專利名稱：一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)及控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及壓縮機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)及控制方法。
背景技術(shù)：
如圖I、圖2和圖3所示，電動(dòng)渦旋制冷壓縮機(jī)在工作狀態(tài)中內(nèi)部分為高壓腔11、中壓腔/背壓腔12、低壓腔13三個(gè)壓力腔。在定盤15與壓縮機(jī)外殼14之間，形成高壓腔11，在動(dòng)盤16與電機(jī)支架18間形成中壓腔/背壓腔12，其余內(nèi)部空間為低壓腔13。從定盤排氣口排出的油氣混合物在高壓腔11進(jìn)行油氣分離，在高壓腔11下部設(shè)置有一回油孔19，回油孔前端安裝有過濾元件，將分離出來的油通過耐磨墊17上的回油槽171回流到中壓腔/背壓腔12。電機(jī)支架18上設(shè)置有中壓腔/背壓腔12至低壓腔13的泄油通道181，耐磨 墊17上設(shè)置有連通泄油通道181的孔C，并且泄油通道181的出口處設(shè)置一單向閥182，單向閥182由鋼球、彈簧、彈簧座組成，當(dāng)中壓腔/背壓腔12與低壓腔13壓力差大于單向閥182設(shè)置壓力時(shí)，油通過單向閥182進(jìn)入低壓腔13，形成內(nèi)部油循環(huán)。上述方案在技術(shù)上是能夠?qū)崿F(xiàn)同時(shí)建立起中壓腔/背壓腔壓力(簡(jiǎn)稱背壓)且達(dá)到一定量的油的內(nèi)部潤(rùn)滑循環(huán)并維持一定的背壓的，但單向閥182的不穩(wěn)定性會(huì)導(dǎo)致壓縮機(jī)工作不穩(wěn)定，導(dǎo)致壓縮機(jī)功率過大或者壓縮不良，甚至不壓縮的嚴(yán)重后果。現(xiàn)有壓縮機(jī)啟動(dòng)并進(jìn)入正常運(yùn)行的過程啟動(dòng)時(shí)壓縮機(jī)吸氣壓力與排氣壓力相等，壓縮機(jī)內(nèi)部的三個(gè)腔壓力(低壓腔壓力Ps、中壓腔/背壓腔壓力Pb、高壓腔壓力Pd)相等，動(dòng)盤16在耐磨墊17彈力的作用下貼近定盤15，形成壓縮，高壓腔11的壓力隨之增加。這樣，Pd>Pb，壓力差的產(chǎn)生將使高壓腔11內(nèi)的油氣向中壓腔/背壓腔12流動(dòng)，并增加中壓腔/背壓腔12的壓力。在中壓腔/背壓腔12壓力達(dá)到單向閥182所設(shè)置的壓力之前，單向閥182是關(guān)閉的。動(dòng)盤16承受中壓腔/背壓腔壓力的面積Sb與動(dòng)盤16承受低壓腔壓力的面積Ss、動(dòng)盤16承受高壓腔壓力的面積Sd之間是有一定比例的，在設(shè)計(jì)上為保證動(dòng)盤16齒底面能與定15盤齒頂面良好密封，同時(shí)接觸力又不至于過大，設(shè)計(jì)上要達(dá)到的期望目標(biāo)是
A* (Sd*Pd+Ss*Ps)〈 Sb*Pb〈B* (Sd*Pd+Ss*Ps)
A、B為經(jīng)驗(yàn)系數(shù)，可取A=L I I. 2，B=L 4 I. 5 ；
在中壓腔壓力達(dá)到單向閥182所設(shè)置的壓力之后，單向閥182是動(dòng)態(tài)微開啟的，以維持單向閥兩側(cè)力的平衡。正常啟動(dòng)及運(yùn)行時(shí)，根據(jù)設(shè)計(jì)的流體節(jié)流及回路，中壓腔/背壓腔壓力Pb能滿足上述公式，壓縮機(jī)良好運(yùn)行。因結(jié)構(gòu)上的原因，需要求單向閥182的彈簧在較小的彈性變形范圍內(nèi)滿足上述關(guān)系式。但壓縮機(jī)有時(shí)需較大范圍的適應(yīng)空調(diào)系統(tǒng)工況即當(dāng)結(jié)構(gòu)固定后，Pd、Ps會(huì)隨時(shí)因系統(tǒng)的變化而變化，在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，Sd、Ss其實(shí)也是隨著嚙合的角度而變化的，在一些不太穩(wěn)定的狀況下，可能導(dǎo)致上述關(guān)系式所描述的平衡狀態(tài)被打破
當(dāng)Sd*Pd+Ss*Ps> Sb*Pb時(shí)，即動(dòng)盤16壓縮側(cè)所受力大于動(dòng)盤16背板面受力，動(dòng)盤16、定盤15將分離，導(dǎo)致兩者不能良好嚙合，高壓氣體從兩者之間的齒頂齒底間泄漏，產(chǎn)生壓縮不良或不壓縮現(xiàn)象。產(chǎn)生該現(xiàn)象的誘因有1)吸氣壓力的突然增大；2)單向閥開度失控(過大開度)。當(dāng)動(dòng)盤16壓縮側(cè)所受力遠(yuǎn)大于動(dòng)盤16背板面受力，如Sb*Pb>(l. 6^2)*(Sd*Pd+Ss*Ps)時(shí)，動(dòng)盤16將以較大壓力壓向定盤15，同時(shí)耐磨墊17 (也是彈簧片元件)與動(dòng)盤16背板面之間的摩擦力也增大，導(dǎo)致功率增大嚴(yán)重。產(chǎn)生該現(xiàn)象的誘因有單向閥開度失控(過小開度)。因此提供一種可靠的、穩(wěn)定的中壓腔/背壓腔回油量控制裝置迫在眉睫。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)及控制方法，克服現(xiàn)有技術(shù)的壓縮機(jī)因單向閥工作不穩(wěn)定導(dǎo)致壓縮機(jī)工作不穩(wěn)定，壓縮機(jī)功率過大或者壓縮不良的缺陷。
