專利名稱:用于x熒光光譜儀的光斑定位調(diào)整方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及x熒光光譜儀的步進(jìn)控制技術(shù),尤其涉及一種可以精確定位光
語儀光斑并進(jìn)行初始化調(diào)整的方法以及裝置。
背景技術(shù):
x熒光光譜儀是一種不損傷影響產(chǎn)品材質(zhì)情況下,用于檢測其物質(zhì)成分的探測分析裝置,利用了x熒光照射多組分物質(zhì)表面時(shí)所激發(fā)的能量色散作用,它的工作效率高, 一般多元素樣品的分析時(shí)間僅為兩至三分鐘,所以被廣泛應(yīng)用于各種化工、冶金行業(yè)的產(chǎn)品檢測。
如圖1所示,為現(xiàn)有常見的X熒光光譜儀系統(tǒng)示意圖,主要包括X射線發(fā)射系統(tǒng)lOl和用于承載被測樣品的可移動(dòng)的樣品臺102,以及在X光發(fā)射系統(tǒng)101的一側(cè)設(shè)置的檢測分析系統(tǒng)103。 一般還設(shè)有移動(dòng)控制系統(tǒng)104控制電機(jī)105驅(qū)動(dòng)樣品臺。
X焚光光譜儀在使用時(shí),需用X射線發(fā)射系統(tǒng)101所產(chǎn)生的X射線照射被測樣品106的表面,激發(fā)樣品表面原子所產(chǎn)生的X熒光信息被探測分析系統(tǒng)103獲取分析,圖中的光路4又表示意,基本上X射線照射的入射角與產(chǎn)生X熒光的出射角相同;當(dāng)樣品放入樣品臺之后,需移動(dòng)樣品臺將樣品的測試點(diǎn)對準(zhǔn)X射線的光斑。由于X射線是肉眼無法分辨的,且每次使用后,X射線照射的光斑初始位置相對于樣品臺在一定范圍內(nèi)是隨機(jī)的,這是因?yàn)槊看问褂脮r(shí),樣品臺都會被移動(dòng)使得樣品各處表面被X射線照射檢測,下一次使用的人員可能并不清楚光斑照射的具體位置。所以在下一次照射分析前需要將光斑位置,也即X射線相對于樣品臺的照射位置準(zhǔn)確定位,并進(jìn)行初始化調(diào)整。目前,X熒光光語儀的光斑定位主要采用兩種方法
一、 將熒光紙置于照射區(qū)范圍,當(dāng)X射線照射在熒光紙上產(chǎn)生可見光斑,再用肉眼進(jìn)行目測。這種方法定位較為粗略,只適合大尺寸樣品測試等定位要求不高的使用環(huán)境中,而無法滿足精密測試的需求。
二、 激光對準(zhǔn)定位,使用一些可見激光與X射線發(fā)射系統(tǒng)同軸照射,根據(jù)可視激光的照射位置定位X射線照射的光斑。這種方法雖然定位較為準(zhǔn)確,但是初始化時(shí)仍然需用人為操作移動(dòng)樣品臺進(jìn)行調(diào)整修正,且高能的激光有可能破壞被測樣品的表面結(jié)構(gòu)。
所以針對當(dāng)前的X熒光光譜儀的日益精準(zhǔn)的測試需求,需要改進(jìn)現(xiàn)有的光斑定位方法,實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確定位的同時(shí)還能快速有效地進(jìn)行調(diào)整。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所解決的問題是提供一種用于x熒光光譜儀的光斑定位調(diào)整方法
及裝置,實(shí)現(xiàn)光斑的精確定位以及快速調(diào)整。
本發(fā)明提供的一種光斑定位調(diào)整方法,主要步驟包括提供狹縫板,設(shè)置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區(qū);所述狹縫板上設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈"L"字形的兩條狹縫,并以兩條狹縫的中心線分別為x軸、y軸建立直角坐標(biāo)系,兩軸的交點(diǎn)為原點(diǎn);設(shè)定光斑初始化位置的坐標(biāo);
沿平行于任意一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;
沿平行于另一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;
根據(jù)上述起始位置以及初始化位置的坐標(biāo),移動(dòng)樣品臺將光斑定位于初始化位置。根據(jù)上述方法所提供的 一種光斑定位調(diào)整裝置,主要包括
狹縫板,設(shè)置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區(qū);所述狹縫板上設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈"L"字形的兩條狹縫;兩個(gè)步進(jìn)電機(jī),分別使得樣品臺沿狹縫方向移動(dòng),并記錄樣品臺的位移;樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng),用于控制步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)樣品臺;光斑感應(yīng)裝置,設(shè)置于狹縫板,用于判定光斑與狹縫中心線重合。作為優(yōu)選方案,利用X熒光光譜^C的^r測分析系統(tǒng)作為光斑感應(yīng)裝置,
