專利名稱:離合器表面鑲片或有關(guān)離合器表面鑲卡的改進(jìn)的制作方法
本發(fā)明涉及離合器襯片，特別涉及具有表面溝槽的離合器表面鑲片。
離合器表面鑲片一般采用圓環(huán)形的形式，這個(gè)圓環(huán)由摩擦墊襯材料制成。並被固定到一個(gè)離合器片上。使之具有溝槽，溝槽或是在徑向方向，或是在與徑向方向成一銳角的方向穿過圓環(huán)寬度而延伸已是眾所周知的技術(shù)。
開設(shè)溝槽具有許多優(yōu)點(diǎn)，這些優(yōu)點(diǎn)包括(Ⅰ)大大地改進(jìn)了傳遞扭矩的能力和坡道起動(dòng)的性能;
(Ⅱ)減少了顫抖的傾向;
(Ⅲ)改進(jìn)了調(diào)整性能;
(Ⅳ)改進(jìn)了對(duì)“粘合”的抗力(“粘合”是指表面鑲片粘附于與其配合的表面上的現(xiàn)象，這種現(xiàn)象阻止離合器被分開。
然而，開設(shè)溝槽也帶來(lái)了許多缺點(diǎn)。在用模壓制造的離合器表面鑲片的情況下，如果在表面鑲片上機(jī)加工出溝槽，則這些溝槽的制造費(fèi)用增加，如果在表面鑲片上模壓出溝槽，則要降低這些溝槽的破裂強(qiáng)度。
本發(fā)明特別適合于(但不是僅適合于)在一個(gè)薄的、重量輕的模壓離合器表面鑲片中的溝槽結(jié)構(gòu)，這樣可以在獲得溝槽的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，保持表面鑲片具有滿意的強(qiáng)度。
根據(jù)本發(fā)明，一個(gè)模壓圓環(huán)形離合器表面鑲片(如下面所述的那樣)具有許多的表面溝槽，在這些表面溝槽中，每一個(gè)表面溝槽都是在表面鑲片上模壓而制成，每一個(gè)表面溝槽的橫向延伸都不超過圓環(huán)寬度的一半，每一個(gè)表面溝槽的深度不超過表面鑲片厚度的40%，溝槽被布置成或是從圓環(huán)的中心孔處或是從圓環(huán)的外園周處延伸。
在這個(gè)“模壓表面鑲片”的詳細(xì)說(shuō)明中，我們所指的離合器表面鑲片不是從由浸漬線纏繞制成，而是從由纖維、聚合粘結(jié)劑和其它任意的配料(諸如填充劑和摩擦改良劑組成的一種混合物模壓制成。較好的表面鑲片是無(wú)石棉表面鑲片。這樣的表面鑲片最好通過灌漿成形技術(shù)(例如象我們的英國(guó)專利1604827中所描述的那樣)模壓制成。
這些溝槽的深度最好不超過模壓表面鑲片厚度的35%。
這些溝槽的布置可以是徑向布置，或是是與徑向方向成一角度地布置，但最好是徑向布置。
這些溝槽的寬度應(yīng)該在1到2.5毫米的范圍內(nèi)，特別當(dāng)表面鑲片是一個(gè)薄輕的表面鑲片，也就是表面鑲片厚度為2到3毫米的情況時(shí)，最好不超過1.5毫米。一般情況下，溝槽的寬度應(yīng)小于表面鑲片的厚度。
這些溝槽的數(shù)量一般是12到48個(gè)，最好是偶數(shù)，并相間均勻地圍繞著襯片布置。這些溝槽最好被布置成從圓環(huán)的中心孔處和圓環(huán)的外園周處交替地延伸。
按照本發(fā)明這種方式開設(shè)溝槽的表面鑲片提供了一般溝槽所具有的優(yōu)點(diǎn)。這些溝槽穿過襯片延伸，但它們并沒有象一般的模壓溝槽那樣降低襯片的破裂強(qiáng)度，因?yàn)樵诒景l(fā)明表面鑲片的各個(gè)部分，圓環(huán)寬度的一半保持著未被削弱的狀態(tài)。
本發(fā)明現(xiàn)在將只通過例子，參考附圖作更詳細(xì)的說(shuō)明。在附圖中圖1是一個(gè)平面視圖，表示了兩個(gè)帶有不同型式的慣用溝槽的表面鑲片局部;
圖2表示了一個(gè)帶有按照本發(fā)明制造的溝槽的離合器表面鑲片的平面視圖。