本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，包括壓縮機(jī)殼體，在該壓縮機(jī)殼體內(nèi)設(shè)置有電機(jī)支架、動(dòng)盤，在該電機(jī)支架和該動(dòng)盤之間設(shè)置有耐磨墊，在該耐磨墊上設(shè)置有連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔，在該耐磨墊上還設(shè)置有至少一個(gè)溢流孔，該溢流孔的設(shè)置位置使該動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟該溢流孔。優(yōu)選地，該溢流孔設(shè)置在該耐磨墊上的一個(gè)環(huán)狀帶內(nèi)，該環(huán)狀帶的內(nèi)圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑減去所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心距離的兩倍，該環(huán)狀帶的外圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑加上該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與該電機(jī)支架中心距離的兩倍。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該溢流孔的最大半徑設(shè)為該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與該電機(jī)支架中心的距離。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該耐磨墊的材料設(shè)為鋼片。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該耐磨墊與該電機(jī)支架之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，本方面提供一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，包括步驟
Al、在耐磨墊上設(shè)置連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔；
A2、在該耐磨墊上設(shè)置至少一個(gè)溢流孔，該溢流孔的設(shè)置位置使動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟該溢流孔。優(yōu)選地，該溢流孔設(shè)置在該耐磨墊上的一個(gè)環(huán)狀帶內(nèi)，該環(huán)狀帶的內(nèi)圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑減去所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心距離的兩倍，該環(huán)狀帶的外圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑加上該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架中心距離的兩倍。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該溢流孔的最大半徑設(shè)為該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與該電機(jī)支架中心的距離。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該耐磨墊的材料設(shè)為鋼片。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該耐磨墊與該電機(jī)支架之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙。本發(fā)明的有益效果本發(fā)明通過在耐磨墊上同時(shí)設(shè)置連通單向閥的通孔與溢流孔，在壓縮機(jī)內(nèi)部形成油循環(huán)，維持背壓腔壓力的責(zé)任被單向閥、溢流孔同時(shí)承擔(dān)。溢流孔有很好的糾錯(cuò)能力，在發(fā)生不穩(wěn)定誘因時(shí)，溢流孔能迅速消除其影響，并迅速使壓縮機(jī)回歸良好運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)，非常有利于提高壓縮機(jī)的可靠性，本發(fā)明大大推進(jìn)了渦旋壓縮機(jī)技術(shù)的進(jìn)
止/J/ o


本發(fā)明包括如下附圖
圖I為現(xiàn)有技術(shù)電動(dòng)渦旋制冷壓縮機(jī)示意圖； 圖2為現(xiàn)有技術(shù)耐磨墊示意 圖3為現(xiàn)有技術(shù)泄油通道及單向閥示意 圖4為本發(fā)明耐磨墊示意 圖5為本發(fā)明動(dòng)盤示意 圖6為本發(fā)明動(dòng)盤剖視 圖7為本發(fā)明耐磨墊上的環(huán)狀帶設(shè)置示意 圖8為本發(fā)明耐磨墊與電機(jī)支架之間的間隙設(shè)置示意圖。
具體實(shí)施例方式下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明