接收X射線照射狹縫板后產(chǎn)生的X熒光或者透射的X射線并進(jìn)行分析。
作為優(yōu)選方案,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板產(chǎn)生的X熒光的強(qiáng)
度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,產(chǎn)生的X熒光強(qiáng)度最小時(shí),確定
光斑與狹縫中心線重合。
作為另一個(gè)優(yōu)選方案,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板所透射的X
射線強(qiáng)度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,透射的X射線強(qiáng)度最大時(shí),
確定光斑與狹縫中心線重合。
作為優(yōu)選方案,所述狹縫位于照射區(qū)內(nèi)側(cè)邊緣,且寬度不大于光斑的斑徑。
本發(fā)明通過采用可記錄位移的步進(jìn)電機(jī)沿兩坐標(biāo)軸移動(dòng)樣品臺,并結(jié)合光斑感應(yīng)裝置確定光斑的起始位置坐標(biāo),可精確的對光斑進(jìn)行定位,同時(shí)也能快速的調(diào)整光斑至初始化位置。具有裝置結(jié)構(gòu)簡單,易于改裝至光譜儀,適用范圍廣泛,定位調(diào)整迅速精確的優(yōu)點(diǎn)。
圖1為常見的x熒光光譜儀結(jié)構(gòu)示意圖
圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例X熒光光語儀結(jié)構(gòu)示意圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例光斑定位調(diào)整裝置結(jié)構(gòu)示意6圖4為光斑感應(yīng)裝置的計(jì)數(shù)率關(guān)于位移距離的曲線示意圖; 圖5為本發(fā)明所述光斑定位調(diào)整方法的步驟示意圖; 圖6本發(fā)明所述光斑定位調(diào)整裝置的狹縫板坐標(biāo)系示意圖。
具體實(shí)施例方式
在本發(fā)明的具體實(shí)施方式
中,詳細(xì)描述了可在X熒光光譜儀的樣品臺上 準(zhǔn)確定位光斑并初始化調(diào)整的光斑定位調(diào)整裝置的必要結(jié)構(gòu)以及該定位裝置 的定位方法。應(yīng)當(dāng)理解的是,以下描述為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,并不構(gòu)成對 權(quán)利要求范圍的限制?,F(xiàn)結(jié)合說明書附圖,對本發(fā)明的具體實(shí)施例作進(jìn)一步 介紹。
首先如圖2所示,本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所述的X熒光光譜儀必要結(jié)構(gòu),包括X 射線發(fā)射系統(tǒng)201、樣品臺202以及檢測分析系統(tǒng);其中,X熒光光譜儀的檢測 分析系統(tǒng)自身就具備接收X熒光或者X射線并進(jìn)行定性分析的能力,因此可利 用檢測分析系統(tǒng)作為本發(fā)明所述的光斑感應(yīng)裝置330,后述內(nèi)容均用光斑感應(yīng) 裝置330指代;除此之外,本發(fā)明所述的光斑定位調(diào)整裝置還包括步進(jìn)電機(jī) 310、狹縫板320以及樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340。
其中,X射線發(fā)射系統(tǒng)201以及光斑感應(yīng)裝置330 (即檢測分析系統(tǒng))的配 置為現(xiàn)有公知技術(shù),此處不再贅述,樣品臺202用于承載樣品的一面是一個(gè)平 整的平臺,除圖示之外還應(yīng)當(dāng)設(shè)置其他一些附屬結(jié)構(gòu),例如用于固定樣品的 固定裝置等,因此可根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置。
樣品臺202上安裝有狹縫板320,為了不影響樣品臺202的平整性,可將狹 縫板,嵌入樣品臺202中。X射線發(fā)射系統(tǒng)201的照射光i 各面向狹縫板320,在 狹縫板320正面設(shè)置的光斑感應(yīng)裝置330,其感應(yīng)面也面向狹縫板320。圖中, 照射光路的主光軸成一定角度照射狹縫板320,產(chǎn)生的X熒光光路由光斑感應(yīng) 裝置330的感應(yīng)面所接收,然而這僅僅是一個(gè)非限制性的示例,因?yàn)楸景l(fā)明領(lǐng)域技術(shù)人員很容易知道,實(shí)際的照射光路是可以調(diào)整的,產(chǎn)生x熒光的出射角
