方”的元件隨后將被定位為“在”其它元件或特征“上方”。因此，
示例性術(shù)語“在......下方”可包括“在......上方”和“在......下方”兩種方位。所
述裝置可被另外定位(旋轉(zhuǎn)90度或者在其它方位)，并相應(yīng)地解釋這里使用的空間相對描 述符。這里使用的術(shù)語僅為了描述特定示例實施例的目的，而不意圖限制本發(fā)明。如這 里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的 是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時，說明存在所述特征、整體、步驟、操 作、元件和/或組件，但不排除存在或附加一個或多個其它特征、整體、步驟、操作、元件、組 件和/或其組合。在此參照作為本發(fā)明的理想實施例(或中間結(jié)構(gòu))的示意性示出的剖視圖來描述 本發(fā)明的實施例。這樣，預(yù)計會出現(xiàn)例如由制造技術(shù)和/或公差引起的示出的形狀變化。 因此，本發(fā)明的示例實施例不應(yīng)該被解釋為限制于在此示出的區(qū)域的具體形狀，而應(yīng)該包 括例如由制造導(dǎo)致的形狀變形。例如，示出為矩形的注入?yún)^(qū)域通常在其邊緣通常具有倒圓 或曲線的特征和/或注入濃度的梯度，而不是從注入?yún)^(qū)域到非注入?yún)^(qū)域的二元變化。同樣 地，通過注入形成的掩埋區(qū)域可導(dǎo)致在掩埋區(qū)域和通過其發(fā)生注入的表面之間的區(qū)域中出 現(xiàn)一定程度的注入。因此，在圖中示出的區(qū)域?qū)嶋H上是示意性的，它們的形狀并不意圖示出 裝置的區(qū)域的實際形狀，也不意圖限制本發(fā)明的范圍。除非另有定義，否則這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本 發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所通常理解的意思相同的意思。將進一步理解，除非這里明 確定義，否則術(shù)語例如在通用的字典中定義的術(shù)語應(yīng)該被解釋為具有與相關(guān)領(lǐng)域的上下文 中它們的意思相一致的意思，而不是理想地或者過于正式地解釋它們的意思。在下文中，將參照附圖來描述根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的檢查方法。
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的利用檢查方法的三維形狀測量設(shè)備的示 意圖。參照圖1，根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的利用檢查方法的三維形狀測量設(shè)備可以包 括測量載物臺部分100、圖像拍攝部分200、第一照明部分300、第二照明部分400、圖像獲得 部分500、模塊控制部分600、中央控制部分700。測量載物臺部分100可以包括支撐測量目標(biāo)10的載物臺110和傳送載物臺110 的載物臺傳送單元120。在示例性實施例中，隨著測量目標(biāo)10因載物臺110而相對于圖像 拍攝部分200、第一照明部分300、第二照明部分400運動，可以在測量目標(biāo)10中改變測量位置。圖像拍攝部分200設(shè)置在載物臺110上方，以接收測量目標(biāo)10反射的光并測量測 量目標(biāo)10的圖像。即，圖像拍攝部分200接收第一照明部分300和第二照明部分400出射 的并被測量目標(biāo)10反射的光，并拍攝測量目標(biāo)10的平面圖像。圖像拍攝部分200可以包括相機210、成像透鏡220、濾波器230、燈240。相機210 接收測量目標(biāo)10反射的光，并拍攝測量目標(biāo)10的平面圖像。相機210可以包括例如CCD 相機和CMOS相機中的一種。成像透鏡220設(shè)置在相機210下方，以使測量目標(biāo)10反射的 光在相機210上成像。濾波器230設(shè)置在成像透鏡220下方，以對測量目標(biāo)10反射的光進 行濾波，并將經(jīng)濾波的光提供到成像透鏡220。濾波器230可以包括例如頻率濾波器、色彩 濾波器、光強度控制濾波器中的一種。燈240可以以圓形形狀設(shè)置在濾波器230下方，以將 光提供到測量目標(biāo)10，從而拍攝諸如測量目標(biāo)10的二維形狀的特定的圖像。第一照明部分300可以設(shè)置例如在圖像拍攝部分200的右側(cè)處，以相對于支撐測 量目標(biāo)10的載物臺110傾斜。第一照明部分300可以包括第一照明單元310、第一光柵單 元320、第一光柵傳送單元330、第一會聚透鏡340。第一照明單元310可以包括光源和至少 一個透鏡，以產(chǎn)生光，第一光柵單元320設(shè)置在第一照明單元310下方，以將第一照明單元 310產(chǎn)生的光改變?yōu)榫哂泄鈻艌D案的第一光柵圖案光。第一光柵傳送單元330連接到第一 光柵單元320，以傳送第一光柵單元320，并可以包括例如壓電傳送單元和精細線性傳送單 元(fine linear transfer unit)中的一種。第一會聚透鏡340設(shè)置在第一光柵單元320 下方，以將第一光柵單元320出射的第一光柵圖案光會聚在測量目標(biāo)10上。例如，第二照明部分400可以設(shè)置在圖像拍攝部分200的左側(cè)處，以相對于支撐測 量目標(biāo)10的載物臺110傾斜。第二照明部分400可以包括第二照明單元410、第二光柵單 元420、第二光柵傳送單元430、第二會聚透鏡440。第二照明部分400與上面描述的第一照 明部分300基本相同，因此將省略任何進一步的描述。當(dāng)在第一照明部分300中第一光柵傳送單元330順序移動第一光柵單元320達N 次，且N次第一光柵圖案光照射到測量目標(biāo)10上時，圖像拍攝部分200可以順序接收測量 目標(biāo)10反射的N次第一光柵圖案光，并拍攝N個第一圖案圖像。另外，當(dāng)在第二照明部分 400中第二光柵傳送單元430順序移動第二光柵單元420達N次，且N次第二光柵圖案光照 射到測量目標(biāo)10上時，圖像拍攝部分200可以順序接收測量目標(biāo)10反射的N次第二光柵 圖案光，并拍攝N個第二圖案圖像。N是自然數(shù)，例如，可以為4。在示例性實施例中，第一照明部分300和第二照明部分400被描述為產(chǎn)生第一光 柵圖案光和第二光柵圖案光的照明設(shè)備?？