如圖I、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7和圖8所示，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，包括壓縮機(jī)殼體14,在壓縮機(jī)殼體14內(nèi)設(shè)置有電機(jī)支架18、動(dòng)盤16,在電機(jī)支架18和動(dòng)盤16之間設(shè)置有耐磨墊17，在耐磨墊17上設(shè)置有連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔C，在耐磨墊17上還設(shè)置有至少一個(gè)溢流孔172，溢流孔172的設(shè)置位置使動(dòng)盤16在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟溢流孔172。優(yōu)選地，溢流孔172設(shè)置在耐磨墊17上的一個(gè)環(huán)狀帶173內(nèi)，環(huán)狀帶173的內(nèi)圈圓心為耐磨墊17的中心，其直徑為動(dòng)盤16支撐面的外徑減去動(dòng)盤16的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架18中心距離R的兩倍，環(huán)狀帶173的外圈圓心為耐磨墊17的中心，其直徑為動(dòng)盤16支撐面的外徑加上動(dòng)盤16的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架18中心距離R的兩倍。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，溢流孔172的最大半徑設(shè)為動(dòng)盤16的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架18中心的距離R。耐磨墊17的材料設(shè)為鋼片。耐磨墊17與電機(jī)支架18之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙t。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，包括步驟
Al、在耐磨墊上設(shè)置連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔；
A2、在該耐磨墊上設(shè)置至少一個(gè)溢流孔，該溢流孔的設(shè)置位置使動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟該溢流孔。該溢流孔設(shè)置在該耐磨墊上的一個(gè)環(huán)狀帶內(nèi)，該環(huán)狀帶的內(nèi)圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑減去動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架中心距離的兩倍，該環(huán)狀帶的外圈圓心為該耐磨墊的中心，其直徑為該動(dòng)盤支撐面的外徑加上該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架中心距離的兩倍。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該溢流孔的最大半徑設(shè)為該動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與該電機(jī)支架中心的距離。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，該耐磨墊的材料設(shè)為鋼片。該耐磨墊與該電機(jī)支架之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙。本發(fā)明在耐磨墊(耐磨墊同時(shí)作為動(dòng)盤與支架間的耐磨元件、以及動(dòng)盤貼向定盤的一個(gè)彈簧片元件)上增加一個(gè)溢流孔，且該溢流孔需滿足在動(dòng)盤回轉(zhuǎn)一周過程中間斷地覆蓋、開啟。溢流孔的直徑越大，開啟的時(shí)間越短。中壓腔的中壓潤(rùn)滑油流體經(jīng)過溢流孔流入低壓腔，與單向閥的流向一致。設(shè)置該孔的好處是
I當(dāng)Sd*Pd+Ss*Ps> Sb*Pb時(shí)，即動(dòng)盤壓縮側(cè)所受力大于動(dòng)盤背板面受力，動(dòng)定盤將分 離，動(dòng)盤向支架方向貼合時(shí)耐磨墊與電機(jī)支架間的間隙被消除，溢流孔為關(guān)閉狀態(tài)，背壓腔能迅速重新形成，建立平衡關(guān)系；
2當(dāng)動(dòng)盤壓縮側(cè)所受力較多的大于動(dòng)盤背板面受力，如Sb*Pb> (I. 6^2) *(Sd*Pd+Ss*Ps )時(shí),動(dòng)盤將以較大壓力壓向定盤，耐磨墊與電機(jī)支架間的間隙為最大，即溢流孔開度最大，能迅速降低背壓腔的壓力，建立平衡關(guān)系。