技術特征：

技術總結(jié)
本發(fā)明公開了一種基于陽極氧化多孔金屬基表面電沉積納米晶功能鍍層的方法，所述方法包括依次對金屬基體表面進行機械拋光、熱堿液去油脂、陽極氧化、Pd2+?Sn2+敏化活化、Ni?P化學鍍及脈沖電沉積納米晶功能鍍層。本發(fā)明所述方法利用化學鍍Ni?P薄膜作為過渡層，利于后續(xù)電沉積多種鍍層，如：Ni、Cu，且非晶態(tài)的組織結(jié)構有助于細化后續(xù)鍍層的晶粒尺寸；所述方法中低溫的時效處理，有利于緩解Ni?P薄膜的生長應力，避免了開裂的傾向；本發(fā)明所述方法適用于純鈦、鋁或鎂等多種活潑金屬的表面改性；以化學鍍Ni?P薄膜作為過渡層來電沉積大厚度納米晶鍍層，采用劃痕儀和截面觀察的方法驗證了界面結(jié)合力良好，可用于一般低載荷抗磨條件下的工程表面材料。

技術研發(fā)人員：周小衛(wèi)
受保護的技術使用者：江蘇科技大學
技術研發(fā)日：2017.07.12
技術公布日：2017.11.03