蛇x擇地，照明部分的數(shù)量可以大于等于三個。換句話說，可以沿各種方向?qū)⒐鈻艌D案光照射到測量目標(biāo)10上，且可以拍攝各種圖案圖像。 例如，當(dāng)按等邊三角形設(shè)置三個照明部分，且圖像拍攝部分200位于等邊三角形的中心時， 可以沿不同的方向?qū)⑷拦鈻艌D案光照射到測量目標(biāo)10上。例如，當(dāng)按方形設(shè)置四個照明 部分，且圖像拍攝部分200位于方形的中心時，可以沿不同的方向?qū)⑺牡拦鈻艌D案光照射 到測量目標(biāo)10上。圖像獲得部分500電連接到圖像拍攝部分200的相機210，以從相機210獲得圖案 圖像，并存儲獲得的圖案圖像。例如，圖像獲得部分500可以包括接收相機210中拍攝的N 個第一圖案圖像和N個第二圖案圖像并存儲這些圖像的圖像系統(tǒng)。模塊控制部分600電連接到測量載物臺部分100、圖像拍攝部分200、第一照明部 分300、第二照明部分400，以控制測量載物臺部分100、圖像拍攝部分200、第一照明部分 300、第二照明部分400。模塊控制部分600可以包括例如照明控制器、光柵控制器、載物臺 控制器。照明控制器控制第一照明單元310和第二照明單元410來產(chǎn)生光，光柵控制器控 制第一光柵傳送單元330和第二光柵傳送單元430來移動第一光柵單元320和第二光柵單 元420。載物臺控制器控制載物臺傳輸單元120以上下運動和左右運動的方式移動載物臺 110。中央控制部分700電連接到圖像獲得部分500和模塊控制部分600，以控制圖像獲 得部分500和模塊控制部分600。具體地講，中央控制部分700接收來自圖像獲得部分500 的圖像系統(tǒng)的N個第一圖案圖像和N個第二圖案圖像，以處理這些圖像，從而可以測量測量 目標(biāo)的三維形狀。另外，中央控制部分700可以控制模塊控制部分600的照明控制器、光柵 控制器、載物臺控制器。因此，中央控制部分可以包括圖像處理板、控制板、接口板。為了通過利用上述三維形狀測量設(shè)備來測量測量目標(biāo)10中采用的印刷電路板的 形狀，首先，設(shè)置用于測量的檢查區(qū)域。當(dāng)設(shè)置檢查區(qū)域時，三維形狀測量設(shè)備基于檢查區(qū) 域來測量檢查區(qū)域中的一部分。下文中，將參照附圖詳細描述檢查方法。圖2是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的檢查方法的流程圖。參照圖1和圖2，根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，為了設(shè)置檢查區(qū)域，首先，在步驟 S110中，將測量目標(biāo)10設(shè)置在載物臺110上。測量目標(biāo)10可以包括例如印刷電路板或形成在印刷電路板上的部件、圖案等。然后，在步驟S120中，調(diào)用測量目標(biāo)10的參考數(shù)據(jù)。參考數(shù)據(jù)可以包括與測量目標(biāo)10的設(shè)計參考對應(yīng)的理論信息。參考數(shù)據(jù)可以包 括形成或設(shè)置在測量目標(biāo)10上的各種電路元件的參考位置、參考形狀等。即，參考數(shù)據(jù)可 以包括設(shè)置在測量目標(biāo)10上的電路元件在理論上擁有的位置、形狀等。在示例性實施例中，可以從記錄有測量目標(biāo)10的形狀的格伯信息 (gerberinformation)或CAD信息得到參考數(shù)據(jù)。CAD信息或格伯信息可以包括測量目標(biāo) 10的設(shè)計信息。在另一示例性實施例中，可以從學(xué)習(xí)模式下得到的學(xué)習(xí)信息獲得參考數(shù)據(jù)。學(xué)習(xí) 模式可以順序包括例如在數(shù)據(jù)庫中搜索板信息、在數(shù)據(jù)庫中沒有板信息的情況下學(xué)習(xí)裸板 (bare board)，在通過學(xué)習(xí)裸板產(chǎn)生板信息之后在數(shù)據(jù)庫中存儲板信息。S卩，在學(xué)習(xí)模式下，學(xué)習(xí)印刷電路板的裸板，并獲得印刷電路板的設(shè)計參考信息，可以由通過學(xué)習(xí)模式得到學(xué)習(xí)信息來獲得參考數(shù)據(jù)。此后，在步驟S130中，獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)。測量數(shù)據(jù)表示通過測量測量目標(biāo)10而獲得的數(shù)據(jù)，例如，測量目標(biāo)10的拍攝的圖 像的數(shù)據(jù)。拍攝的圖像可以為二維圖像。測量數(shù)據(jù)可以包括實際形成或設(shè)置在測量目標(biāo)10 上的各種電路元件的形成位置、形成形狀等。即，測量數(shù)據(jù)可以包括實際形成在測量目標(biāo)10 上的電路元件的位置、形狀等。圖3是示出在圖2中示出的檢查方法中獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)的詳細方法的示 例性實施例的流程圖。參照圖1至圖3，為了獲得測量目標(biāo)10的測量數(shù)據(jù)，首先，在步驟S132a中，將用于 測量二維圖像的光照射到測量目標(biāo)上。在一個實施例中，用于測量二維圖像的光源可以包括圖1中示出的燈240?？蛇x擇 地，圖1中示出的三維形狀測量設(shè)備可以包括可以在用于測量二維圖像的光源中采用的用 于各種目的的二維圖像測量光源。然后，在步驟S132b中，拍攝照射的光的反射圖像，以獲得二維測量數(shù)據(jù)。具體地講，將用于測量二維圖像的光源產(chǎn)生的光照射到測量目標(biāo)10上。當(dāng)測量目 標(biāo)10反射照射的光時，圖1中示出的圖像拍攝部分200拍攝反射的圖像，以獲得二維測量 數(shù)據(jù)。圖4是示出在圖2中示出的檢查方法中獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)的詳細方法的另 一示例性實施例的流程圖。參照圖1、圖2、圖4，為了獲得測量目標(biāo)10的測量數(shù)據(jù)，在步驟S134a中，將用于測 量基于高度的三維圖像(height-based three-dimensional image)的光源照射到測量目 標(biāo)10上。在一個示例性實施例中，用于測量基于高度的三維圖像的光源可以包括圖1中示 出的第一照明部分300和第二照明部分400。