本領(lǐng)域技術(shù)人員不脫離本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和精神，可以有多種變形方案實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，以上所述僅為本發(fā)明較佳可行的實(shí)施例而已，并非因此局限本發(fā)明的權(quán)利范圍，凡運(yùn)用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變化，均包含于本發(fā)明的權(quán)利范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，包括壓縮機(jī)殼體，在所述壓縮機(jī)殼體內(nèi)設(shè)置有電機(jī)支架、動(dòng)盤，在所述電機(jī)支架和所述動(dòng)盤之間設(shè)置有耐磨墊，在所述耐磨墊上設(shè)置有連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔，其特征在于在所述耐磨墊上還設(shè)置有至少一個(gè)溢流孔，所述溢流孔的設(shè)置位置使所述動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟所述溢流孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，其特征在于所述溢流孔設(shè)置在所述耐磨墊上的一個(gè)環(huán)狀帶內(nèi)，所述環(huán)狀帶的內(nèi)圈圓心為所述耐磨墊的中心，其直徑為所述動(dòng)盤支撐面的外徑減去所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心距離的兩倍，所述環(huán)狀帶的外圈圓心為所述耐磨墊的中心，其直徑為所述動(dòng)盤支撐面的外徑加上所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心距離的兩倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，其特征在于所述溢流孔的最大半徑設(shè)為所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，其特征在于所述耐磨墊的材料設(shè)為鋼片。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)，其特征在于所述耐磨墊與所述電機(jī)支架之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙。
6.一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，其特征在于，包括步驟 Al、在耐磨墊上設(shè)置連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔； A2、在所述耐磨墊上設(shè)置至少一個(gè)溢流孔，所述溢流孔的設(shè)置位置使動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地覆蓋和開啟所述溢流孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，其特征在于所述溢流孔設(shè)置在所述耐磨墊上的一個(gè)環(huán)狀帶內(nèi)，所述環(huán)狀帶的內(nèi)圈圓心為所述耐磨墊的中心，其直徑為所述動(dòng)盤支撐面的外徑減去所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心距離的兩倍，所述環(huán)狀帶的外圈圓心為所述耐磨墊的中心，其直徑為所述動(dòng)盤支撐面的外徑加上所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與電機(jī)支架中心距離的兩倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，其特征在于所述溢流孔的最大半徑設(shè)為所述動(dòng)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述電機(jī)支架中心的距離。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，其特征在于所述耐磨墊的材料設(shè)為鋼片。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的方法，其特征在于所述耐磨墊與所述電機(jī)支架之間至少部分區(qū)域設(shè)置有間隙。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種實(shí)現(xiàn)雙通道背壓腔回油量控制的壓縮機(jī)及控制方法，壓縮機(jī)包括壓縮機(jī)殼體，在所述壓縮機(jī)殼體內(nèi)設(shè)置有電機(jī)支架、動(dòng)盤，在所述電機(jī)支架和所述動(dòng)盤之間設(shè)置有耐磨墊，在所述耐磨墊上設(shè)置有連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔，在所述耐磨墊上還設(shè)置有至少一個(gè)溢流孔，所述溢流孔的設(shè)置位置使所述動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地對(duì)所述溢流孔覆蓋和開啟?？刂品椒òú襟EA1、在耐磨墊上設(shè)置連通泄油通道內(nèi)單向閥的通孔；A2、在所述耐磨墊上設(shè)置至少一個(gè)溢流孔，所述溢流孔的設(shè)置位置使動(dòng)盤在旋轉(zhuǎn)時(shí)可以間斷地對(duì)所述溢流孔覆蓋和開啟。
文檔編號(hào)F04C29/02GK102705242SQ20121021696
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月28日
發(fā)明者陳冬長(zhǎng) 申請(qǐng)人:陳冬長(zhǎng)