與照射光路的入射角基本相同,此外光斑感應(yīng)裝置330的感應(yīng)面除了可接收產(chǎn) 生的X熒光進(jìn)行分析之外,還可以接收透射的X射線進(jìn)行分析,所以光斑感應(yīng) 裝置330并非僅如圖2中裝置于狹縫板320的正面,還可以置于其背面安裝于樣 品 臺202的內(nèi)部等等。
樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340接收來自于光斑感應(yīng)裝置330的感應(yīng)信號,控制 步進(jìn)電機(jī)310驅(qū)動(dòng)樣品臺202移動(dòng)。在現(xiàn)有技術(shù)中,樣品臺的移動(dòng)主要為三維 移動(dòng),除了控制樣品臺的升降至最佳照射距離之外,還能夠在同一個(gè)照射平 面內(nèi)作兩維平移。 一般為了控制簡便,兩維平移分別通過兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行, 此處同樣為現(xiàn)有的公知技術(shù)。而本發(fā)明中所述光斑定位調(diào)整裝置便利用其中 兩維平移,具體見后述。
再如圖3所示,為本發(fā)明所述光斑定位調(diào)整裝置結(jié)構(gòu)示意圖,可從圖2所 述的X熒光光譜儀俯視其樣品臺得到。
步進(jìn)電機(jī)310包括垂直步進(jìn)電機(jī)311和水平步進(jìn)電機(jī)312,分別驅(qū)動(dòng)樣品臺 202在兩個(gè)垂直或者水平方向上的移動(dòng),并將精確的位移信息反饋給樣品臺移 動(dòng)控制系統(tǒng)340。此處的垂直或者水平方向僅僅針對于圖3所示平面,為方便 示意說明而非限制性的示例,后續(xù)所述的垂直或者水平方向也同理不再贅述。 實(shí)際上樣品臺202相對于X射線發(fā)射系統(tǒng)201,進(jìn)行樣品;險(xiǎn)測以及光斑定位時(shí)只 在一個(gè)兩維的平面上進(jìn)行移動(dòng),兩者之間的距離保持恒定。另外,從前述可 知現(xiàn)有的X熒光光譜儀樣品臺在照射檢測中,已經(jīng)具備精確的移動(dòng)能力,所以 完全可以使用光譜儀原有的傳動(dòng)機(jī)構(gòu),而無需另行安裝移動(dòng)控制系統(tǒng)以及步 進(jìn)電機(jī)。
樣品臺202因?yàn)樵谡丈淦矫鎯?nèi)移動(dòng)而可能被X射線照射的區(qū)域?yàn)檎丈鋮^(qū)如 圖3中虛線框所示,通過定義可知,照射區(qū)也即X射線光斑可能出現(xiàn)的區(qū)域。
8通常樣品臺的移動(dòng)總是在兩個(gè)方向上進(jìn)行,其照射區(qū)為矩形,但這也僅僅是 一個(gè)非限制性的示例,本領(lǐng)域技術(shù)人員知道,照射區(qū)完全可以為任意形狀, 完全取決于X熒光光譜儀自身的照射光路以及樣品臺的移動(dòng)范圍。
狹縫板320設(shè)置于樣品臺202上,且覆蓋所述照射區(qū)。在狹縫板320上 設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈"L"字形的兩條狹縫;如圖3中垂直方向 的狹縫321以及水平方向的狹縫322。這兩條狹縫盡可能的設(shè)置于照射區(qū)內(nèi)側(cè) 的邊緣,以確保光斑的起始位置處于由該兩條狹縫的中心線所構(gòu)成的直角坐 標(biāo)系的第一象限。
狹縫板320的形狀可根據(jù)樣品臺的實(shí)際空間進(jìn)行設(shè)置。材質(zhì)則根據(jù)需要 進(jìn)行選擇,比如易于感應(yīng)X射線激發(fā)產(chǎn)生X熒光,這樣被照射之后容易形成 較高強(qiáng)度的X熒光,而易于被光斑感應(yīng)裝置330所接收;或者可阻擋X射線, 這樣被照射后在狹縫以外的區(qū)域難以透射較明顯的X射線,而易于被光斑感 應(yīng)裝置330所辨別。
上述光斑感應(yīng)裝置330,圖3中為示出,用于判定光斑是否與狹縫的中心 線重合。