可選擇地，用于測量基于高度的三維圖像的光 源可以包括的三個或更多個如在圖1中描述的照明部分。然后，在步驟S134b中，拍攝照射的光的反射圖像，以獲得基于高度的三維測量數(shù) 據(jù)。具體地講，將用于測量基于高度的三維圖像的光源產(chǎn)生的圖案光照射到測量目標(biāo) 10上。當(dāng)測量目標(biāo)10反射照射的圖案光時，圖1中示出的圖像拍攝部分200拍攝反射的圖 像，以獲得圖案圖像。如圖1中所述，將圖像拍攝部分200獲得的圖案圖像存儲在圖像獲得 部分500中，并在中央控制部分700中處理圖案圖像，以獲得基于高度的三維測量數(shù)據(jù)。此后，在步驟S134c中，對基于高度的三維測量數(shù)據(jù)取平均，以獲得二維測量數(shù) 據(jù)。即使基于高度的三維測量數(shù)據(jù)不直接包括二維測量數(shù)據(jù)，但是可以對基于高度的 三維測量數(shù)據(jù)取平均，以容易地獲得二維測量數(shù)據(jù)。例如，通過對基于高度的三維測量數(shù)據(jù)取平均來獲取二維測量數(shù)據(jù)的詳細過程如 下。in = a + b cos ( + Ar) )[where As = 0,π/2，π,3π/2]
= a+bcosi2 = a+bcos 0 +/2)i3 = a+bcos (4) +)i4 = a+bcos +3 n /2)= a+bcosi2 = a-bsin4)i3 = a-bcosi4 = a+bsin4)
十“ + i-, + i, 人 a = -i--~~~-1
4在前述中，i是在獲得基于高度的三維測量數(shù)據(jù)期間圖像拍攝部分200獲得的光 強度，a和b分別是平均值和幅值。例如，當(dāng)利用四道光柵圖案光來獲得基于高度的三維測 量數(shù)據(jù)時，如上面所表示地得到可以用作二維測量數(shù)據(jù)的a。再次參照圖1和圖2，在步驟S 140中，比較測量目標(biāo)10的測量數(shù)據(jù)和測量目標(biāo) 10的參考數(shù)據(jù)，以選擇至少一個特征對象。圖5是示出在圖2中示出的檢查方法中的特征對象的平面圖。參照圖1、圖2、圖5，特征對象20是測量了將在下面進行描述的測量數(shù)據(jù)和參考 數(shù)據(jù)之間的改變量的目標(biāo)。特征對象20存在于測量目標(biāo)10中。在原理上，特征對象20可 以是存在于測量目標(biāo)10中的任何對象。例如，特征對象20可以包括點22、線24、諸如四邊 形26的包括點和線的圖形中的至少一種。所述線可以包括直線和曲線，除了諸如圓形、多 邊形等在數(shù)學(xué)上有定義的圖形之外，所述圖形還可以包括在數(shù)學(xué)上未進行定義的圖形。在選擇特征對象20的過程中，可以將測量目標(biāo)10上的改變量容易測量且頻繁發(fā) 現(xiàn)的對象選擇為特征對象20。例如，當(dāng)測量目標(biāo)10是印刷電路板時，可以將形成在印刷電 路板上的圖案和孔、各種電路元件的形狀、圖案的角點(comer point)中的至少一個選擇為 特征對象20。在比較測量目標(biāo)10的測量數(shù)據(jù)和測量目標(biāo)10的參考數(shù)據(jù)之后，可以將存在于測 量數(shù)據(jù)和參考數(shù)據(jù)中的對象選擇為特征對象20。此后，在步驟S150中，從參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)提取選擇的特征對象20的至少一個 特征變量的值。例如，特征變量可以包括點的坐標(biāo)、線的斜率、線的尺寸、兩個點的坐標(biāo)之間的差 異中的至少一個。當(dāng)特征對象20是點22時，特征變量可以是點22的坐標(biāo)、點22的半徑等。 當(dāng)特征對象20是線24時，特征變量可以是線24的兩個端點的坐標(biāo)、線24的中點的坐標(biāo)、 線24的斜率、線24的長度、線24的寬度等。當(dāng)特征對象20是例如四邊形26的圖形時，特 征變量可以為四邊形26的每個角點的坐標(biāo)、四邊形26的每條邊的斜率、四邊形26的每條 邊的長度、四邊形26的角點的坐標(biāo)之間的差異等。然后，在步驟S160中，通過利用特征變量的值和量化的轉(zhuǎn)換式 (quantifiedconversion formula)來產(chǎn)生測量目標(biāo)10的改變量。轉(zhuǎn)換式是將參考數(shù)據(jù)數(shù)學(xué)地轉(zhuǎn)換為測量數(shù)據(jù)的數(shù)學(xué)式。例如，轉(zhuǎn)換式可以包括 根據(jù)仿身寸轉(zhuǎn)換(affine conversion)或透視轉(zhuǎn)換(perspective conversion)的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換式，其中，點至點關(guān)系(point-to-point relation)被表示為n維空間中的第一階形式 (first-order form)0測量目標(biāo)10的改變量與測量目標(biāo)10的因翹曲、扭曲等引起的變形度對應(yīng)?？梢?從在測量測量目標(biāo)10的過程中產(chǎn)生的測量幾何變形得到測量目標(biāo)10的改變量。例如，可 以由因測量目標(biāo)10的翹曲、扭曲等產(chǎn)生的幾何變形而產(chǎn)生測量目標(biāo)10的改變量。圖6至圖12是示出根據(jù)測量目標(biāo)的幾何變形的測量目標(biāo)的改變量的示意圖。參照圖6至圖12，測量目標(biāo)10的改變量可以包括垂直斜率的改變量AV、高度的改 變量H、水平斜率的改變量AH、位置(x，y)的改變量(xl-xO，yl-y0)中的至少一個。圖6是示出存在于測量目標(biāo)10中的各種幾何變形的狀態(tài)的側(cè)視圖。圖7是示出 從各種幾何變形去除垂直斜率的改變量AV的狀態(tài)的側(cè)視圖。圖8是示出從圖7中的幾何 變形去除高度的改變量H的狀態(tài)的側(cè)視圖。標(biāo)號50指示理想平面，并與參考數(shù)據(jù)對應(yīng)。圖 9是圖8的平面圖。圖10是示出從圖9中的幾何變形去除水平斜率的改變量AH的狀態(tài)的 平面圖。圖11是示出從圖10中的幾何變形去除位置(x，y)的改變量(xl-x0，yl-y0)的狀 態(tài)的平面圖。