圖1a中表示了一個(gè)圓環(huán)形離合器表面鑲片1，在該表面鑲片1中，溝槽2穿過圓環(huán)的全部寬度。溝槽2的布置與徑向方向成一角度，并且每一個(gè)溝槽都有一個(gè)喇叭型開口端3。
在圖1b中說(shuō)明的是圓環(huán)形離合器表面鑲片4，它除了在該表面鑲片中的溝槽5外，其它類似于圖1a中所示的離合器表面鑲片，在表面鑲片4中，每一個(gè)溝槽5都有一個(gè)閉封端部6(也就是溝槽5沒有穿過圓環(huán)的邊緣延伸。
在圖1a和1b所示的兩個(gè)表面鑲片中，溝槽相對(duì)于徑向方向的角度是銳角。當(dāng)溝槽離開半徑方向傾斜時(shí)，這個(gè)角度是傾斜的較好方向。
如圖2所示，一個(gè)按照本發(fā)明的圓環(huán)形離合器表面鑲片7具有溝槽8和9。溝槽8從表面鑲片7的中心孔處徑向地向外延伸，溝槽9從表面鑲片的外園周徑向地向內(nèi)延伸，溝槽8和9圍繞圓環(huán)交錯(cuò)地布置。每一個(gè)溝槽在表面鑲片的邊緣處有一個(gè)開口端10，在接近圓環(huán)寬度的中部有一個(gè)封閉端11。
在圖2所說(shuō)明的襯片的一個(gè)實(shí)施例中表面鑲片是一個(gè)由灌漿成形技術(shù)制造的無(wú)石棉表面鑲片。該表面鑲片的全部厚度是2毫米，模壓溝槽的最大深度是0.25毫米，每一個(gè)溝槽延伸到越過圓環(huán)寬度中點(diǎn)1毫米處，每一個(gè)溝槽的寬度為1毫米。
權(quán)利要求
1.一個(gè)模壓圓環(huán)形離合器表面鑲片(如前面所說(shuō)明的表面鑲片)具有許多表面溝槽，在這些溝槽中每一個(gè)溝槽都是模壓在表面鑲片上的，并且其特征在于，每一個(gè)溝槽的延伸都不超過圓環(huán)寬度的一半，每一個(gè)溝槽的深度都不超過表面鑲片厚度的40%，這些溝槽的布置是從圓環(huán)的中心孔處和圓環(huán)的外園周處延伸。
2.一個(gè)按照權(quán)利要求
1的離合器表面鑲片，其特征在于，溝槽的深度不超過表面鑲片厚度的35%。
3.一個(gè)按照權(quán)利要求
1或2的離合器表面鑲片，其特征在于，每一個(gè)溝槽的寬度都不大于表面鑲片的厚度。
4.一個(gè)按照權(quán)利要求
1或2的離合器表面鑲片，其特征在于，溝槽的寬度在1到2.5毫米的范圍內(nèi)。
5.一個(gè)按照權(quán)利要求
4的離合器表面鑲片，其特征在于，它是一個(gè)灌漿成形的表面鑲片，厚度為2到3毫米，具有寬度在1到1.5毫米范圍內(nèi)的溝槽。
6.一個(gè)按照前述任意一權(quán)利要求
的圓環(huán)形離合器表面鑲片，其特征在于，溝槽的數(shù)目是偶數(shù)，并且圍繞著表面鑲片均勻的布置。
7.一個(gè)按照前述任意一權(quán)利要求
的圓環(huán)形離合器表面鑲片，其特征在于，溝槽的布置是交錯(cuò)地從圓環(huán)的中心孔處和圓環(huán)的外機(jī)徑處延伸的。
專利摘要
一個(gè)模壓圓環(huán)形離合器表面鑲片有許多模壓在該表面鑲片上的表面溝槽每一個(gè)溝槽的延伸大致上都不超過圓環(huán)寬度的一半，深度不超過表面鑲片厚度的40％。它或是從圓環(huán)的中心孔處延伸，或是從圓環(huán)的外圓周處延伸。
文檔編號(hào)F16D13/64GK86100154SQ86100154
公開日1986年7月9日 申請(qǐng)日期1986年1月11日
發(fā)明者羅伊·杰弗里·伊斯特 申請(qǐng)人:費(fèi)如多有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan