1.一種渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，包括動(dòng)渦旋件(1)和靜渦旋件(2)；
所述動(dòng)渦旋件(1)包括第一主體(11)，所述靜渦旋件(2)包括第二主體(21)；定義所述第一主體(11)上與所述第二主體(21)相對(duì)的表面為第一表面，所述第二主體(21)上與所述第一主體(11)相對(duì)的表面為第二表面；
所述第一表面、和/或所述第二表面處通過(guò)微弧氧化處理形成陶瓷層(3)，以減少所述動(dòng)渦旋件(1)和所述靜渦旋件(2)的工作磨損。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，
所述第一主體(11)和所述第二主體(21)均由鋁合金材料制成，所述鋁合金材料的組成成分包括(以重量百分?jǐn)?shù)計(jì))：9-14％Si、0.5-3％Cu、Mg≤1％，F(xiàn)e＞1％、Zn≤0.8％、Ni≤0.5％，其余為Al；
所述陶瓷層(3)為鋁氧化物層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的厚度為5-30μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的厚度為10-20μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的截面維氏顯微硬度不小于900HV。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面粗糙度不大于1μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面經(jīng)過(guò)拋光處理，拋光厚度為2-5μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面設(shè)置有潤(rùn)滑層(4)，所述潤(rùn)滑層(4)的表面粗糙度不大于1μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述潤(rùn)滑層(4)的厚度為5-15μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的渦旋式壓縮機(jī)組件，其特征在于，所述潤(rùn)滑層(4)為有機(jī)硅層、聚四氟乙烯層或二硫化鉬層中的一種。
11.一種渦旋式壓縮機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件。
12.一種權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：
對(duì)所述第一主體(11)的第一表面、和/或所述第二主體(21)的第二表面進(jìn)行微弧氧化處理，使所述第一表面處、和/或所述第二表面處形成所述陶瓷層(3)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，將所述第一主體(11)、和/或所述第二主體(21)置于電解液中進(jìn)行微弧氧化處理，所述電解液的組成成分包括：
磷酸鹽10-15g/L、鎢酸2-5g/L、氫氧化鈉0.2-1.5g/L、EDTA二鈉1.5-5g/L。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，進(jìn)行微弧氧化處理的反應(yīng)條件為：
電源脈沖頻率400-700Hz、脈沖占空比10-20％、電流密度2.5-6.5A/dm2、電壓300-500V、微弧氧化時(shí)間為10-30min，所使用的電解液的溫度為20-40℃。
15.根據(jù)權(quán)利要求12-14任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，還包括以下步驟：
對(duì)所述陶瓷層(3)進(jìn)行拋光，使拋光后的所述陶瓷層(3)的表面粗糙度Ra不大于1μm。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，對(duì)所述陶瓷層(3)進(jìn)行拋光的拋光厚度為2-5μm。
17.根據(jù)權(quán)利要求12-16任一項(xiàng)所述的渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法，其特征在于，當(dāng)包括所述潤(rùn)滑層(4)時(shí)，所述渦旋式壓縮機(jī)組件的制造方法還包括以下步驟：
在所述陶瓷層(3)的表面烘烤固化形成所述潤(rùn)滑層(4)；所述潤(rùn)滑層(4)為有機(jī)硅層、聚四氟乙烯層或二硫化鉬層中的一種；且使所述潤(rùn)滑層(4)的表面粗糙度不大于1μm，厚度為5-15μm。