圖11是從各種幾何變形去除垂直斜率的改變量AV、高度的改變量H、水平斜 率的改變量AH、位置(x，y)的改變量(xl-xO，yl-y0)的狀態(tài)的平面圖。圖12是圖6中示 出的測量目標(biāo)10投影的平面圖。因此，圖11示出參考數(shù)據(jù)的示例，與圖6對應(yīng)的圖12示 出測量數(shù)據(jù)的示例。在圖12中，因為與測量目標(biāo)10中的右部相比，左部與圖像拍攝部分200 (參照圖 1)更近，所以與左部的測量數(shù)據(jù)對應(yīng)的測量圖像拍攝得大。另外，因為與理想平面50相比， 左部和右部均與圖像拍攝部分200更近，所以與測量數(shù)據(jù)對應(yīng)的測量圖像被拍攝得大于實 際尺寸。換句話說，在如上所述的在圖像拍攝部分200中因測量目標(biāo)10的幾何變形而將左 部拍攝得大于右部，從而按與梯形相似的形狀測量測量目標(biāo)10的情況下，將上面描述的測 量目標(biāo)10的基于高度的三維參考數(shù)據(jù)和測量目標(biāo)10的測量的三維測量數(shù)據(jù)進行比較，以 根據(jù)透視轉(zhuǎn)換(即，與測量目標(biāo)10的垂直斜率的改變量對應(yīng)的轉(zhuǎn)換)檢查并補償測量目標(biāo) 10的幾何變形。在示例性實施例中，可以通過利用參考數(shù)據(jù)的特征變量的值和測量數(shù)據(jù)的特征變 量的值之間的位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度(transformationdegree)中的至少 一個來確定轉(zhuǎn)換式。即，如上所述，如圖11中的示例所述的參考數(shù)據(jù)和如圖12中的示例所 述的測量數(shù)據(jù)中產(chǎn)生位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度等。變換度與距離變換或投影 變換產(chǎn)生的改變對應(yīng)?？梢灶A(yù)先將改變設(shè)置為轉(zhuǎn)換式。即，將與圖11中的參考數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的坐 標(biāo)空間設(shè)置為第一坐標(biāo)空間，例如，(X，Y)空間，將與圖12中的測量數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的 坐標(biāo)空間設(shè)置為第二坐標(biāo)空間，例如，(U，V)空間。然后，將位置改變、斜率改變、尺寸改變、 變換度中的至少一個從第一坐標(biāo)空間至第二坐標(biāo)空間的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系式表示為線性轉(zhuǎn)換 等式(conversionequation)。通常，根據(jù)測量測量目標(biāo)10時的時間和測量目標(biāo)10存在的 位置，改變的種類和程度發(fā)生變化。另外，當(dāng)測量目標(biāo)10改變時，改變的種類和程度也出現(xiàn) 變化。因此，組成線性轉(zhuǎn)換等式的轉(zhuǎn)換系數(shù)是未知量。然而，可以預(yù)先設(shè)置轉(zhuǎn)換式。再次參照圖1和圖2，此后，在步驟S170中，補償產(chǎn)生的改變量，以設(shè)置檢查區(qū)域。因為由在測量測量目標(biāo)10的過程中的幾何變形而產(chǎn)生測量目標(biāo)10的改變量，所以在補償 改變量時可以校正錯誤的檢查區(qū)域。例如，在前面的步驟S120中的調(diào)用參考數(shù)據(jù)和步驟130中的獲得測量數(shù)據(jù)的過程 之后，將參考數(shù)據(jù)的特征對象的特征變量的值和測量數(shù)據(jù)的特征對象的特征變量的值表示 為線性轉(zhuǎn)換等式。然后，獲得包括在線性轉(zhuǎn)換等式中的未知量，以最終確定轉(zhuǎn)換式。在最終 確定了轉(zhuǎn)換式之后，可以通過利用轉(zhuǎn)換式來設(shè)置補償了因改變量導(dǎo)致的變形的檢查區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明的檢查方法，考慮從測量目標(biāo)10的幾何變形得到的測量目標(biāo)10的改 變量，以補償測量目標(biāo)10的改變量。因此，可以正確地設(shè)置測量目標(biāo)10的檢查區(qū)域。圖13是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的檢查方法的流程圖。圖14是示出在圖13 中示出的檢查方法中的參考數(shù)據(jù)的示例的平面圖。圖15是示出在圖13中示出的檢查方法 中的測量數(shù)據(jù)的示例的平面圖。參照圖13至圖15，根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，為了設(shè)置經(jīng)變形補償?shù)臋z查區(qū) 域，首先，在步驟S210中，在板上設(shè)置測量區(qū)域F0V。測量區(qū)域F0V指例如在板上設(shè)置的檢查板是否良好的預(yù)定區(qū)域。可以基于在諸如 圖1中示出的三維形狀測量設(shè)備的檢查設(shè)備中采用的相機210的拍攝范圍或視野來設(shè)置測 量區(qū)域F0V。然后，在步驟S220中，調(diào)用包括測量區(qū)域F0V的板的參考數(shù)據(jù)RI。參考數(shù)據(jù)RI可 以為例如圖14中所示的板的理論平面圖像。在示例性實施例中，可以從記錄有板的形狀的格伯信息或CAD信息得到參考數(shù)據(jù) RI。CAD信息或格伯信息可以包括板的設(shè)計信息，并通常包括焊盤60、電路圖案80、孔圖案 90等的構(gòu)造信息。在另一示例性實施例中，可以從學(xué)習(xí)模式下得到的學(xué)習(xí)信息獲得參考數(shù)據(jù)RI。學(xué) 習(xí)模式可以通過這樣的過程來實現(xiàn)，例如，諸如在數(shù)據(jù)庫中搜索板信息、在數(shù)據(jù)庫中沒有板 信息的情況下學(xué)習(xí)裸板、在通過學(xué)習(xí)裸板產(chǎn)生板信息之后在數(shù)據(jù)庫中存儲板信息。即，在學(xué) 習(xí)模式下，學(xué)習(xí)印刷電路板的裸板，并獲得印刷電路板的設(shè)計參考信息，可以由通過學(xué)習(xí)模 式得到學(xué)習(xí)信息來獲得參考數(shù)據(jù)RI。此后，在步驟S230中，獲得測量區(qū)域F0V的測量數(shù)據(jù)PI。測量數(shù)據(jù)PI可以為例如如圖15中所示的印刷電路板的實際拍攝圖像，其中，示出 了安裝在板上的部件70、端子72、在部件處形成的極性標(biāo)識(p0larindicati0n)74、電路圖 案80、孔92等。除了諸如部件70的額外元件之外，測量數(shù)據(jù)PI的如圖15中所示的圖像與 參考數(shù)據(jù)RI的圖像相同。然而，與參考數(shù)據(jù)RI相比，測量數(shù)據(jù)PI因板的翹曲、扭曲等而變 形。在示例性實施例中，可以這樣獲得測量數(shù)據(jù)PI，即，利用檢查設(shè)備的照明部分將光 照射到測量區(qū)域F0V上，并通過安裝在檢查設(shè)備中的相機拍攝反射照射的光所得的圖像。 可選擇地，可以這樣獲得測量數(shù)據(jù)PI，即，利用檢查設(shè)備的光柵圖案照明部分將光柵圖案光 照射到測量區(qū)域F0V上，拍攝反射照射的光柵圖案光所得的圖像以得到三維形狀的數(shù)據(jù)， 并對三維形狀的數(shù)據(jù)取平均。然后，在步驟S240中，在測量區(qū)域F0V中為預(yù)定的形狀信息按塊設(shè)置至少一個特 征塊(feature block)。
預(yù)定的形狀信息可以與圖1至圖12中描述的特征對象對應(yīng)。按塊設(shè)置與特征對 象對應(yīng)的預(yù)定的形狀信息，這與基于諸如角點、圓形、孔的坐標(biāo)來比較參考數(shù)據(jù)RI和測量 數(shù)據(jù)PI的方法相比可以更為正確。因為在板上存在許多角點、圓形等，在角點80a、80b設(shè)置得相鄰或者圓形90a、90b 設(shè)置得相鄰的情況下，如圖14和圖15中所示，當(dāng)在參考數(shù)據(jù)R1和測量數(shù)據(jù)PI之間比較角 點80a、80b和圓形90a、90b時會出現(xiàn)混淆。例如，會出現(xiàn)會將設(shè)置在參考數(shù)據(jù)RI的上部處 的角點80a與設(shè)置在測量數(shù)據(jù)PI的下部處的角點80b進行比較的誤差(error)，或者會出 現(xiàn)會將設(shè)置在參考數(shù)據(jù)RI的下部處的圓形90b與設(shè)置在測量數(shù)據(jù)PI的上部處的圓形90a 進行比較的誤差(error)。另外，當(dāng)比較圖14和圖15中示出的圓形90和孔92時，可因鉆 孔的精確性(即，孔92可移位，如圖15中所示)而導(dǎo)致沒有進行正確的比較。相反，在特征塊中存在許多不同的形狀。因此，根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，比較 參考數(shù)據(jù)RI的成塊的圖形信息和測量數(shù)據(jù)PI的成塊的形狀信息可防止在指定用于比較的 目標(biāo)對象方面出現(xiàn)誤差(error)。當(dāng)在設(shè)置特征塊的過程中重復(fù)性地存在基本相同的形狀時，在比較參考數(shù)據(jù)RI 中的特征塊內(nèi)的形狀信息和測量數(shù)據(jù)PI中的特征塊內(nèi)的形狀信息的過程中，可出現(xiàn)在指 定用于比較的目標(biāo)對象方面的誤差(error)。因此，可以設(shè)置特征塊以去除將特征塊中的圖 形信息作為相鄰的圖形信息的錯誤(mistakability)的可能性。另外，為了去除錯誤(mistakability)，可以將特征塊設(shè)置為具有二維標(biāo)識符。具 體地講，因為將特征塊設(shè)置在參考數(shù)據(jù)RI的一部分和測量數(shù)據(jù)PI的一部分處，如圖14和 圖15中所示，為了比較參考數(shù)據(jù)RI的形狀信息和測量數(shù)據(jù)PI的形狀信息，特征塊可以具 有限定二維平面的二維標(biāo)識符，以使兩個形狀信息精確地匹配。例如，可以在特征塊內(nèi)多樣 地包括彎曲的線、四邊形、圓形和它們的組合?？梢栽跈z查區(qū)域中設(shè)置一個或多個特征塊，例如，如圖14和圖15中所示，可以在 參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI中設(shè)置兩個特征塊第一特征塊FBI和第二特征塊TO2。例如，特征塊中的形狀信息可以具有多個形狀，諸如特征塊FB2，因此，可以正確 地獲得轉(zhuǎn)換關(guān)系。另外，在這樣的情況下，形狀信息中的形狀中的至少兩個形狀可以基本 相同。即，即使至少兩個形狀基本相同，但是按一塊來比較形狀信息中的形狀，以去除錯誤 (mistakability)0
在這樣的情況下，在形狀信息中的多個形狀可以具有二維標(biāo)識符。因此，在比較形 狀信息的過程中可以減少錯誤(mistakability)?？梢允紫仍趨⒖紨?shù)據(jù)RI中設(shè)置特征塊，然后可以在測量數(shù)據(jù)PI中設(shè)置對應(yīng)的特 征塊。可選擇地，可以首先在測量數(shù)據(jù)PI中設(shè)置特征塊，然后可以在參考數(shù)據(jù)RI中設(shè)置對 應(yīng)的特征塊。換句話說，當(dāng)在測量數(shù)據(jù)PI和參考數(shù)據(jù)RI中的一個中設(shè)置特征塊時，可以在 測量數(shù)據(jù)PI和參考數(shù)據(jù)RI中的另一中設(shè)置對應(yīng)的特征塊。在設(shè)置特征塊之前，可以將參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI疊置。在將參考數(shù)據(jù)RI和 測量數(shù)據(jù)PI疊置之后，可以設(shè)置特征塊，以去除錯誤(mistakability)。疊置可以包括將 與參考數(shù)據(jù)RI對應(yīng)的圖像和與測量數(shù)據(jù)PI對應(yīng)的圖像物理地疊置的概念，以及將參考數(shù) 據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI抽象地疊置的概念。在設(shè)置了檢查區(qū)域(將在下面進行描述)之后， 也可以執(zhí)行參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI的疊置，以校驗設(shè)置的檢查區(qū)域。
