本發(fā)明涉及PCB板制造工藝中的電鍍環(huán)節(jié),具體涉及一種用于PCB板電鍍銅的工藝方法。
背景技術(shù):
PCB(Printed Circuit Board),中文名稱為印制線路板,在電子元器件中用于電子零部件之間形成預(yù)定電路的連接,起中繼傳輸?shù)淖饔?,是電子產(chǎn)品的關(guān)鍵電子互連件。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,世界印制線路板(PCB)行業(yè)也得到快速的發(fā)展。2011年,中國PCB產(chǎn)值增長率為9.2%,占全球的總產(chǎn)值的39.8%,達(dá)到230億美元。因此中國的PCB板還有很大的發(fā)展上升空間。
在PCB板的制造工藝中,有很多工序都會涉及到電鍍,如化學(xué)鍍銅、整板電鍍、圖像電鍍、加厚鍍以及電鍍錫等,這些電鍍過程在PCB生產(chǎn)工藝中起到非常重要的作用,影響PCB板的導(dǎo)電性能。而電鍍過程是在電鍍槽內(nèi)進(jìn)行,因此設(shè)計(jì)出符合工藝要求、環(huán)境友好,以及保證受鍍件均勻電鍍的電鍍槽是非常重要的。就目前的電鍍槽槽體而言,由于鍍件的尺寸有時(shí)會小于陽極板的尺寸,因此,可能導(dǎo)致電場作用不均勻,使得鍍件上下各部分鍍層的厚度不均勻,尤其是工件上下兩端與中間的厚度不一致,將導(dǎo)致電鍍件出現(xiàn)品質(zhì)問題;有時(shí)候由于電場中各個(gè)電鍍位置的不同,從而電場作用也不相同,有可能會導(dǎo)致電鍍不均勻現(xiàn)象的發(fā)生,致使電鍍層厚度不均勻。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種用于PCB板電鍍銅的工藝方法。
本發(fā)明可通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
一種用于PCB板電鍍銅的工藝方法,工藝方法主要分成以下步驟:1)采用去毛刺機(jī)去毛刺,包括進(jìn)板、磨板、高壓水洗、烘干再出板;2)沉銅,包括上板、膨松、第一次水洗、去鉆污、第二次水洗、預(yù)中和、第三次水洗、中和、超聲波水洗、除油、后除油、第四次水洗、輕蝕、第五次水洗、預(yù)浸、活化、加速、第六次水洗、化學(xué)沉銅、酸洗、第七次水洗;3)加厚銅,包括上板、除油、水洗、酸浸、加厚鍍、高位水洗、下板。
進(jìn)一步地,步驟2)中的化學(xué)沉銅時(shí)伴隨電震、氣震這兩種震動的任意一種或兩種。
進(jìn)一步地,步驟(3)中的加厚鍍是在電鍍槽內(nèi)進(jìn)行,電鍍槽體的上端是陽極,陰極與陽極的垂直距離為240mm。
進(jìn)一步地,所述的電鍍槽陰極和陽極的面積可調(diào)節(jié)。
進(jìn)一步地,所述的電鍍槽內(nèi)加入了電鍍藥水,藥水成分包括硫酸銅、稀硫酸、稀鹽酸、光亮劑和活化劑Pd。
進(jìn)一步地,所述的光亮劑為PM-501,恒僑ST-2000系列中的任一種或兩種。
進(jìn)一步地,所述的藥水成分中硫酸銅:稀硫酸:稀鹽酸:光亮劑:Pd的摩爾比為2:1:3:0.5:0.5。
本發(fā)明取得的有益效果為:1)前處理中的去毛刺可以保證板面的平整,有利于后續(xù)工藝操作的進(jìn)行;2)沉銅中加入震動裝置,震動加強(qiáng)可以明顯改善孔無銅的情況,利于沉銅更加均勻;3)在加厚銅的環(huán)節(jié),通過電鍍槽體的特殊設(shè)計(jì),可調(diào)節(jié)的陰陽極面積,不僅可以保證電鍍藥水的活性,還利于電鍍的均勻性;4)通過電鍍藥水和陰陽極面積的調(diào)整,獲得最佳的電鍍均勻性和電鍍效率。
具體實(shí)施方式
下面用實(shí)施例對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作出說明。
實(shí)施例
一種用于PCB板電鍍銅的工藝方法,采用的是垂直連續(xù)式電鍍操作,工藝方法主要分成以下步驟:1)采用去毛刺機(jī)去毛刺,以保證板面的平整,有利于后續(xù)工藝操作的進(jìn)行,去毛刺的過程包括進(jìn)板、磨板、高壓水洗、烘干再出板;2)沉銅,先上板,再膨松孔內(nèi)樹脂、降低樹脂聚合物間的鍵合能,使其形成疏松結(jié)構(gòu),以利于高錳酸鉀咬蝕成微觀粗糙的表面,接著第一次水洗去除雜質(zhì),擦拭去除鉆污、再進(jìn)行第二次水洗、預(yù)中和、第三次水洗、中和、進(jìn)一步超聲波水洗使雜物去除徹底,除油以清潔板面,調(diào)整孔壁樹脂殘留的負(fù)電性基團(tuán),后除油、第四次水洗、利用稀硫酸將底銅輕蝕掉0.7um,使底銅粗燥、表面積增大,從而增強(qiáng)底銅與化學(xué)銅層的結(jié)合力,第五次水洗、預(yù)浸、活化、加速以消散不實(shí)的鈀團(tuán)和鈀離子及原子等,再進(jìn)行第六次水洗,接著開啟震動裝置,使震動頻率緩慢增大,再進(jìn)行化學(xué)沉銅,酸洗、第七次水洗;3)加厚銅,包括上板、除油、水洗、酸浸、用陰極與陽極的垂直距離為240mm,且可以根據(jù)實(shí)際需要調(diào)節(jié)電鍍槽陽極和陰極的面積的電鍍槽來進(jìn)行加厚鍍,電鍍槽內(nèi)加入的藥水中含0.2mol硫酸銅、0.1mol的稀硫酸、0.3mol的稀鹽酸和光亮劑PM-5010.05mol以及0.05mol的Pd活化劑,接著高位水洗去除雜質(zhì),最后下板。
通過上述方法可以使鍍銅均勻性達(dá)到93%。
以上所述僅為本發(fā)明的最佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。