作為一個(gè)實(shí)施例,光斑感應(yīng)裝置設(shè)置于狹縫板的正面,可感應(yīng)X射線照 射在狹縫板上所激發(fā)產(chǎn)生的X熒光?,F(xiàn)有的一種表征光強(qiáng)度的方式是計(jì)數(shù)率 CPS,其含義為在單位時(shí)間內(nèi)所接收到的光子數(shù)量。如圖4為光斑感應(yīng)裝置感 應(yīng)接收到X熒光的計(jì)數(shù)率關(guān)于位移距離的曲線示意圖,所述的位移距離為照 射光斑在狹縫板上移動(dòng),從某一點(diǎn)向狹縫靠近時(shí),所經(jīng)歷的行程。當(dāng)X射線 照射在狹縫板其他位置時(shí),激發(fā)狹縫板表面的原子,產(chǎn)生的X熒光強(qiáng)度是均 勻固定的,計(jì)數(shù)率應(yīng)當(dāng)保持在一個(gè)較高的固定值呈一條直線。而在狹縫處, 由于X射線將穿過狹縫板,此時(shí)產(chǎn)生的X熒光強(qiáng)度應(yīng)當(dāng)大大減弱,由于光斑 是有大小的,所以光斑掃過狹縫板經(jīng)過狹縫邊緣時(shí),計(jì)數(shù)率CPS也是遞減, 直到光斑位于狹縫中心線時(shí),計(jì)數(shù)率CPS應(yīng)當(dāng)處于最小值,也即計(jì)數(shù)率最小時(shí),可確定光斑與狹縫的中心線重合,而此時(shí)曲線中光斑從某點(diǎn)開始向狹縫
靠近所經(jīng)過的位移D,也即該點(diǎn)與狹縫的距離。
作為另一個(gè)實(shí)施例,光斑感應(yīng)裝置還可設(shè)置于狹縫板的背面,感應(yīng)X射 線照射狹縫板時(shí)所透射的X射線強(qiáng)度。此時(shí)光斑感應(yīng)裝置所測得的計(jì)數(shù)率關(guān) 于位移距離的曲線示意圖與上述實(shí)施例相反,當(dāng)X射線照射在狹縫板其他位 置時(shí),透射的X射線強(qiáng)度也是均勻固定的,但計(jì)數(shù)率應(yīng)當(dāng)保持在一個(gè)較低的 值呈一條直線,而在狹縫中心線處,由于X射線直接穿過狹縫板,此時(shí)透射 的X射線強(qiáng)度最大,即計(jì)數(shù)率CPS最大時(shí),確定光斑與狹縫的中心線重合, 曲線中光斑從某點(diǎn)開始向狹縫靠近所經(jīng)過的位移D,也即該點(diǎn)與狹縫的距離。
在上述兩種實(shí)施例中,狹縫的寬度最好不大于光斑的斑徑,這是因?yàn)槿?果狹縫寬度過大,會使得整個(gè)X射線完全穿過狹縫板,CPS的極值將呈一條直 線而非一點(diǎn),不便于采集位移值數(shù)據(jù)。
圖5為本發(fā)明所述光斑定位調(diào)整方法的步驟示意圖,結(jié)合裝置示意圖進(jìn)行 說明,在提供了前述裝置之后,主要步驟包括
51、 以狹縫板上兩條互相垂直的狹縫的中心線為x軸以及y軸,建立直角 坐標(biāo)系。
52、 設(shè)定光斑的初始化位置的坐標(biāo)。
53、 沿平行于任意一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置 在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;沿平行于另一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣 品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置。
54、 根據(jù)起始位置B以及初始化位置A的坐標(biāo),移動(dòng)樣品臺將光斑定位于 初始化位置A。
以下將對上述方法進(jìn)行詳細(xì)說明。先進(jìn)行步驟Sl,結(jié)合圖3以及圖6所示,以垂直的狹縫321的中心線作為y 軸,水平的狹縫322的中心線作為x軸,兩軸的交點(diǎn)o為原點(diǎn)。由于狹縫321以 及狹縫322設(shè)置于狹縫板中照射區(qū)內(nèi)的左側(cè)和下側(cè)邊緣,所以基本上光斑的起 始位置將落在直角坐標(biāo)系的第一象限。
再進(jìn)行步驟S2,如果預(yù)想讓光斑的位置初始化調(diào)整至圖6狹縫板中的A點(diǎn), A點(diǎn)可以在狹縫板上的照射區(qū)內(nèi)任意設(shè)定,假設(shè)坐標(biāo)為(A, D2 ),那么A, Z^分別表示A點(diǎn)距離狹縫321的水平距離以及距離狹縫322的垂直距離。
然后進(jìn)行步驟S3,再如圖6,假設(shè)X熒光光語儀開啟后,X射線照射的光 斑位置在B點(diǎn),實(shí)際上由于X射線的不可視性,B點(diǎn)的位置坐標(biāo)(A', D;) 也是未知的,需要經(jīng)過如下步驟來確定
因?yàn)锽點(diǎn)處于坐標(biāo)軸的第一象限,所以圖6中B點(diǎn)應(yīng)當(dāng)處于狹縫321的 右側(cè)以及狹縫322的上側(cè)。
先樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340啟動(dòng)水平的步進(jìn)電機(jī)312,移動(dòng)樣品臺向右移 動(dòng)。相對而言,光斑將從B點(diǎn)向狹縫321靠近。利用前述的光斑感應(yīng)裝置, 確定光斑與狹縫321的中心線重合時(shí),移動(dòng)停止。此時(shí)平臺的位移距離也即B 點(diǎn)的橫坐標(biāo)A的值。將此值反饋給樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340,再控制步進(jìn)電機(jī) 312反相移動(dòng)樣品臺已知的位移值D;,使得光斑回復(fù)到B點(diǎn)。
再啟動(dòng)垂直的步進(jìn)電才幾311,移動(dòng)樣品臺向上移動(dòng),相對而言,光斑將/人 B點(diǎn)向狹縫322靠近。同樣利用光斑感應(yīng)裝置,確定光斑與狹縫3"的中心線 重合時(shí),移動(dòng)停止。此時(shí)平臺的位移距離也即B點(diǎn)的縱坐標(biāo)"的值。將此值 反饋給樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340,再控制步進(jìn)電機(jī)322反相移動(dòng)樣品臺已知的 位移值Z);,使得光斑回復(fù)到B點(diǎn)。
對于步進(jìn)電機(jī),其指定位移的移動(dòng)一般通過/) = ^來控制,因?yàn)椴竭M(jìn)電機(jī) 的移動(dòng)速度是可以精確調(diào)整的,整個(gè)移動(dòng)一般為多次步進(jìn)的勻速運(yùn)動(dòng),所以 只要應(yīng)用樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340記錄各階段的移動(dòng)的時(shí)間,以實(shí)現(xiàn)固定路程的精確位移。
經(jīng)過以上方法得到b點(diǎn)的坐標(biāo)(A', d;),上述過程中確定橫縱坐標(biāo)的先 后順序是可以顛倒的,其過程是本發(fā)明領(lǐng)域技術(shù)人員容易推得的,不再贅述。
最后進(jìn)行步驟S4,進(jìn)行光斑的初始化調(diào)整,其具體方法為 根據(jù)A、 b兩點(diǎn)在橫縱坐標(biāo)上的差值,設(shè)定修正參數(shù)。 橫坐標(biāo)的修正參數(shù)為《=A -A';
縱坐標(biāo)的修正參數(shù)為& = d2 -z);。
將上述修正參數(shù)分別輸入樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng)340作為位移量,控制水 平步進(jìn)電機(jī)312以及垂直步進(jìn)電機(jī)311移動(dòng)樣品臺,^f吏得樣品臺202沿x軸 向右移動(dòng)《,沿y軸向上移動(dòng)&,最終使得光斑定位調(diào)整于初始化位置A點(diǎn)。 其中,《以及《為負(fù)數(shù)值時(shí),上述的平移方向反向。
經(jīng)過上述步驟最終完成了 x熒光光譜儀的光斑定位以及初始化調(diào)整過程。
本發(fā)明雖然以較佳實(shí)施例公開如上,但其并不是用來限定本發(fā)明,任何 本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),都可以^l出可能的變動(dòng)和 修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以本發(fā)明權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
1權(quán)利要求
1.一種用于X熒光光譜儀的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,包括提供狹縫板,設(shè)置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區(qū);所述狹縫板上設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈“L”字形的兩條狹縫,并以兩條狹縫的中心線分別為x軸、y軸建立直角坐標(biāo)系,兩軸的交點(diǎn)為原點(diǎn);設(shè)定光斑初始化位置的坐標(biāo);沿平行于任意一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;沿平行于另一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;根據(jù)上述起始位置以及初始化位置的坐標(biāo),移動(dòng)樣品臺將光斑定位于初始化位置。
2. 如權(quán)利要求1所述的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,所述測試起始位置在坐標(biāo)軸上的坐標(biāo),具體方法為建立狹縫的直角坐標(biāo)系時(shí),確保光斑起始位置在第一象限,利用X熒光光譜儀的檢測分析系統(tǒng)作為光斑感應(yīng)裝置;沿某一狹縫平行的方向移動(dòng)樣品臺,使得光斑向另一狹縫靠近,直至光斑感應(yīng)裝置確定光斑與該狹縫的中心線重合;此時(shí)樣品臺的行程即光斑起始位置在移動(dòng)方向所在軸上的坐標(biāo)。