在示例性實施例中，可以手動地設(shè)置特征塊。具體地講，可以由工作者基于參考 數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI中的至少一個或疊置的參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI來限定特征塊。 例如，工作者可以在測量區(qū)域F0V中將彼此分開的并包括二維標(biāo)識符的一些塊設(shè)置為特征 塊。工作者可以將在測量區(qū)域F0V中均勻分布的多個區(qū)域設(shè)置為特征塊?？蛇x擇地，可以自動地設(shè)置特征塊。具體地講，可以通過圖像分析 (imageanalysis)來設(shè)置特征塊?？梢詫⒃跍y量區(qū)域F0V中均勻分布的區(qū)域設(shè)置為特征塊?？梢酝ㄟ^利用疊置來在特征塊中去除噪聲圖案。例如，測量數(shù)據(jù)PI可以包括印刷 在裸板上的絲狀圖案(silk pattern)，這與參考數(shù)據(jù)RI不同。因此，為了正確地比較形狀 信息，首先，從測量數(shù)據(jù)PI或疊置的參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI排除絲狀圖案。然后，可以 為排除了絲狀圖案的測量數(shù)據(jù)PI設(shè)置特征塊。此后，在步驟S250中，將與特征塊對應(yīng)的參考數(shù)據(jù)中的形狀信息和與特征塊對應(yīng) 的測量數(shù)據(jù)中的形狀信息進行比較，以獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系。圖16是示出獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系的方法的示例性實施例的 流程圖。參照圖16，首先，在步驟S252中，從多個特征塊選擇至少兩個特征塊。例如，選擇 的特征塊可以為圖14和圖15中的第一特征塊FBI和第二特征塊FB2。然后，在步驟S254中，通過利用選擇的至少兩個特征塊FBI和FB2來獲得參考數(shù) 據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI之間的量化的轉(zhuǎn)換式。與對應(yīng)于理論參考信息的參考數(shù)據(jù)RI相比，因 板的翹曲、扭曲等使測量數(shù)據(jù)PI變形。轉(zhuǎn)換式與將參考數(shù)據(jù)RI數(shù)學(xué)地轉(zhuǎn)換為測量數(shù)據(jù)PI 以補償變形度的數(shù)學(xué)式對應(yīng)。可以利用位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度中的至少一 個來確定量化的轉(zhuǎn)換式，通過比較與選擇的至少兩個特征塊FB 1和FB2對應(yīng)的參考數(shù)據(jù)RI 和測量數(shù)據(jù)PI而獲得的位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度中的至少一個。例如，可以使用式1來獲得轉(zhuǎn)換式。式1PCADf(tm) = Preal在式1中，PCAD是CAD信息或格伯信息中的目標(biāo)的坐標(biāo)，即，參考數(shù)據(jù)RI中的坐標(biāo)。 f (tm)與用作轉(zhuǎn)換矩陣(conversion matrix)或轉(zhuǎn)移矩陣(transfermatrix)的轉(zhuǎn)換式對 應(yīng)，Preal是通過相機獲得的測量數(shù)據(jù)PI中的目標(biāo)的坐標(biāo)。當(dāng)找到參考數(shù)據(jù)RI中的理論坐 標(biāo)PeAD和測量數(shù)據(jù)PI中的實際坐標(biāo)PMal時，可以獲知轉(zhuǎn)換矩陣。例如，轉(zhuǎn)換矩陣可以包括根據(jù)仿射轉(zhuǎn)換或透視轉(zhuǎn)換的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換矩陣，其中，點至點 關(guān)系被表示為n維空間中的第一階形式。為了限定坐標(biāo)轉(zhuǎn)換矩陣，可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)置特征塊 的數(shù)量，例如，在仿射轉(zhuǎn)換的情況下為大于等于三，在透視轉(zhuǎn)換的情況下為大于等于四。再次參照圖13至圖15，然后，在步驟S260中，通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系來補償變形，以在 測量區(qū)域中設(shè)置用于檢查測量目標(biāo)的檢查區(qū)域。例如，可以通過利用測量目標(biāo)中的變形度的轉(zhuǎn)換值以轉(zhuǎn)換測量數(shù)據(jù)PI，來設(shè)置測 量區(qū)域中的用于檢查測量目標(biāo)的檢查區(qū)域，其中，通過轉(zhuǎn)換關(guān)系來獲得測量目標(biāo)中的變形 度的轉(zhuǎn)換值，或者通過將與轉(zhuǎn)換關(guān)系相關(guān)的式子應(yīng)用于參考數(shù)據(jù)RI以進行轉(zhuǎn)換來獲得測 量目標(biāo)中的變形度的轉(zhuǎn)換值。因為轉(zhuǎn)換關(guān)系通過比較測量數(shù)據(jù)PI和參考數(shù)據(jù)RI來補償在測量數(shù)據(jù)PI中產(chǎn)生
15的變形，所以在設(shè)置的檢查區(qū)域中的形狀可以更接近于真實板的形狀?？梢耘c測量區(qū)域F0V 的整個區(qū)域相關(guān)地設(shè)置檢查區(qū)域，并可以僅與期望檢查的預(yù)定的檢查區(qū)域相關(guān)地設(shè)置檢查 區(qū)域。例如，在設(shè)置了期望檢查的預(yù)定的檢查區(qū)域，且通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系在測量數(shù)據(jù)PI 中設(shè)置了檢查區(qū)域之后，可以在檢查區(qū)域中檢查諸如部件的連接狀態(tài)的各種狀態(tài)。在這樣 的檢查中，可以使用先前在獲得測量區(qū)域F0V的測量數(shù)據(jù)PI的步驟(步驟S230)中獲得的 測量數(shù)據(jù)PI。此后，可選擇地，在步驟S270中，可以校驗設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效。在示例性實施例中，為了校驗，除了在設(shè)置特征塊的步驟(步驟S240)中設(shè)置的用 于比較形狀信息的特征塊(在下文中，稱為比較特征塊)之外，可以額外地設(shè)置用于校驗設(shè) 置的檢查區(qū)域的有效性的特征塊(在下文中，稱為校驗特征塊)。可以在設(shè)置特征塊的步驟 (步驟S240)中同時設(shè)置比較特征塊和校驗特征塊，或者可以之后設(shè)置校驗特征塊。因此，可以通過利用校驗特征塊來判斷測量目標(biāo)的設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效。圖17是示出校驗設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效的方法的示例性實施例的流程圖。參照圖17，首先，在步驟S272中，通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系對校驗特征塊進行轉(zhuǎn)換，且比 較經(jīng)轉(zhuǎn)換的特征塊和實際測量的校驗特征塊。因為經(jīng)轉(zhuǎn)換的校驗特征塊中的形狀信息存在于設(shè)置的檢查區(qū)域中，其中，通過轉(zhuǎn) 換關(guān)系對變形進行補償，所以在原理上，經(jīng)轉(zhuǎn)換的校驗特征塊中的形狀信息在位置上與實 際測量的校驗特征塊中的形狀信息幾乎相同，且可以判斷設(shè)置的檢查區(qū)域有效。然后，在步驟S273中，作為比較的結(jié)果，判斷位置差異是否在公差(tolerance) 內(nèi)。例如，在將經(jīng)轉(zhuǎn)換的校驗特征塊中的形狀信息所處的位置設(shè)置為坐標(biāo)，且將實際 測量的校驗特征塊中的形狀信息所處的位置也設(shè)置為坐標(biāo)之后，檢查坐標(biāo)之間的差異是 否在預(yù)定的公差內(nèi)?？梢酝ㄟ^板的尺寸、判斷是否良好的板需求標(biāo)準(zhǔn)(board-requiring criterion)等來確定公差。然后，在步驟S274中，校驗設(shè)置的檢查區(qū)域。具體地講，在設(shè)置的位置之間的差異在公差內(nèi)的情況下，設(shè)置的檢查區(qū)域被判斷 為有效，在設(shè)置的位置之間的差異不在公差內(nèi)的情況下，設(shè)置的檢查區(qū)域被判斷為無效。在 設(shè)置的檢查區(qū)域被判斷為無效的情況下，可以重復(fù)先前的過程，以重新設(shè)置轉(zhuǎn)換關(guān)系。如上所述，將在板上設(shè)置的測量區(qū)域F0V中的預(yù)定的形狀信息設(shè)置按塊設(shè)置為特 征塊FBI和FB2，比較與參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI的特征塊FBI和FB2對應(yīng)的形狀信息， 以獲得參考數(shù)據(jù)RI和測量數(shù)據(jù)PI之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系，從而正確地設(shè)置檢查區(qū)域。另外，在與特征塊FB 1和FB2對應(yīng)的形狀信息具有多個形狀時，可以更準(zhǔn)確地獲 得轉(zhuǎn)換關(guān)系。在形狀信息中的至少兩個形狀基本相同的情況下，可以按一塊來比較形狀信 息中的形狀，以減少錯誤(mistakability)。另外，當(dāng)特征塊FBI和FB2中的形狀信息具有二維標(biāo)識符時，可以在比較形狀信息 的過程中減少錯誤(mistakability)。另外，可以基于設(shè)置的檢查區(qū)域來執(zhí)行諸如部件的檢查的工作，從而更準(zhǔn)確地判 斷板是否良好。
對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說應(yīng)該是明顯的是，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況 下，可以在本發(fā)明中進行各種修改和改變。因此，在本發(fā)明的修改和改變落入權(quán)利要求及其 等同物的范圍內(nèi)的情況下，本發(fā)明意圖覆蓋本發(fā)明的修改和變形。
權(quán)利要求
一種檢查方法，包括如下步驟將測量目標(biāo)設(shè)置到載物臺上；調(diào)用測量目標(biāo)的參考數(shù)據(jù)；獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)；選擇測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)和參考數(shù)據(jù)中的至少一個特征對象；提取從參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)中的每個選擇的特征對象的至少一個特征變量；通過利用特征變量和量化的轉(zhuǎn)換式來產(chǎn)生測量目標(biāo)的改變量；補償產(chǎn)生的改變量，以設(shè)置檢查區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中， 測量目標(biāo)包括印刷電路板，特征對象包括形成在印刷電路板上的角點和電路元件的形狀、圖案和孔中的至少一個，特征變量包括點的坐標(biāo)、線的斜率、線的尺寸、兩個點的坐標(biāo)之間的差異中的至少一個。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，測量目標(biāo)的改變量包括垂直斜率的改變量和高度 的改變量中的至少一個。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，利用通過將在參考數(shù)據(jù)中選擇的特征對象的平面 形狀與在獲得的測量數(shù)據(jù)中的選擇的特征對象對應(yīng)的特征目標(biāo)的平面形狀進行比較而產(chǎn) 生的幾何變形來獲得垂直斜率的改變量。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，在通過利用特征變量和量化的轉(zhuǎn)換式來產(chǎn)生測量目標(biāo)的 改變量的步驟之前，所述方法還包括如下步驟通過利用參考數(shù)據(jù)的特征變量和測量數(shù)據(jù)的特征變量之間的位置改變、斜率改變、尺 寸改變、變換度中的至少一個來設(shè)置轉(zhuǎn)換等式。