3. 如權(quán)利要求2所述的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板產(chǎn)生的X熒光的強(qiáng)度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,產(chǎn)生的X焚光強(qiáng)度最小時(shí),確定光斑與狹縫中心線重合。
4. 如權(quán)利要求2所述的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板所透射的X射線強(qiáng)度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,透射的X射線強(qiáng)度最大時(shí),確定光斑與狹縫中心線重合。
5. 如權(quán)利要求1所述的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,所述狹縫的寬度不大于光斑的5趕徑。
6. 如權(quán)利要求1所述的光斑定位調(diào)整方法,其特征在于,所述根據(jù)起始位置以及初始化位置的坐標(biāo),移動(dòng)樣品臺將光斑定位于初始化位置,具體方法為根據(jù)兩點(diǎn)在某一軸的坐標(biāo)差值,設(shè)定樣品臺沿該軸的移動(dòng)距離,移動(dòng)樣品臺。
7. —種用于X熒光光譜儀的光斑定位調(diào)整裝置,其特征在于,包括狹縫板,設(shè)置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區(qū);所述狹縫板上設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈"L"字形的兩條狹縫;兩個(gè)步進(jìn)電機(jī),分別使得樣品臺沿狹縫方向移動(dòng),并記錄樣品臺的位移;樣品臺移動(dòng)控制系統(tǒng),用于控制步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)樣品臺;光斑感應(yīng)裝置,設(shè)置于狹縫板,用于判定光斑與狹縫中心線重合。
8. 如權(quán)利要求7所述的光斑定位調(diào)整裝置,其特征在于,利用X熒光光謙儀的檢測分析系統(tǒng)作為光斑感應(yīng)裝置,接收X射線照射狹縫板后產(chǎn)生的X熒光或者透射的X射線并進(jìn)行分析。
9. 如權(quán)利要求7所述的光斑定位調(diào)整裝置,其特征在于,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板產(chǎn)生的X熒光的強(qiáng)度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,產(chǎn)生的X熒光強(qiáng)度最小時(shí),確定光斑與狹縫中心線重合。
10. 如權(quán)利要求7所述的光斑定位調(diào)整裝置,其特征在于,光斑感應(yīng)裝置感應(yīng)X射線照射狹縫板所透射的X射線強(qiáng)度,當(dāng)照射的光斑在狹縫板上移動(dòng)至狹縫,透射的X射線強(qiáng)度最大時(shí),確定光斑與狹縫中心線重合。
11. 如權(quán)利要求7所述的光斑定位調(diào)整裝置,其特征在于,所述狹縫位于照射區(qū)的內(nèi)側(cè)邊鄉(xiāng)彖,且寬度不大于光斑的斑徑。
全文摘要
一種用于X熒光光譜儀的光斑定位調(diào)整方法及裝置,其中定位調(diào)整方法包括提供狹縫板,設(shè)置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區(qū);狹縫板上設(shè)有位于照射區(qū)內(nèi),且互相垂直呈“L”字形的兩條狹縫,以兩條狹縫中心線分別為坐標(biāo)軸建立直角坐標(biāo)系,兩軸交點(diǎn)為原點(diǎn);設(shè)定光斑初始化位置的坐標(biāo);沿平行于任意一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;沿平行于另一坐標(biāo)軸的方向移動(dòng)所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸的坐標(biāo),并回復(fù)至起始位置;根據(jù)上述起始位置以及初始化位置的坐標(biāo),移動(dòng)樣品臺將光斑定位于初始化位置。本發(fā)明具有裝置結(jié)構(gòu)簡單,易于改裝至光譜儀,適用范圍廣泛,定位調(diào)整迅速精確的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號G01N23/223GK101551347SQ200910129548
公開日2009年10月7日 申請日期2009年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月26日
發(fā)明者劉召貴, 剛 應(yīng), 李玉花, 李勝輝 申請人:江蘇天瑞儀器股份有限公司