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中， 設(shè)置轉(zhuǎn)換式的步驟包括將與參考數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的坐標(biāo)空間設(shè)置為第一坐標(biāo)空間； 將與測量數(shù)據(jù)的特征對象對應(yīng)的坐標(biāo)空間設(shè)置為第二坐標(biāo)空間； 將包括位置改變、斜率改變、尺寸改變、變換度中的至少一個的第一坐標(biāo)空間轉(zhuǎn)換至第 二坐標(biāo)空間的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系式表示為包括至少一個未知量轉(zhuǎn)換等式， 設(shè)置檢查空間的步驟包括將參考數(shù)據(jù)的特征變量和測量數(shù)據(jù)的特征變量表示為轉(zhuǎn)換等式；獲得包括在轉(zhuǎn)換等式中的未知量，以最終確定轉(zhuǎn)換式；通過利用最終確定的轉(zhuǎn)換式來設(shè)置補償了從改變量得出的變形的檢查區(qū)域。
7.一種檢查方法，包括如下步驟 將測量目標(biāo)設(shè)置到載物臺上；調(diào)用包括測量目標(biāo)的第一特征對象的參考數(shù)據(jù)； 獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)；從測量數(shù)據(jù)提取與第一特征對象對應(yīng)的第二特征對象；比較第一特征對象的平面形狀和第二特征對象的平面形狀，以檢查并量化幾何變形，從而產(chǎn)生沿測量目標(biāo)的垂直方向的改變量； 基于改變量來設(shè)置檢查區(qū)域。
8.如權(quán)利要7所述的方法，其中，第一特征對象具有多邊形形狀。
9.一種檢查方法，包括如下步驟 在板上設(shè)置測量區(qū)域；調(diào)用測量區(qū)域的參考數(shù)據(jù)； 獲得測量區(qū)域的測量數(shù)據(jù)； 按塊在測量區(qū)域中設(shè)置至少一個特征塊；比較參考數(shù)據(jù)中的特征塊的第一形狀信息和測量數(shù)據(jù)中的特征塊的第二形狀信息，以 獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系；通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系來補償變形，以設(shè)置用于檢查測量目標(biāo)的檢查區(qū)域。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，多個形狀在與特征塊對應(yīng)的形狀信息中。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中，形狀信息中的形狀中的至少兩個形狀基本相同。
12.如權(quán)利要求10所述的方法，其中，形狀信息具有二維標(biāo)識符。
13.如權(quán)利要求10所述的方法，其中，特征塊為多個，比較參考數(shù)據(jù)中的與特征塊對應(yīng)的形狀信息和測量數(shù)據(jù)中的與特征塊對應(yīng)的形狀信 息，以獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系的步驟包括 從多個特征塊選擇至少兩個特征塊；通過利用選擇的至少兩個特征塊來獲得參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)之間的量化的轉(zhuǎn)換式。
14.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，按塊在測量區(qū)域中設(shè)置預(yù)定的形狀信息的至少一個特征塊的步驟包括 設(shè)置比較特征塊，以比較形狀信息；設(shè)置校驗特征塊，以校驗測量目標(biāo)的設(shè)置的檢查區(qū)域的有效性， 所述方法還包括通過利用校驗特征塊來判斷測量目標(biāo)的設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效的 步驟，校驗檢查目標(biāo)的設(shè)置的檢查區(qū)域是否有效的步驟包括 通過利用轉(zhuǎn)換關(guān)系對校驗特征塊進行轉(zhuǎn)換； 測量校驗特征塊；比較經(jīng)轉(zhuǎn)換的特征塊和測量的校驗特征塊，以判斷經(jīng)轉(zhuǎn)換的特征塊和測量的校驗特征 塊之間的位置差異是否在公差內(nèi)；當(dāng)位置差異在公差外時，重新設(shè)置轉(zhuǎn)換關(guān)系。
15.如權(quán)利要求9所述的方法，所述方法還包括疊置參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)的步驟。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，所述方法還包括通過利用疊置來去除特征塊中的噪聲 圖案。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種檢查方法。為了設(shè)置檢查區(qū)域，將測量目標(biāo)設(shè)置到載物臺上，調(diào)用測量目標(biāo)的參考數(shù)據(jù)，并獲得測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)。然后，在測量目標(biāo)的測量數(shù)據(jù)和參考數(shù)據(jù)中選擇至少一個特征對象，并從參考數(shù)據(jù)和測量數(shù)據(jù)中的每個提取選擇的特征對象的至少一個特征變量。此后，通過利用特征變量和量化的轉(zhuǎn)換式來產(chǎn)生測量目標(biāo)的改變量，并補償產(chǎn)生的改變量，以設(shè)置檢查區(qū)域。因此，補償了測量目標(biāo)的變形，以正確地設(shè)置檢查區(qū)域。
文檔編號G01N21/956GK101852745SQ20101015832
公開日2010年10月6日 申請日期2010年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月30日
發(fā)明者李承埈, 金熙泰, 高光一, 黃鳳夏 申請人:株式會社高永科技